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EUV光刻技術(shù) - 即將在芯片上繪制微小特征的下一代技術(shù) – 原來是預(yù)計在2012年左右投產(chǎn)。但是幾年過去了,EUV已經(jīng)遇到了一些延遲,將技術(shù)從一個節(jié)點推向下一個階段,本單元詳細介紹了EUV光刻機,EUV光刻機技術(shù)的技術(shù)應(yīng)用,EUV光刻機的技術(shù)、市場問題,國產(chǎn)euv光刻機發(fā)展等內(nèi)容。
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因此除了臺積電、三星及英特爾等晶圓廠爭搶EUV,后續(xù)包含美光、SK海力士也需要大量EUV設(shè)備。乘著5G普及的“順風(fēng)”,半導(dǎo)體微縮化需求逐步高漲,半導(dǎo)體廠...
對于芯片制造有一定了解的朋友都知道,想要制造芯片是離不開EUV光刻機的,但中國并沒有達到能獨立制造EUV光刻機的地步。所以很多時候,中國制造芯片都需要依...
今天,英特爾新任首席執(zhí)行官Pat Gelsinger在一場演講中概述了在對英特爾未來幾年的愿景。在題為“英特爾釋放:未來
盡管消息稱中芯國際14nm及以上制程的客服、備品與機臺等相關(guān)出口申請獲得許可,但10nm以下仍被卡脖子,尤其是已經(jīng)技術(shù)開發(fā)完整只等EUV光刻機進場的7nm。
解讀ASML澄清中芯國際購買協(xié)議事件和EUV與DUV的差異性
近日,中芯國際與ASML達成12億美元交易購買晶圓生產(chǎn)設(shè)備的消息引發(fā)關(guān)注。針對雙方此次合作,有媒體報道稱“除了 EUV 光刻機,中芯國際幾乎可以買到其他...
為什么這很重要?在引入EUV系統(tǒng)之前,最先進的IC是使用DUV浸沒式光刻系統(tǒng)制造的。這些DUV系統(tǒng)在193nm的光波長下無法到達7nm節(jié)點,因此EUV取...
清華團隊實驗演示穩(wěn)態(tài)微聚束成功, 有望為EUV光刻光源提供新技術(shù)路線
實驗展示了如何結(jié)合現(xiàn)有兩類主要加速器光源——同步輻射光源及自由電子激光——的特性。同步輻射設(shè)備發(fā)射的光子具有高重復(fù)率,但由于它們的時間不相干性,功率相對...
在芯片制造的產(chǎn)業(yè)鏈中,光刻機是必不可少的精密設(shè)備,是集成電路芯片制造中最復(fù)雜和關(guān)鍵的工藝步驟。“我國EUV光刻機的自主研發(fā)還有很長的路要走,基于SSMB...
3月3日晚間,中芯國際在港交所公告,根據(jù)批量采購協(xié)議已于2020年3月16日至2021年3月2日的12個月期間,就購買阿斯麥產(chǎn)品與阿斯麥集團簽訂購買單,...
三星一方面在積極向唯一的EUV光刻機廠商ASML爭取訂單,另外一方面也在增資為EUV產(chǎn)業(yè)鏈輸血。
EUV光刻機,一直是中國芯片制造無法進一步升級的掣肘。去年9月份,時任中國科學(xué)院院長白春禮公開表態(tài)稱,將集中精力攻克光刻機難題。不到半年時間,中國科學(xué)家...
由于西方的禁運,中國芯片制造業(yè)無法得到EUV設(shè)備。但是全球能使用EUV的邏輯工藝制程制造商僅只有三家,分別是臺積電、三星及英特爾。
在ISSCC 2021國際固態(tài)電路會議上,臺積電聯(lián)席CEO劉德音公布了該公司的最新工藝進展情況,指出3nm工藝超過預(yù)期,進度將會提前。 不過劉德音沒有公...
Lasertec:全球唯一EUV光刻制造測試設(shè)備制造商
在芯片制造過程中,任何一點小瑕疵都可能造成整批芯片的報廢。因此,這一過程中晶圓監(jiān)測必不可少,可以保證芯片的良品率和控制成本。
SK海力士M16新廠竣工 將首次使用EUV光刻機生產(chǎn)
存儲芯片廠商SK海力士宣布,其公司位于韓國首爾南部利川市的M16新廠已經(jīng)竣工,SK海力士將首次使用極紫外輻射(EUV)光刻機在生產(chǎn)存儲芯片。SK海力士經(jīng)...
ASML宣布了一項合作成果:在印刷24nm節(jié)距線方面取得突破
本周在SPIE高級光刻會議上,世界領(lǐng)先的納米電子和數(shù)字技術(shù)研究與創(chuàng)新中心IEMC與世界領(lǐng)先的半導(dǎo)體光刻設(shè)備制造商ASML宣布了一項合作成果。在印刷24n...
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