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光刻技術(shù)

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隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展，光刻技術(shù)傳遞圖形的尺寸限度縮小了2～3個(gè)數(shù)量級(jí)（從毫米級(jí)到亞微米級(jí)），已從常規(guī)光學(xué)技術(shù)發(fā)展到應(yīng)用電子束、 X射線、微離子束、激光等新技術(shù)；使用波長(zhǎng)已從4000埃擴(kuò)展到 0.1埃數(shù)量級(jí)范圍。光刻技術(shù)成為一種精密的微細(xì)加工技術(shù)。

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光刻技術(shù)技術(shù)

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KrF光刻膠是指利用248nm KrF光源進(jìn)行光刻的光刻膠。248nmKrF光刻技術(shù)已廣泛應(yīng)用于0.13μm工藝的生產(chǎn)中,主要應(yīng)用于150 , 200...

2023-11-29 標(biāo)簽：集成電路 pcb 光刻技術(shù) 1008 0

激光塑料焊接技術(shù)

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ChatGPT是怎么看EUV光刻的呢？

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光刻工藝中的測(cè)量標(biāo)記

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CMP工藝影響下的版圖優(yōu)化

2023-06-20 標(biāo)簽：集成電路工藝 CMP 897 0

電子束光刻技術(shù)實(shí)現(xiàn)對(duì)納米結(jié)構(gòu)特征的精細(xì)控制

電子束光刻技術(shù)使得對(duì)構(gòu)成多種納米技術(shù)基礎(chǔ)的納米結(jié)構(gòu)特征實(shí)現(xiàn)精細(xì)控制成為可能。納米結(jié)構(gòu)制造與測(cè)量的研究人員致力于提升納米尺度下的光刻精度，并開(kāi)發(fā)了涵蓋從光...

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3D NAND沉積技術(shù)的特點(diǎn)及挑戰(zhàn)

2023-06-12 標(biāo)簽：集成電路 NAND 3D 856 0

晶圓代工廠如何突破物理極限提升光刻技術(shù)？

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2023-06-27 標(biāo)簽：摩爾定律晶圓代工光刻技術(shù) 746 0

集成電路制造工藝中的測(cè)量方法及特點(diǎn)

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基于機(jī)器學(xué)習(xí)的逆向光刻技術(shù)

2023-06-29 標(biāo)簽：集成電路機(jī)器學(xué)習(xí)光刻技術(shù) 730 0

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2025-05-21 標(biāo)簽：工藝制造納米 618 0

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面向光刻的設(shè)計(jì)規(guī)則建立及優(yōu)化

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詳談X射線光刻技術(shù)

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2025-05-09 標(biāo)簽：工藝 X射線光刻技術(shù) 278 0

自對(duì)準(zhǔn)雙重圖案化技術(shù)的優(yōu)勢(shì)與步驟

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掃描電鏡在微納加工中的應(yīng)用

本文是A. N. BROERS關(guān)于掃描電鏡在微納加工中應(yīng)用的研究回顧，重點(diǎn)記錄了他從1960年代開(kāi)始參與電子束加工技術(shù)開(kāi)發(fā)的歷程。文章詳細(xì)記錄了EBL技...

2025-06-20 標(biāo)簽：過(guò)濾器電子束光刻技術(shù) 178 0

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