半導(dǎo)體蝕刻工藝科普
過(guò)度蝕刻暴露硅晶圓表面可能會(huì)導(dǎo)致表面粗糙。當(dāng)硅表面在HF過(guò)程中暴露于OH離子時(shí),硅表面可能會(huì)變得粗糙....

晶圓制造良率限制因素簡(jiǎn)述(1)
下圖列出了一個(gè)11步工藝,如第5章所示。典型的站點(diǎn)良率列在第3列,累積良率列在第5列。對(duì)于單個(gè)產(chǎn)品,....

淺談?dòng)绊懢A分選良率的因素(2)
在晶圓制造良率部分討論的工藝變化會(huì)影響晶圓分選良率。在制造區(qū)域,通過(guò)抽樣檢查和測(cè)量技術(shù)檢測(cè)工藝變化。....

淺談?dòng)绊懢A分選良率的因素(1)
制造后,晶圓被送到晶圓分選測(cè)試儀。在測(cè)試期間,每個(gè)芯片都會(huì)進(jìn)行電氣測(cè)試,以檢查設(shè)備規(guī)范和功能。每個(gè)電....

晶圓制造良率限制因素簡(jiǎn)述(2)
硅晶圓相對(duì)容易處理,并且良好的實(shí)踐和自動(dòng)設(shè)備已將晶圓斷裂降至低水平。然而,砷化鎵晶圓并不是那么堅(jiān)韌,....

半導(dǎo)體工藝之生產(chǎn)力和工藝良率
晶圓實(shí)際被加工的時(shí)間可以以天為單位來(lái)衡量。但由于在工藝站點(diǎn)的排隊(duì)以及由于工藝問(wèn)題導(dǎo)致的臨時(shí)減速,晶圓....

晶圓制造和封裝之影響良率的主要工藝和材料因素(一)
晶圓制造和封裝是一個(gè)極其漫長(zhǎng)和復(fù)雜的過(guò)程,涉及數(shù)百個(gè)要求嚴(yán)格的步驟。這些步驟從未每次都完美執(zhí)行,污染....

半導(dǎo)體行業(yè)之晶圓制造與封裝概述(四)
有許多單獨(dú)的模式處理步驟,這些處理步驟標(biāo)識(shí)了器件的數(shù)量、器件的具體結(jié)構(gòu),器件中堆疊層的組合方式,并且....

半導(dǎo)體行業(yè)之晶圓制造與封裝概述(三)
電路設(shè)計(jì)是制造微芯片的第一步。電路設(shè)計(jì)人員首先會(huì)從設(shè)計(jì)電路的單元功能圖開(kāi)始,如邏輯圖中所示的這樣。

半導(dǎo)體行業(yè)之晶圓制造與封裝概述(二)
下圖中描述了一個(gè)中等規(guī)模集成(MSI)/雙極顯微照片集成電路。選擇整合的水平,以便一些表面細(xì)節(jié)可以看....

半導(dǎo)體行業(yè)中的化學(xué)機(jī)械拋光技術(shù)
最后的拋光步驟是進(jìn)行化學(xué)蝕刻和機(jī)械拋光的結(jié)合,這種形式的拋光稱為化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)。首先要做的事....

半導(dǎo)體行業(yè)之晶體生長(zhǎng)和硅片準(zhǔn)備(六)
一旦晶體在切割塊上被定向了,我們就可以沿著切割塊的這一根軸線打磨出一個(gè)平面或缺口(具體可以見(jiàn)下圖所示....

半導(dǎo)體行業(yè)之晶體生長(zhǎng)和硅片準(zhǔn)備(五)
在晶體生長(zhǎng)的過(guò)程中,由于某些條件的引入將會(huì)導(dǎo)致結(jié)構(gòu)缺陷的生成。

半導(dǎo)體行業(yè)之晶體生長(zhǎng)和硅片準(zhǔn)備(四)
浮區(qū)晶體生長(zhǎng)是本文所解釋的幾個(gè)過(guò)程之一,這項(xiàng)關(guān)鍵性的技術(shù)是在歷史早期發(fā)展起來(lái)的技術(shù),至今仍用于特殊用....

半導(dǎo)體行業(yè)之晶體生長(zhǎng)和硅片準(zhǔn)備(二)
晶體材料可能有兩層原子結(jié)構(gòu)。首先是原子以特定的形狀排列在單個(gè)晶胞的特定的點(diǎn)上。

半導(dǎo)體行業(yè)之晶體生長(zhǎng)和硅片準(zhǔn)備(一)
在接下來(lái)的一個(gè)章節(jié)里面,我們將主要介紹用砂子制備半導(dǎo)體級(jí)硅的方法,以及后續(xù)如何將其轉(zhuǎn)化為晶體和晶圓片....

半導(dǎo)體行業(yè)之半導(dǎo)體材料特性(十一)
另一個(gè)重要方面是壓力。壓強(qiáng),作為一種物質(zhì)的基本性質(zhì),通常是用于液體和氣體物質(zhì)狀態(tài)的描述量。

半導(dǎo)體材料特性分析
書接上節(jié),常見(jiàn)的物質(zhì)的第四種自然狀態(tài)是等離子體狀態(tài)。我們比較熟知的恒星天體就是等離子體態(tài)的一個(gè)例子。....

簡(jiǎn)單認(rèn)識(shí)半導(dǎo)體材料
當(dāng)我們想要描述一個(gè)原子的結(jié)構(gòu)時(shí),每次繪制下圖所示的這樣的圖表時(shí)都不是非常的方便。更常見(jiàn)的做法是寫出分....

淺談半導(dǎo)體材料的特性
硅/鍺原子的間距比普通硅原子的更寬。在沉積的過(guò)程中,硅原子伸展到與SI/Ge原子對(duì)齊,使硅層染色。電....
半導(dǎo)體行業(yè)之半導(dǎo)體材料特性(七)
盡管有這些優(yōu)點(diǎn),但是砷化鎵材料仍不能取代硅材料進(jìn)而變成主流的半導(dǎo)體材料。原因在于我們必須要在實(shí)際的材....

半導(dǎo)體行業(yè)之半導(dǎo)體材料特性(六)
鍺和硅是兩種基本的半導(dǎo)體。世界上第一個(gè)晶體管是由鍺材料制成的,作為固態(tài)電路時(shí)代的最初的一個(gè)標(biāo)志。

半導(dǎo)體行業(yè)之半導(dǎo)體材料特性(四)
本征態(tài)的半導(dǎo)體材料在制作固態(tài)器件時(shí)是無(wú)用的,因?yàn)樗鼪](méi)有自由移動(dòng)的電子或者空穴,所以不能導(dǎo)電。

摻雜半導(dǎo)體的電阻率講解
本征態(tài)的半導(dǎo)體材料在制作固態(tài)器件時(shí)是無(wú)用的,因?yàn)樗鼪](méi)有自由移動(dòng)的電子或者空穴,所以不能導(dǎo)電。然而,通....
