5月7日，至純科技發布了公開發行A股可轉換公司債券預案，擬發行可轉債規模不超過人民幣 35,600 萬元（含 35,600 萬元），本次發行募集資金在扣除發行費用后的凈額用于投資半導體濕法設備制造項目以及晶圓再生基地項目。

半導體濕法設備制造項目

據披露，半導體濕法設備制造項目的建設周期為 2 年，實施主體為合肥至匯半導體應用技術有限公司（以下簡稱“合肥至匯”），合肥至匯系公司的全資子公司，內部投資收益率（稅后）為 20.39%，稅后投資回收期為 5.30 年，具有較高的經濟效益。

半導體濕法設備制造項目的投資總額為 18,000.00 萬元，其中建設投資為 15,627.64 萬元，鋪底流動資金為 2,372.36 萬元。建設內容主要包括生產車間建設及設備 購置等。項目建成后，主要開展批次式半導體濕法清洗設備和單片式半導體濕法 清洗設備的生產制造。項目達產后，至純科技將實現年產批次式半導體濕法清洗設備 30 臺，單片式半導體濕法清洗設備 10 臺的生產能力。

晶圓再生基地項目

晶圓再生基地項目的建設周期為 2 年，實施主體為合肥至微半導體有限公司，內部投資收益率（稅后）為 20.57%，稅后投資回收期為 5.31 年，具有較高的經濟效益。

晶圓再生基地項目的投資總額為 32,000.00 萬元，其中建設投資 27,382.63 萬元，鋪底流 動資金 4,617.37 萬元。建設內容主要包括生產車間建設及設備購置。本項目建成后，主要開展再生晶圓的加工服務。本項目達產后，公司將實現年產 12 英寸硅再生晶圓 168 萬片的產出能力。

至純科技表示，公司較早的洞察到半導體產業的巨大發展機遇，基于高純工藝系統領域的優勢， 于 2015 年開始濕法工藝設備的研發，于 2016 年成立院士工作站，并于 2017 年 成立半導體濕法事業部，致力于打造高端濕法設備制造開發平臺。目前，公司已 形成了以 Ultron 作為本土品牌的槽式濕法清洗設備（B200，B300）和單晶圓濕 法清洗設備（S300）系列，在國內半導體設備制造領域建立了一定的市場知名度。

在晶圓再生領域，至純科技已經擁有晶圓再生的部分核心技術，具有行業主流的雙面拋光及邊緣拋光能力，通過了解、 分析客戶的實際需求，進一步發展完善再生晶圓的技術與處理流程，迎合未來國內先進晶圓廠的晶圓再生需求變化趨勢。

此外，公司本次公開發行可轉債募集資金的使用將有利于吸引優秀人才的加盟，有利于推進先進技術的研發，通過業務規模擴張與技術升級之間的良性協同，增強公司在濕法設備制造領域的市場競爭力，提升國內半導體設備制造的國產化率。