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行芯科技揭示先進工藝3DIC Signoff破局之道

行芯PHLEXING ? 來源:行芯PHLEXING ? 2025-06-12 14:22 ? 次閱讀

在當下3DIC技術作為提升芯片性能和集成度的重要路徑,正面臨著諸多挑戰,尤其是Signoff環節的復雜性問題尤為突出。此前,6月6日至8日,由中國科學院空天信息創新研究院主辦的“第四屆電子與信息前沿學術會議”上,行芯科技CEO賀青博士基于最近與Top設計公司合作成功流片的先進工藝3DIC項目經驗,發表了題為《面向3DIC的Signoff挑戰與行芯科技創新策略》的演講,為行業帶來了深刻的技術洞察。

賀青博士在演講中指出,Face-to-Face等先進堆疊形式雖能顯著提升芯片性能,但也使得Signoff技術難度呈指數級增長。3DIC Signoff不僅涉及物理驗證及簽核的復雜流程,還需應對復合Die引起的Coupling RC、SI、PI等新難題,以及電、熱、力等多物理耦合帶來的新挑戰。

為了應對挑戰,行芯科技自研了業內首個多Die并行提取Face-to-Face晶圓堆棧設計中的寄生參數解決方案。通過高精度的跨層芯片電容提取與網表仿真驗證,確保3DIC芯片在Signoff環節的數據基石,并從SI、PI、Power、Thermal等多維度為3DIC設計提供全方位簽核驗證。同時,行芯科技將電源網絡設計、功耗分析等環節前置踐行3DIC Shift Left設計方法學,進一步提升芯片設計的效率與準確性。

EDA斷供的背景下,行芯科技將繼續與學術界的專家學者保持緊密合作,共同推動我國集成電路產業的技術自主創新與自主可控發展。

聲明:本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內容侵權或者其他違規問題,請聯系本站處理。 舉報投訴
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原文標題:第四屆電子與信息前沿學術會議丨行芯科技揭示先進工藝3DIC Signoff破局之道

文章出處:【微信號:Phlexing,微信公眾號:行芯PHLEXING】歡迎添加關注!文章轉載請注明出處。

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