文章來(lái)源：學(xué)習(xí)那些事

原文作者：小陳婆婆

本文介紹了快速熱處理技術(shù)的原理、特點(diǎn)與應(yīng)用。

在納米尺度集成電路制造領(lǐng)域，快速熱處理（RTP）技術(shù)已成為實(shí)現(xiàn)器件性能突破與工藝優(yōu)化的核心工具。相較于傳統(tǒng)高溫爐管工藝，RTP通過(guò)單片式作業(yè)模式與精準(zhǔn)的熱過(guò)程控制，有效解決了先進(jìn)制程中熱預(yù)算控制、超淺結(jié)形成及工藝一致性的技術(shù)痛點(diǎn)。

快速熱處理工藝機(jī)理與特點(diǎn)

一、技術(shù)演進(jìn)背景與核心需求

隨著半導(dǎo)體工藝向5nm及以下節(jié)點(diǎn)推進(jìn)，器件特征尺寸持續(xù)縮小與300mm乃至450mm晶圓尺寸擴(kuò)展成為并行趨勢(shì)。這一技術(shù)演進(jìn)對(duì)熱處理工藝提出雙重挑戰(zhàn)：

超淺結(jié)形成：源漏區(qū)雜質(zhì)分布需同時(shí)滿足低薄層電阻與亞10nm結(jié)深要求，傳統(tǒng)爐管工藝因升溫速率不足（<50℃/s）導(dǎo)致雜質(zhì)橫向擴(kuò)散加劇，難以維持陡直度；

熱預(yù)算限制：大尺寸晶圓在爐管退火中存在徑向溫度梯度（>10℃/cm），邊緣過(guò)沖效應(yīng)顯著，制約了工藝窗口的擴(kuò)展。

二、快速熱處理技術(shù)機(jī)理與實(shí)現(xiàn)路徑

RTP技術(shù)通過(guò)輻射加熱機(jī)制實(shí)現(xiàn)晶圓級(jí)瞬時(shí)熱沖擊，其技術(shù)特征可歸納為：

超快溫變速率：采用高功率鹵素?zé)絷嚮蚣す饧訜幔郎?降溫速率突破250℃/s，遠(yuǎn)超傳統(tǒng)爐管的5-10℃/s；

精準(zhǔn)熱控制：嵌入式紅外測(cè)溫系統(tǒng)與閉環(huán)反饋控制，實(shí)現(xiàn)片內(nèi)溫度均勻性±1℃（3σ），支持400-1400℃寬溫區(qū)動(dòng)態(tài)調(diào)控；

低熱應(yīng)力設(shè)計(jì)：石英支架三點(diǎn)支撐結(jié)構(gòu)最小化熱接觸阻抗，配合真空或低壓環(huán)境，消除對(duì)流散熱干擾。

三、與傳統(tǒng)爐管工藝的性能對(duì)比

四、典型工藝及應(yīng)用場(chǎng)景

超淺結(jié)雜質(zhì)激活：針對(duì)超低能離子注入（<1keV），RTP通過(guò)毫秒級(jí)退火實(shí)現(xiàn)雜質(zhì)電激活率>95%，同時(shí)將瞬時(shí)增強(qiáng)擴(kuò)散（TED）效應(yīng)抑制在2nm以內(nèi)，有效緩解短溝道效應(yīng)。

金屬硅化物形成：在Ni/Co硅化物制備中，RTP兩步法工藝（500℃成核+850℃合金化）可獲得低電阻率（<10μΩ·cm）的硅化物層，相較爐管工藝界面粗糙度降低60%。

介質(zhì)層熱處理：對(duì)于摻磷二氧化硅（PSG）回流工藝，RTP的階梯式升溫曲線（400℃ → 600℃ → 900℃）實(shí)現(xiàn)間隙填充能力提升3倍，同時(shí)將硼穿透效應(yīng)控制在0.5nm/s以下。

先進(jìn)柵極工程：在高k金屬柵（HKMG）工藝中，RTP用于激活界面層氮化與金屬柵沉積后的快速退火，確保等效氧化層厚度（EOT）及柵極漏電流。

快速熱處理技術(shù)分類與應(yīng)用

在先進(jìn)半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，快速熱處理（RTP）技術(shù)憑借其毫秒級(jí)溫變控制能力，已成為實(shí)現(xiàn)納米尺度器件性能突破的關(guān)鍵工藝。

根據(jù)加熱機(jī)制與能量傳輸方式的差異，RTP技術(shù)可細(xì)分為絕熱型、熱流型與等溫型三大技術(shù)路線，各類技術(shù)在熱沖擊特性、工藝適用性及集成度方面展現(xiàn)出獨(dú)特的優(yōu)勢(shì)與挑戰(zhàn)。

一、絕熱型RTP：超快表面熱沖擊技術(shù)

技術(shù)特征：采用寬束相干光源（如準(zhǔn)分子激光器），通過(guò)納秒級(jí)脈沖激光實(shí)現(xiàn)晶圓表面瞬時(shí)熔融。激光脈沖寬度<100ns，能量?jī)H在表面數(shù)納米深度被吸收，形成縱向溫度梯度>10?℃/cm。如圖(a)所示，激光照射后熔融層在亞微秒內(nèi)快速凝固，熱量尚未傳導(dǎo)至襯底即完成再結(jié)晶過(guò)程。

核心優(yōu)勢(shì)：超淺結(jié)形成能力：表面熔融深度可通過(guò)能量密度精準(zhǔn)調(diào)控（5-50nm），適用于超低能離子注入后的超淺結(jié)激活（結(jié)深<10nm）；零熱預(yù)算損耗：熱量未傳導(dǎo)至襯底，完美規(guī)避雜質(zhì)擴(kuò)散問題，特別適用于需要嚴(yán)格限制熱影響的3D NAND垂直溝道制備。

技術(shù)挑戰(zhàn)：需解決激光能量密度均勻性（±2%）控制難題，避免局部過(guò)熱導(dǎo)致的表面粗糙化；設(shè)備成本高昂，單脈沖能量穩(wěn)定性需達(dá)到±1%以內(nèi)，對(duì)光源壽命管理提出嚴(yán)苛要求。

典型應(yīng)用：22nm以下節(jié)點(diǎn)FinFET的源漏區(qū)超淺結(jié)激活；3D集成中TSV側(cè)壁鈍化層的快速修復(fù)。

二、熱流型RTP：選擇性局部加熱方案

技術(shù)特征：采用高功率密度點(diǎn)光源（如CO?激光或電子束），通過(guò)光柵式掃描實(shí)現(xiàn)局部加熱。光束直徑<1mm，掃描速度可達(dá)100mm/s，單點(diǎn)停留時(shí)間10??~10?2s。如圖(b)所示，熱量在表面累積后向縱深傳導(dǎo)，形成深度約10μm的熱影響區(qū)。

核心優(yōu)勢(shì)：空間選擇性加熱：可實(shí)現(xiàn)納米級(jí)熱區(qū)控制，適用于三維集成中的局部退火（如TSV底部歐姆接觸）；低熱應(yīng)力設(shè)計(jì)：通過(guò)掃描路徑優(yōu)化，可將熱應(yīng)力梯度控制在<5MPa/μm，顯著降低晶圓翹曲風(fēng)險(xiǎn)。

技術(shù)挑戰(zhàn)：掃描重疊區(qū)域易產(chǎn)生過(guò)熱（>5%），需采用閉環(huán)反饋系統(tǒng)實(shí)時(shí)修正功率輸出；加熱效率低，單晶圓處理能耗是等溫型RTP的3-5倍。

典型應(yīng)用：5nm節(jié)點(diǎn)GAA FET納米片邊緣鈍化；異質(zhì)集成中III-V族材料與硅基底的低溫鍵合。

三、等溫型RTP：量產(chǎn)型全片均勻加熱

技術(shù)特征：采用寬束非相干光源（如鎢鹵燈陣列），通過(guò)石英窗對(duì)晶圓進(jìn)行全片輻照加熱。退火時(shí)間1-100s，溫度均勻性±1℃（3σ），熱預(yù)算控制精度達(dá)0.1℃·s。如圖(c)所示，熱量通過(guò)熱輻射與熱傳導(dǎo)雙重機(jī)制傳遞，實(shí)現(xiàn)片內(nèi)橫向/縱向溫度梯度<2℃/cm。

核心優(yōu)勢(shì)：高吞吐量設(shè)計(jì)：?jiǎn)吻惑w處理能力>150wph（12英寸晶圓），設(shè)備綜合效率（OEE）>90%；工藝兼容性廣：支持從離子注入激活到金屬硅化物形成的全流程熱處理，特別適用于：NiSi/CoSi?硅化物制備（退火溫度400-600℃，電阻率<10μΩ·cm）；摻磷二氧化硅（PSG）介質(zhì)層回流（溫度梯度<1℃/cm，填充能力提升3倍）。

技術(shù)挑戰(zhàn)：全片加熱導(dǎo)致熱預(yù)算較高，需通過(guò)脈沖式功率調(diào)制（PWM）將熱沖擊降低30%；燈管壽命管理至關(guān)重要，鎢鹵燈壽命>5000h，需配備自動(dòng)更換模塊以維持產(chǎn)能。

典型應(yīng)用：28nm以下節(jié)點(diǎn)后端制程（BEOL）的低介電常數(shù)（Low-k）介質(zhì)固化；高遷移率溝道材料（如Ge、SiGe）的應(yīng)變層退火。

四、技術(shù)路線對(duì)比與選型建議

研發(fā)階段超淺結(jié)探索：優(yōu)先選用絕熱型RTP，以實(shí)現(xiàn)亞10nm結(jié)深控制；

先進(jìn)封裝局部修復(fù)：熱流型RTP為首選，兼顧精度與熱應(yīng)力控制；

大規(guī)模量產(chǎn)：等溫型RTP憑借高吞吐量與低成本優(yōu)勢(shì)成為主流方案。

快速熱處理（RTP）退火技術(shù)特點(diǎn)

在先進(jìn)半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，快速熱處理（RTP）技術(shù)憑借其獨(dú)特的熱力學(xué)特性與工藝優(yōu)勢(shì)，已成為突破深亞微米制程瓶頸的核心工具。相較于傳統(tǒng)高溫爐管工藝，RTP在加熱機(jī)制、熱響應(yīng)速度及工藝可控性方面展現(xiàn)出革命性差異，其技術(shù)特性可歸納為以下六大維度：

一、加熱機(jī)制革新：從熱對(duì)流到輻射主導(dǎo)

傳統(tǒng)爐管依賴電阻絲加熱，通過(guò)熱對(duì)流與熱傳導(dǎo)實(shí)現(xiàn)晶圓升溫，屬于典型的“熱壁工藝”。而RTP采用寬譜輻射光源（如鎢鹵燈、氙燈），其波長(zhǎng)范圍精準(zhǔn)匹配硅材料的本征吸收帶，使晶圓吸收效率>90%。石英腔壁對(duì)此波段輻射透明，維持低溫狀態(tài)（<100℃），形成“冷壁工藝”，顯著降低背景粒子沾污風(fēng)險(xiǎn)。

二、溫度控制精度：從宏觀平衡到納米級(jí)調(diào)控

傳統(tǒng)爐管通過(guò)熱平衡實(shí)現(xiàn)溫度均勻性（±2℃），但響應(yīng)速度滯后（時(shí)間常數(shù)>10min）。RTP則采用嵌入式紅外測(cè)溫儀（響應(yīng)時(shí)間<1ms）與閉環(huán)反饋系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)：

片內(nèi)均勻性：通過(guò)動(dòng)態(tài)功率調(diào)制（PWM），將溫度偏差控制在±1℃（3σ）；

空間分辨率：支持局部加熱（<1mm2），適配三維集成中的TSV熱處理需求；

熱沖擊控制：脈沖式加熱（1000℃/s升溫）結(jié)合快速冷卻（>200℃/s降溫），實(shí)現(xiàn)超淺結(jié)（<8nm）激活。

三、熱響應(yīng)速度：從分鐘級(jí)到毫秒級(jí)跨越

RTP的升降溫速率達(dá)10-200℃/s，較傳統(tǒng)爐管（5-50℃/min）提升2-3個(gè)數(shù)量級(jí)。這一突破源于：

低熱容設(shè)計(jì)：?jiǎn)纹鳂I(yè)模式（300mm晶圓熱容~0.5J/℃）替代批處理（25片批熱容~12.5J/℃）；

高效能量耦合：輻射加熱直接作用于晶圓表面，熱傳遞路徑縮短90%；

快速抽氣系統(tǒng)：真空環(huán)境消除對(duì)流散熱，加速冷卻過(guò)程。

四、工藝環(huán)境優(yōu)化：從熱壁污染到冷壁潔凈

傳統(tǒng)爐管的熱壁環(huán)境易導(dǎo)致：

金屬沾污：爐管內(nèi)壁在1000℃以上釋放Fe、Cr等金屬離子（濃度>1E10atoms/cm2）；

顆粒生成：熱應(yīng)力導(dǎo)致石英件剝落（顆粒尺寸>0.3μm）。

RTP的冷壁工藝將背景溫度控制在<150℃，使金屬污染降低90%；顆粒缺陷密度<0.01顆/cm2，滿足先進(jìn)制程（<7nm）的潔凈度要求。

五、作業(yè)模式變革：從批處理到單片化生產(chǎn)

RTP的單片作業(yè)模式實(shí)現(xiàn)：

工藝靈活性：支持不同晶圓獨(dú)立設(shè)置工藝參數(shù)（溫度、時(shí)間、氣氛）；

產(chǎn)能優(yōu)化：通過(guò)快速換片機(jī)構(gòu)（<5s），實(shí)現(xiàn)UHP（單位小時(shí)產(chǎn)出）>150wph；

成本效益：相較于批處理爐管，單片RTP設(shè)備占地面積減少50%，能耗降低60%。

六、熱預(yù)算控制：從高能耗到綠色制造

傳統(tǒng)爐管的熱預(yù)算（Thermal Budget）高達(dá)1000℃·s以上，導(dǎo)致：雜質(zhì)擴(kuò)散失控：硼/磷擴(kuò)散長(zhǎng)度>50nm；界面劣化：高k介質(zhì)/金屬柵界面層增厚（>1nm）。

RTP通過(guò)以下技術(shù)實(shí)現(xiàn)熱預(yù)算<10℃·s：瞬時(shí)加熱，毫秒級(jí)脈沖退火，抑制雜質(zhì)擴(kuò)散；選擇性激活，僅對(duì)注入層加熱，保護(hù)深埋層結(jié)構(gòu)；低溫工藝擴(kuò)展，支持200℃以下介質(zhì)固化，適配柔性電子需求。