晶圓清洗加熱器的原理主要涉及感應(yīng)加熱（IH）法和短時(shí)間過熱蒸汽（SHS）工藝。

下面就是詳細(xì)給大家說明的具體工藝詳情：

感應(yīng)加熱法（IH）：這種方法通過電磁感應(yīng)原理，在不接觸的情況下對(duì)物體進(jìn)行加熱，從而避免了顆粒污染。在晶圓清洗過程中，純鈦被用作加熱對(duì)象，利用感應(yīng)加熱法可以有效地產(chǎn)生高溫蒸汽。

短時(shí)間過熱蒸汽（SHS）：SHS工藝能夠在極短的時(shí)間內(nèi)生成超過200°C的過熱蒸汽，適用于液晶顯示器和半導(dǎo)體晶片的清洗。這種工藝不僅環(huán)保，而且具有優(yōu)異的洗滌能力。

自蔓延高溫合成（SHS）：這是一種使用加熱器加熱水箱中的水，在200℃以上的溫度下產(chǎn)生自蔓延高溫合成的方法。產(chǎn)生的高溫合成物隨后被噴涂到鎂和晶片上以清潔它們。

這些技術(shù)的應(yīng)用確保了晶圓清洗過程的高效性和清潔度，同時(shí)減少了污染物的產(chǎn)生，提高了生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質(zhì)量。

審核編輯 黃宇