據(jù)悉，臺積電業(yè)務開發(fā)及海外營運辦公室資深副總經(jīng)理暨副共同營運長張曉強博士在5月14日出席阿姆斯特丹技術研討會時公開稱ASML的High-NA EUV設備過于昂貴。盡管對其性能深感滿意，但對于價格卻并不感冒。

張曉強博士現(xiàn)任職于臺積電，主要負責制定公司業(yè)務戰(zhàn)略，包括技術規(guī)劃和客戶關系維護等工作。此外，他還共同領導海外運營團隊，確保海外運營效率。

據(jù)今年2月份報道，荷蘭半導體制造設備巨頭ASML公布了High-NA Twinscan EXE光刻機的售價，高達3.5億歐元（約合27.16億元人民幣）。而現(xiàn)有EUV光刻機的價格則為1.7億歐元（約合13.19億元人民幣）。

值得注意的是，英特爾已成功購入ASML的High-NA EUV設備，并于4月19日宣布首臺設備實現(xiàn)商業(yè)化生產(chǎn)。

關于臺積電是否需要采用ASML的High-NA EUV設備來完成A16先進工藝節(jié)點（預計將于2026年年底前量產(chǎn)），張曉強博士在接受采訪時表示，現(xiàn)階段的EUV設備完全有能力支持A16的生產(chǎn)需求。

至于何時引入ASML的新技術，將視乎何時最為經(jīng)濟實惠以及如何平衡臺積電的技術實力。