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三星與Arm攜手,運用GAA工藝技術(shù)提升下一代Cortex-X CPU性能

微云疏影 ? 來源:綜合整理 ? 作者:綜合整理 ? 2024-02-22 09:36 ? 次閱讀

三星電子宣告將深化其與ARM公司多年來的深入合作關(guān)系,以利用其全球最先進(jìn)的Gate-All-Around(GAA)制程技術(shù)優(yōu)化下一代Arm ? Cortex ? -X CPU。雙方有雄心壯志,期望革新2nm GAA制程工藝,而這項技術(shù)將專供于極具前景的數(shù)據(jù)中心及基礎(chǔ)設(shè)施定制芯片。此外,他們還將共同研發(fā)創(chuàng)新型AI芯片解決方案,極大地改變emerging AI移動計算市場。

三星繼續(xù)推進(jìn)工藝技術(shù)的進(jìn)步,近年來首次量產(chǎn)了基于2022年GAA技術(shù)的3nm MBCFET ? 。GAA技術(shù)不僅能夠大幅減小設(shè)備尺寸,降低供電電壓,增強功率效率,同時也能增強驅(qū)動電流,進(jìn)而實現(xiàn)更高的性能表現(xiàn)。

借助三星最新的GAA工藝節(jié)點,AMD也對其最新的Cortex-X CPU進(jìn)行了深度優(yōu)化,由此實現(xiàn)更高的性能和效率,大大提升了用戶體驗的水平。

面對不斷提升的產(chǎn)品交付需求,確保在首次制造中即能夠生產(chǎn)出綜合功耗最小化、性能最高和面積最佳的硅片變得尤為重要。為此,設(shè)計與制造過程必須彼此融合。雙方團(tuán)隊一直以來采取設(shè)計技術(shù)協(xié)同優(yōu)化,以此最大化發(fā)揮下一代Cortex-X CPU設(shè)計架構(gòu)和GAA工藝技術(shù)的PPA優(yōu)勢。

目前,生成式AI已經(jīng)成為提升用戶體驗的關(guān)鍵驅(qū)動因素。三星與ARM的此次聯(lián)手將加大在下一代GAA工藝技術(shù)基礎(chǔ)上優(yōu)化Cortex-X CPU的執(zhí)行力度,從而加速推動下一代產(chǎn)品性能的提升。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
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