來源：半導體芯科技編譯

3D IC（三維集成電路）代表著異質先進封裝技術向三維空間的擴展，在設計和可制造性方面面臨著與二維先進封裝類似的挑戰以及更多的復雜性。雖然3D IC尚未普及，但芯片組標準化計劃的出現和支持工具的開發正在使3D IC變得更加可行，并為更廣泛的參與者帶來更多利潤，其中包括生產規模較小的大型和小型公司。

三維集成電路的實施允許公司將設計劃分為功能子組件，并在最合適的工藝節點上集成由此產生的 IP。這有利于低延遲、高帶寬的數據傳輸，降低制造成本，提高晶圓產量，降低功耗，并減少總體開支。這些吸引人的優勢推動了先進異構封裝和 3D IC技術的顯著增長和進步。

在傳統的集成電路 （IC） 設計和制造領域，依賴簽核策略是司空見慣的。晶圓代工廠通常在特定于工藝的設計規則套件中提供設計規則、LVS 和可靠性平臺。然而，這種傳統方法不適用于 3D IC 先進的異構封裝。與傳統IC不同，3D IC由多層組成，混合了多種工藝，挑戰了單層上所有內容都是共面的假設。3D IC 中組件的垂直堆疊帶來了復雜性，使半導體和 IC 封裝設計工程師難以評估具有不同工藝技術的組件之間的相互作用，并確定哪些相互作用應優先考慮。

為了確保可制造性和可靠性，我們不能依賴代工廠或外包半導體封裝和測試 (OSAT) 供應商提供的通用設計套件。相反，我們需要從三維集成電路設計師的頭腦中獲取信息。我們需要規劃工具來協助封裝架構師做出平面規劃決策，并將這些信息提供給半導體和集成電路封裝設計工程師。這些信息應包括元件如何垂直堆疊，而不僅僅是元件的一維布局。我們還必須將特定元件的檢查與單個層的定義分開，因為不同的工藝對類似的結構可能會有不同的層號。使用三維集成電路原型設計和規劃工具可以盡早提取這些信息。

規劃和平面布局工具在確保裝配架構的正確對齊和可制造性方面發揮著至關重要的作用，在片上系統（SoC）領域，這項任務傳統上由設計規則檢查（DRC）來完成。然而，僅僅依靠 DRC 并不能保證預期的功能。幸運的是，布局與原理圖（LVS）分析具有雙重作用，不僅能確認可制造性，還能驗證布局是否準確地表達了預期的電氣結構和行為。與在執行前進行網表編制和仿真的傳統方法不同，LVS 對所有芯片、層和器件進行詳細分析，以驗證它們與預期設計的一致性。這一過程需要一個源網表，通常稱為 "黃金網表"，以便進行精確比較。

然而，3D IC給LVS分析帶來了挑戰，主要是因為中介層——通常是LVS無法處理的無源元件。與有源元件不同，無源元件缺乏電氣特性，對電路功能沒有貢獻，這使得傳統的 LVS 方法復雜化，該方法依賴于引腳的電氣連接知識。此外，有意將電容器、電阻器和光子元件等無源器件集成到 3D IC 中增加了另一層復雜性，需要了解各種導線位置和材料信息。

引入 3D IC 集成所必需的新組件會給系統帶來額外的寄生效應。這些寄生效應會影響各種行為方面，例如延遲、噪聲、信號完整性和功耗，從而影響滿足系統設計要求的能力。為了全面了解其影響，必須對與這些組件相關的寄生效應進行準確有效的建模。此外，垂直堆疊的 3D IC 組件（包括芯片和中介層）的更高密度和更近的距離進一步影響了它們的寄生效應。

提取方法和工具的選擇取決于在性能和準確性之間找到適當的平衡。要實現更高的精度，需要采用更復雜的模型和先進的工具。基于規則的工具在提供高性能方面表現出色，而基于字段求解器的工具則優先考慮準確性。在處理硅通孔 （TSV） 寄生效應時，可以使用代工廠的測量和內部全波求解器開發精確的 TSV 模型。通過基于規則的工具，可以在互連寄生參數提取過程中實現這些模型的有效集成。然而，這些工具在TSV耦合方面遇到了挑戰。雖然參數表可用于耦合電阻和電容，但它們有局限性。全波求解器具有出色的精度，但對于在實際設計中處理大量 TSV 來說太慢。因此，理想的解決方案是專門的場求解器，它既準確又快速，足以進行整個 TSV 集提取。

三維集成電路的實現有兩種方法：硅連接或有機連接，每種方法都有自己的優勢和挑戰。硅三維集成電路結構是通過放置和布線工具創建的，適用于高密度設計，但僅限于處理正交形狀。相反，有機三維集成電路結構使用的工具類似于傳統的面向印刷電路板的工具。

所選技術對信號完整性分析所采用的方法和工具有很大影響。在硅設計中，來自布局布線工具的數據流通常采用 GDS 格式，缺乏傳統信號完整性和電磁（EM）工具所需的細節。這一缺陷導致需要額外的手動提取步驟，從而延長了分析流程并限制了迭代次數。雖然數據表示給硅設計中的電磁提取帶來了挑戰，但用于寄生提取的專用工具可以幫助緩解這些問題。

相反，有機工具更符合面向印刷電路板的方法，在設計數據庫中包含更多智能數據，包括網絡名稱和各種結構類型。這一特性縮短了寄生蟲提取的設置時間，使提取過程不易出錯。它將提取和分析進一步推向設計流程的上游，便于根據寄生影響及早識別芯片封裝平面圖中的必要變更。通過在正確的階段利用適當的分析功能，設計人員可以在流程的早期階段對精度和性能進行權衡，從而增強對整個設計的信心。這種積極主動的方法使設計人員能夠提前利用三維集成電路設計的優勢。

審核編輯 黃宇