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繼半導(dǎo)體后 韓國(guó)將顯示專利申請(qǐng)指定為優(yōu)先審查對(duì)象

微云疏影 ? 來源:綜合整理 ? 作者:綜合整理 ? 2023-11-01 09:59 ? 次閱讀

知識(shí)產(chǎn)權(quán)機(jī)構(gòu)韓國(guó)特許廳31日表示,從11月1日開始的一年時(shí)間里,將國(guó)內(nèi)研究開發(fā)和生產(chǎn)的顯示器領(lǐng)域的專利申請(qǐng)指定為優(yōu)先審查對(duì)象。

其中包括與顯示器材料、配件、裝備、制造、設(shè)計(jì)技術(shù)直接相關(guān)的申請(qǐng)、在國(guó)內(nèi)生產(chǎn)或準(zhǔn)備生產(chǎn)顯示器相關(guān)產(chǎn)品、裝備等的企業(yè)的申請(qǐng)、與顯示器相關(guān)的國(guó)家研究開發(fā)(r&d)事業(yè)的成果相關(guān)的申請(qǐng)等。

專利廳預(yù)計(jì),通過該制度,平均需要16個(gè)月左右的一般專利審查周期將減少到平均2個(gè)月以內(nèi)。

與此同時(shí),將于10月31日結(jié)束的半導(dǎo)體領(lǐng)域的優(yōu)先審查對(duì)象的指定也將延長(zhǎng)1年。如果申請(qǐng)與半導(dǎo)體材料、零部件、裝備、制造、設(shè)計(jì)技術(shù)直接相關(guān)的專利,就可以優(yōu)先接受審查。

另外,考慮到在申請(qǐng)優(yōu)先審查時(shí),很難預(yù)測(cè)專利分類(cpc)是否合適的情況較多,決定刪除現(xiàn)有的半導(dǎo)體相關(guān)專利分類條件。

據(jù)悉,在顯示器領(lǐng)域的國(guó)際專利糾紛不斷深化的情況下,此舉是為了支援韓國(guó)企業(yè)盡快獲得專利。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
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