女人自慰AV免费观看内涵网,日韩国产剧情在线观看网址,神马电影网特片网,最新一级电影欧美,在线观看亚洲欧美日韩,黄色视频在线播放免费观看,ABO涨奶期羡澄,第一导航fulione,美女主播操b

0
  • 聊天消息
  • 系統消息
  • 評論與回復
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學習在線課程
  • 觀看技術視頻
  • 寫文章/發帖/加入社區
會員中心
創作中心

完善資料讓更多小伙伴認識你,還能領取20積分哦,立即完善>

3天內不再提示

光刻膠產業大會在邳舉行,上達電子等與會!

FPCworld ? 來源:邳州發布等 ? 2023-08-16 15:30 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

8月15日,2023年第三屆勢銀(邳州)光刻膠產業大會在邳州市舉行。來自全國各地光刻膠產業領域的權威專家、行業精英、業界翹楚齊聚邳州,共商發展大計,助推光刻膠產業更高質量發展。

我市市委副書記、市長王偉,國家重大人才引進工程專家、俄羅斯工程院院士李偉教授,廣東工業大學、俄羅斯工程院院士、國家杰青閔永剛教授,勢銀董事長唐蔚波、徐州博康信息化學品有限董事長傅志偉等出席活動并致辭。

會上,經開區分別同4家企業就功率器件IC封測項目、超級功率電池及鋰電池PACK產線項目、氫能產業集群項目、高性能電池項目進項現場簽約。會議還舉行了《2023勢銀光刻膠產業發展藍皮書》發布儀式。

會后,與會嘉賓還一同前往我市博康化學品、魯汶儀器、源康電子、上達半導體等企業參觀交流。

據了解,江蘇上達半導體成立于2017年,是顯示驅動IC覆晶薄膜封裝基板(COF)廠商。COF即Chip on Film,是一種主要應用于面板驅動IC的封裝技術,是半導體產業鏈驅動封裝測試環節關鍵材料,也是國家發布的半導體芯片制造所必須的19種關鍵材料之一。

目前,上達半導體團隊獨立形成多達50余項發明專利,在LED顯示屏、LCD顯示面板及新型顯示屏等各類顯示領域形成較為完整的技術儲備,可為不同客戶提供線距低至16μm顯示驅動芯片封裝解決方案,目前已集聚DB HiTek、ILITEK、東芝、夏普等客戶,并于2021年內通過國內多家IC設計公司的審廠驗證,開始批量供貨。

聲明:本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內容侵權或者其他違規問題,請聯系本站處理。 舉報投訴
  • 鋰電池
    +關注

    關注

    260

    文章

    8408

    瀏覽量

    176018
  • 功率器件
    +關注

    關注

    42

    文章

    1930

    瀏覽量

    92656
  • 光刻膠
    +關注

    關注

    10

    文章

    338

    瀏覽量

    30932
  • 電池
    +關注

    關注

    84

    文章

    11070

    瀏覽量

    134892

原文標題:光刻膠產業大會在邳舉行,上達電子等與會!

文章出處:【微信號:FPCworld,微信公眾號:FPCworld】歡迎添加關注!文章轉載請注明出處。

收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評論

    相關推薦
    熱點推薦

    行業案例|膜厚儀應用測量之光刻膠厚度測量

    光刻膠,又稱光致抗蝕劑,是一種關鍵的耐蝕劑刻薄膜材料。它在紫外光、電子束、離子束、X 射線的照射或輻射下,溶解度會發生變化,主要應用于顯示面板、集成電路和半導體分立器件細微圖形加工
    的頭像 發表于 07-11 15:53 ?21次閱讀
    行業案例|膜厚儀應用測量之<b class='flag-5'>光刻膠</b>厚度測量

    針對晶圓上芯片工藝的光刻膠剝離方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    引言 在晶圓上芯片制造工藝中,光刻膠剝離是承上啟下的關鍵環節,其效果直接影響芯片性能與良率。同時,光刻圖形的精確測量是保障工藝精度的重要手段。本文將介紹適用于晶圓芯片工藝的光刻膠剝離方法,并探討白光
    的頭像 發表于 06-25 10:19 ?142次閱讀
    針對晶圓上芯片工藝的<b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    用于 ARRAY 制程工藝的低銅腐蝕光刻膠剝離液及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    引言 在顯示面板制造的 ARRAY 制程工藝中,光刻膠剝離是關鍵環節。銅布線在制程中廣泛應用,但傳統光刻膠剝離液易對銅產生腐蝕,影響器件性能。同時,光刻圖形的精準測量對確保 ARRAY 制程工藝精度
    的頭像 發表于 06-18 09:56 ?162次閱讀
    用于 ARRAY 制程工藝的低銅腐蝕<b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離液及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    低含量 NMF 光刻膠剝離液和制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    引言 在半導體制造過程中,光刻膠剝離液是不可或缺的材料。N - 甲基 - 2 - 吡咯烷酮(NMF)雖在光刻膠剝離方面表現出色,但因其高含量使用帶來的成本、環保問題備受關注。同時,光刻
    的頭像 發表于 06-17 10:01 ?187次閱讀
    低含量 NMF <b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離液和制備方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    減少光刻膠剝離工藝對器件性能影響的方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    ? ? 引言 ? 在半導體制造領域,光刻膠剝離工藝是關鍵環節,但其可能對器件性能產生負面影響。同時,光刻圖形的精確測量對于保證芯片制造質量至關重要。本文將探討減少光刻膠剝離工藝影響的方法,并介紹白光
    的頭像 發表于 06-14 09:42 ?249次閱讀
    減少<b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離工藝對器件性能影響的方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    光刻膠產業國內發展現狀

    ,是指通過紫外光、深紫外光、電子束、離子束、X射線光照或輻射,溶解度會發生變化的耐蝕刻薄膜材料,是光刻工藝中的關鍵材料。 從芯片生產的工藝流程上來說,光刻膠的應用處于芯片設計、制造、
    的頭像 發表于 06-04 13:22 ?196次閱讀

    光刻膠剝離液及其制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    光刻膠剝離液及其制備方法 常見光刻膠剝離液類型 有機溶劑型剝離液 有機溶劑型剝離液以丙酮、N - 甲基吡咯烷酮(NMP)有機溶劑為主體成分。丙酮對普通光刻膠的溶解能力強,能夠快速
    的頭像 發表于 05-29 09:38 ?172次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離液及其制備方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    光刻膠的類型及特性

    光刻膠類型及特性光刻膠(Photoresist),又稱光致抗蝕劑,是芯片制造中光刻工藝的核心材料。其性能直接影響芯片制造的精度、效率和可靠性。本文介紹了光刻膠類型和
    的頭像 發表于 04-29 13:59 ?2125次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>的類型及特性

    光刻膠成為半導體產業的關鍵材料

    光刻膠是半導體制造領域的一種重要材料,在整個電子元器件加工產業有著舉足輕重的地位。 它主要由感光樹脂、增感劑和溶劑成分組成。其中,感光樹
    的頭像 發表于 12-19 13:57 ?933次閱讀

    光刻膠清洗去除方法

    光刻膠作為掩模進行干法刻蝕或是濕法腐蝕后,一般都是需要及時的去除清洗,而一些高溫或者其他操作往往會導致光刻膠碳化難以去除。
    的頭像 發表于 11-11 17:06 ?1622次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>清洗去除方法

    一文解讀光刻膠的原理、應用及市場前景展望

    光刻技術是現代微電子和納米技術的研發中的關鍵一環,而光刻膠,又是光刻技術中的關鍵組成部分。隨著技術的發展,對微小、精密的結構的需求日益增強,光刻膠
    的頭像 發表于 11-11 10:08 ?1815次閱讀
    一文解讀<b class='flag-5'>光刻膠</b>的原理、應用及市場前景展望

    一文看懂光刻膠的堅膜工藝及物理特性和常見光刻膠

    共讀好書關于常用光刻膠型號也可以查看這篇文章:收藏!常用光刻膠型號資料大全,幾乎包含所有芯片用光刻膠歡迎掃碼添加小編微信掃碼加入知識星球,領取公眾號資料
    的頭像 發表于 11-01 11:08 ?2418次閱讀

    光刻膠的使用過程與原理

    本文介紹了光刻膠的使用過程與原理。
    的頭像 發表于 10-31 15:59 ?1484次閱讀

    如何成功的烘烤微流控SU-8光刻膠

    在微流控PDMS芯片加工的過程中,需要使用烘臺或者烤設備對SU-8光刻膠或PDMS聚合物進行烘烤。SU-8光刻膠的烘烤通常需要進行2-3次。本文簡要介紹SU-8
    的頭像 發表于 08-27 15:54 ?748次閱讀

    如何成功的旋涂微流控SU-8光刻膠

    在微流控PDMS芯片或SU-8模具制作的過程中,需要把PDMS或SU-8光刻膠根據所需要的厚度來選擇合適的旋涂轉速并且使PDMS或SU-8涂布均勻化。 如何成功的旋涂微流控SU-
    的頭像 發表于 08-26 14:16 ?797次閱讀