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碳化硅MOSFET芯片取得新突破!

DT半導體 ? 來源:DT半導體 ? 2023-07-28 14:21 ? 次閱讀

近日,岳麓山大科城第二批核心技術攻關“揭榜掛帥”項目——《大功率碳化硅MOSFET及SBD芯片技術研究》取得重要研發(fā)突破,芯片綜合性能趕上國際先進水平,部分指標實現領先。

早在2022年4月,大科城發(fā)布第二批核心技術攻關“揭榜掛帥”項目,該項目由瀏陽泰科天潤半導體技術有限公司(以下簡稱“泰科天潤”)發(fā)榜,湖南大學和東莞天域半導體股份有限公司共同揭榜,聚焦新一代半導體產業(yè)鏈“卡鏈處”進行技術攻關。

作為發(fā)起單位,大科城對本次核心技術攻關“揭榜掛帥”項目予以單個項目最高300萬元的資金補助,同時在項目實施、科研攻關、產業(yè)落地等方面進行全程跟蹤幫扶,提供政策支持。

項目實施一年多來,針對本課題難點——碳化硅(SiC)MOSFET芯片研究部分,湖南大學國家電能變換與控制工程技術研究中心教授王俊、副研究員梁世維等科研人員在研發(fā)過程中,打破了國外專利壁壘,發(fā)明了“場板型分裂柵SiC MOSFET”。泰科天潤則突破了高質量柵氧、表面鈍化、高溫變能多次離子注入等工藝難點,在成熟的6英寸碳化硅生產線完成了新型SiC MOSFET工程樣品的研制工作,泰科天潤的工程團隊展現了深厚的碳化硅工藝能力,批次流片的一致性和穩(wěn)定性得到了各專家的一致認可,為量產打下堅實的基礎。

“經電學特性測試后,相應數據與國際SiC龍頭企業(yè)美國科銳公司同類芯片產品的導通電阻相當。”王俊介紹,由于引入了場板分離型的分裂柵結構,芯片具有更低的反向傳輸電容,高頻優(yōu)值接近國外先進水平,較之傳統(tǒng)平面柵結構器件指標數值明顯改善。

在實測中,研究人員還發(fā)現本批次芯片開關性能有所提升,關斷損耗較國外龍頭企業(yè)同類產品低17%,將有效提升電能變換效率。以新能源汽車行業(yè)為例,這一領先優(yōu)勢將幫助提升電動汽車的續(xù)航里程。

泰科天潤項目經理俞偉告訴記者,此次項目整體進度領先預期時效,研發(fā)課題組將繼續(xù)深化合作,持續(xù)優(yōu)化提升SiC 器件性能,提高制備工藝的穩(wěn)定性,爭取盡快實現相關產品的穩(wěn)定量產和產業(yè)化應用,進一步提升湖南在第三代半導體產業(yè)領域的影響力,助力長沙打造全球功率半導體研發(fā)中心城市。

編輯:黃飛

聲明:本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內容侵權或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
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原文標題:“揭榜掛帥”見成效:碳化硅MOSFET芯片取得重要突破

文章出處:【微信號:DT-Semiconductor,微信公眾號:DT半導體】歡迎添加關注!文章轉載請注明出處。

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