在本月,晶圓代工巨頭臺積電在北美召開了2022年臺積電技術研討會,介紹了關于未來先進制程的信息,同時公布N3工藝將于2022年內量產。
同時在研討會上臺積電首度推出N2制造工藝技術,也即2nm。全新2nm工藝制程將采用納米片電晶體,取代之前FinFET(鰭式場效應晶體管),成為臺積電首個使用環繞柵極晶體管 (GAAFET) 的節點。
新制造工藝將提供全面的性能和功率優勢,在相同功耗下,N2比N3速度提升10%-15%,相同速度下,功耗則下降25%-30%,同時,與N3E節點相比,N2芯片密度提高1.1倍以上。N2不僅有面向移動處理器的標準工藝,還會有針對高性能計算和芯粒(Chiplet)的整合方案。
綜合ZAEKE知客整合
審核編輯:郭婷
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發表于 03-14 00:14
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