電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/黃山明)作為芯片制造過程中的核心設(shè)備,光刻機(jī)決定著芯片工藝的制程。尤其是EUV光刻機(jī)已經(jīng)成為高端芯片(7nm及以下)芯片量產(chǎn)的關(guān)鍵,但目前EUV光刻機(jī)基本由荷蘭阿斯麥(ASML
發(fā)表于 10-17 00:13
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電子直寫光刻機(jī)駐極體圓筒聚焦電極
隨著科技進(jìn)步,對(duì)電子顯微鏡的精度要求越來越高。電子直寫光刻機(jī)的精度與電子波長和電子束聚焦后的焦點(diǎn)直徑有關(guān),電子波長可通過增加加速電極電壓來減小波長,而電子束聚焦后
發(fā)表于 05-07 06:03
【2025年光刻機(jī)市場(chǎng)的規(guī)模預(yù)計(jì)為252億美元】 光刻機(jī)作為半導(dǎo)體制造過程中價(jià)值量和技術(shù)壁壘最高的設(shè)備之一,其在半導(dǎo)體制造中的重要性不言而喻。 目前,全球市場(chǎng)對(duì)光刻機(jī)的需求持續(xù)增長,尤其是在先
發(fā)表于 04-07 09:24
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在科技日新月異的今天,芯片作為數(shù)字時(shí)代的“心臟”,其制造過程復(fù)雜而精密,涉及眾多關(guān)鍵環(huán)節(jié)。提到芯片制造,人們往往首先想到的是光刻機(jī)這一高端設(shè)備,但實(shí)際上,芯片的成功制造遠(yuǎn)不止依賴光刻機(jī)這一單一工具。本文將深入探討芯片制造的五大關(guān)鍵工藝,揭示這些工藝如何協(xié)同工作,共同鑄就了
發(fā)表于 03-24 11:27
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在芯片制造的復(fù)雜流程中,光刻工藝是決定晶體管圖案能否精確“印刷”到硅片上的核心環(huán)節(jié)。而光刻Overlay(套刻精度),則是衡量光刻機(jī)將不同層電路圖案對(duì)準(zhǔn)精度的關(guān)鍵指標(biāo)。簡單來說,它就像建造摩天大樓
發(fā)表于 02-17 14:09
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光刻機(jī)用納米位移系統(tǒng)設(shè)計(jì)
發(fā)表于 02-06 09:38
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本文介紹了如何提高光刻機(jī)的NA值。 為什么光刻機(jī)希望有更好的NA值?怎樣提高? ? 什么是NA值? ? 如上圖是某型號(hào)的光刻機(jī)配置,每代光刻機(jī)的NA值會(huì)比上一代更大一些。NA,又名
發(fā)表于 01-20 09:44
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本文主要介紹光刻機(jī)的分類與原理。 ? 光刻機(jī)分類 光刻機(jī)的分類方式很多。按半導(dǎo)體制造工序分類,光刻設(shè)備有前道和后道之分。前道光刻機(jī)包括芯片
發(fā)表于 01-16 09:29
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? 本文介紹了組成光刻機(jī)的各個(gè)分系統(tǒng)。 光刻技術(shù)作為制造集成電路芯片的重要步驟,其重要性不言而喻。光刻機(jī)是實(shí)現(xiàn)這一工藝的核心設(shè)備,它的工作原理類似于傳統(tǒng)攝影中的曝光過程,但精度要求極高,能夠達(dá)到
發(fā)表于 01-07 10:02
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? 本文介紹了用來提高光刻機(jī)分辨率的浸潤式光刻技術(shù)。 芯片制造:光刻技術(shù)的演進(jìn) 過去半個(gè)多世紀(jì),摩爾定律一直推動(dòng)著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展,但當(dāng)光刻機(jī)的光源波長卡在193nm,芯片制程縮小至6
發(fā)表于 11-24 11:04
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? 本文介紹了光刻機(jī)在芯片制造中的角色和地位,并介紹了光刻機(jī)的工作原理和分類。? ? ? ?? 光刻機(jī):芯片制造的關(guān)鍵角色 ? ? 光刻機(jī)在芯片制造中占據(jù)著至關(guān)重要的地位,被譽(yù)為芯片制
發(fā)表于 11-24 09:16
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,光刻機(jī)作為IC制造裝備中最核心、技術(shù)難度最大的設(shè)備,其重要性日益凸顯。本文將從光刻機(jī)的發(fā)展歷程、結(jié)構(gòu)組成、關(guān)鍵性能參數(shù)以及雙工件臺(tái)技術(shù)展開介紹。 一、光刻機(jī)發(fā)展歷程 光刻機(jī)的發(fā)展歷程
發(fā)表于 11-22 09:09
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計(jì)算機(jī)圖形軟件設(shè)計(jì)微通道,?并將設(shè)計(jì)圖形轉(zhuǎn)換為圖形文件。?這些設(shè)計(jì)圖形隨后被用于指導(dǎo)掩膜版的制作。? 在制版階段,?設(shè)計(jì)好的圖形通過直寫光刻設(shè)備(?如激光直寫光刻機(jī)或電子束光刻機(jī))?在玻璃/石英基片上形成掩膜圖形結(jié)構(gòu)
發(fā)表于 08-08 14:56
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據(jù)外媒報(bào)道,目前,俄羅斯首臺(tái)光刻機(jī)已經(jīng)制造完成并正在進(jìn)行測(cè)試。 俄羅斯聯(lián)邦工業(yè)和貿(mào)易部副部長瓦西里-什帕克(Vasily Shpak)表示,已組裝并制造了第一臺(tái)國產(chǎn)光刻機(jī),作為澤廖諾格勒技術(shù)生產(chǎn)線
發(fā)表于 05-28 15:47
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來源:IT之家,謝謝 編輯:感知芯視界 Link 據(jù)外媒報(bào)道,俄羅斯首臺(tái)光刻機(jī)已經(jīng)制造完成并正在進(jìn)行測(cè)試。俄羅斯聯(lián)邦工業(yè)和貿(mào)易部副部長Vasily Shpak表示,該設(shè)備可確保生產(chǎn)350納米工藝
發(fā)表于 05-28 09:13
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評(píng)論