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芯片的制造過程與步驟

倩倩 ? 來源:澎拜,立創商城綜合整理 ? 作者:澎拜,立創商城綜 ? 2021-12-08 11:05 ? 次閱讀

芯片,又稱為集成電路,是計算機等電子設備最重要的功能載體,是中央處理器CPU的“靈魂”!

芯片制造的過程就如同用樂高蓋房子一樣,先有晶圓作為地基,再層層往上疊的芯片制造流程后,就可產出必要的 IC 芯片(這些會在后面介紹)。然而,沒有設計圖,擁有再強制造能力都沒有用,因此,建筑師的角色相當重要。

芯片制造的10大步驟

沉積:制造芯片的第一步,通常是將材料薄膜沉積到晶圓上。材料可以是導體、絕緣體或半導體

光刻膠涂覆:進行光刻前,首先要在晶圓上涂覆光敏材料“光刻膠”或“光阻”,然后將晶圓放入光刻機

曝光:在掩模版上制作需要印刷的圖案藍圖。晶圓放入光刻機后,光束會通過掩模版投射到晶圓上。光刻機內的光學元件將圖案縮小并聚焦到光刻膠涂層上。在光束的照射下,光刻膠發生化學反應,光罩上的圖案由此印刻到光刻膠涂層。

計算光刻:光刻期間產生的物理、化學效應可能造成圖案形變,因此需要事先對掩模版上的圖案進行調整,確保最終光刻圖案的準確。ASML將現有光刻數據及圓晶測試數據整合,制作算法模型,精確調整圖案。

烘烤與顯影:晶圓離開光刻機后,要進行烘烤及顯影,使光刻的圖案永久固定。洗去多余光刻膠,部分涂層留出空白部分。

刻蝕:顯影完成后,使用氣體等材料去除多余的空白部分,形成3D電路圖案。

計量和檢驗:芯片生產過程中,始終對晶圓進行計量和檢驗,確保沒有誤差。檢測結果反饋至光刻系統,進一步優化、調整設備。

離子注入:在去除剩余的光刻膠之前,可以用正離子或負離子轟擊晶圓,對部分圖案的半導體特性進行調整。

視需要重復制程步驟:從薄膜沉積到去除光刻膠,整個流程為晶圓片覆蓋上一層圖案。而要在晶圓片上形成集成電路,完成芯片制作,這一流程需要不斷重復,可多達100次。

封裝芯片:最后一步,切割晶圓,獲得單個芯片,封裝在保護殼中。這樣,成品芯片就可以用來生產電視、平板電腦或者其他數字設備了!

澎拜,立創商城綜合整理

責任編輯:李倩

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