半導體景氣復甦,大廠紛紛加碼投資。三星明年將加碼10兆韓元用于擴大半導體制造能量,鎖定提升DRAM、NAND芯片與晶圓代工產能。市場解讀,三星布局,意在與SK海力士、美光、臺積電等同業的競爭。
依韓國媒體與三星消息,三星相關投資主要在平澤工廠,擴產后,三星DRAM月產能將增加3萬片、NAND增加6萬片、晶圓代工增加2萬片。
面對三星在晶圓代工領域緊追,臺積電一向不評論競爭對手的動態。三星近期擴大采購極紫外光(EUV)設備,更規劃在韓國華城、平澤以及美國德州奧斯丁等城市建立EUV產線,做7納米與5納米以下芯片生產基地。
韓聯社報道,三星集團今年前九月資本支出創下歷史新高,主因研發費用大增、在韓國雇用員工人數創新高。
三星在今年10月推出首款采用自家5納米技術量產的系統芯片,2021年看好全球需求復甦,將對多個領域展開投資;高速運算應用多元化、客戶采用先進制程也帶動三星晶圓代工成長。
三星資本支出集中半導體領域,全年資本支出估約35.2兆韓元,創新高,其中,半導體資本支出也創新高、達28.9兆韓元。今年1到9月半導體相關資本支出已達21.3兆韓元。
外媒報導,明年半導體資本支出不低于今年,還將額外加碼擴大半導體產能。
本文由電子發燒友綜合報道,內容參考自韓聯社、Techweb,轉載請注明以上來源。
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