女人自慰AV免费观看内涵网,日韩国产剧情在线观看网址,神马电影网特片网,最新一级电影欧美,在线观看亚洲欧美日韩,黄色视频在线播放免费观看,ABO涨奶期羡澄,第一导航fulione,美女主播操b

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評論與回復
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學習在線課程
  • 觀看技術視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認識你,還能領取20積分哦,立即完善>

3天內不再提示

ASML公布新一代EUV光刻機

工程師 ? 來源:快科技 ? 作者:快科技 ? 2020-10-16 14:27 ? 次閱讀

荷蘭ASML(阿斯麥)公布了截止9月30日的三季度財報數(shù)據(jù)。

當季銷售收入為40億歐元,凈利潤高達11億歐元(約合87億元人民幣)。2020年前三季度,ASML總共實現(xiàn)凈銷售額97.24億歐元,較去年同期77.83億歐元提高近25%;凈利潤22.03億歐元同樣大幅提升51%

ASML預估四季度的收入在36到38億歐元,毛利率50%左右,2020全年的營收應該至少能達到133億歐元。

據(jù)悉,當季ASML共獲得60臺光刻機的銷售收入,總額31億歐元,其中EUV光刻機14臺,但收入占比達到了66%。

地區(qū)方面,中國臺灣貢獻了光刻機收入的47%,看來臺積電支付了一大筆EUV機器的貨款。韓國廠商貢獻了26%,中國大陸企業(yè)貢獻了21%。

另外,當季ASML還接到了累計29億歐元的新訂單,并出貨了10臺EUV光刻機,型號以3400B為主。

展望2021年,ASML表示謹慎樂觀,并給出較低兩位數(shù)的預期收入增長判斷。

同時,ASML還公布了光刻機產(chǎn)品的最新進展。

其中TWINSCAN NXE:3600D作為其目前研發(fā)中的最先進光刻機系統(tǒng),終于敲定最終規(guī)格。

具體來說,30mJ/cm2的曝光速度達到每小時曝光160片晶圓,提高了18%的生產(chǎn)率,并改進機器匹配套準精度至1.1nm。

3600D定于2021年中旬出貨交付,客戶還需要一定時間等待,價格應該不會低于現(xiàn)款老型號的1.2億美元。

目前,ASML已經(jīng)投產(chǎn)的最先進光刻機是3400C,但主力出貨型號是3400B。參數(shù)方面,3400B的套刻精度為2nm、曝光速度20mJ/cm2,每小時可曝光125片晶圓。

另外,ASML透露,3400B在三季度也完成了軟件升級。全新的DUV光刻機TWINSCAN NXT:2050i已經(jīng)在三季度結束驗證,四季度早期開始正式出貨。

據(jù)悉,在截止9月30日的單季度,ASML共獲得60臺光刻機收入,出貨了10臺EUV光刻機。

ASML CFO Roger Dassen在財報會議的視頻采訪中還談到了與中芯國際等中國客戶的業(yè)務情況。

Roger Dassen指出,在中國業(yè)務方面,去年中國本土客戶為ASML創(chuàng)造了約8億歐元的銷售額,今年將會更多,預計超過10億歐元。

關于美國有可能對中芯國際采取限制措施,Roger Dassen表示,ASML今年客戶以邏輯工藝領域為主,中芯國際則是ASML的主要邏輯工藝領域客戶。

“我們不會對特定的客戶情況進行推測或評論,但總的來說,我們會在法律和法規(guī)要求的范圍內盡最大的能力繼續(xù)為客戶提供服務。”Roger Dassen如是說。

Roger Dassen進一步指出,ASML了解美國當局目前的規(guī)章制度及其解釋,當然也知道這些與特定的中國客戶密切相關,但如果廣泛的來理解其規(guī)章制度對ASML的總體含義(對于特定的中國客戶),則意味著ASML將能夠從荷蘭向這些中國客戶提供DUV光刻系統(tǒng),且無需出口許可證。

不過,如果涉及直接從美國運往此類客戶的零件或系統(tǒng),ASML則需要為此申請出口許可證。

責任編輯:haq

聲明:本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內容侵權或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
  • 中芯國際
    +關注

    關注

    27

    文章

    1433

    瀏覽量

    66024
  • 光刻機
    +關注

    關注

    31

    文章

    1163

    瀏覽量

    48022
  • ASML
    +關注

    關注

    7

    文章

    723

    瀏覽量

    41973
收藏 人收藏

    評論

    相關推薦
    熱點推薦

    光刻機巨頭ASML業(yè)績暴雷,芯片迎來新輪“寒流”?

    電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(文/黃山明)作為芯片制造過程中的核心設備,光刻機決定著芯片工藝的制程。尤其是EUV光刻機已經(jīng)成為高端芯片(7nm及以下)芯片量產(chǎn)的關鍵,但目前EUV
    的頭像 發(fā)表于 10-17 00:13 ?3224次閱讀

    電子直寫光刻機駐極體圓筒聚焦電極

    出現(xiàn)誤差。傳統(tǒng)聚焦手段已不能滿足電子直寫光刻機對電子束質量的要求。 只有對聚焦電極改進才是最佳選擇,以下介紹該進后的電極工作原理。通過把電子束壓縮到中心線達到縮束的目的,使電子束分布在條直線
    發(fā)表于 05-07 06:03

    光刻機用納米位移系統(tǒng)設計

    光刻機用納米位移系統(tǒng)設計
    的頭像 發(fā)表于 02-06 09:38 ?359次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機</b>用納米位移系統(tǒng)設計

    如何提高光刻機的NA值

    本文介紹了如何提高光刻機的NA值。 為什么光刻機希望有更好的NA值?怎樣提高? ? 什么是NA值? ? 如上圖是某型號的光刻機配置,每光刻機
    的頭像 發(fā)表于 01-20 09:44 ?1005次閱讀
    如何提高<b class='flag-5'>光刻機</b>的NA值

    光刻機的分類與原理

    本文主要介紹光刻機的分類與原理。 ? 光刻機分類 光刻機的分類方式很多。按半導體制造工序分類,光刻設備有前道和后道之分。前道光刻機包括芯片
    的頭像 發(fā)表于 01-16 09:29 ?1791次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機</b>的分類與原理

    組成光刻機的各個分系統(tǒng)介紹

    ? 本文介紹了組成光刻機的各個分系統(tǒng)。 光刻技術作為制造集成電路芯片的重要步驟,其重要性不言而喻。光刻機是實現(xiàn)這工藝的核心設備,它的工作原理類似于傳統(tǒng)攝影中的曝光過程,但精度要求極高
    的頭像 發(fā)表于 01-07 10:02 ?1744次閱讀
    組成<b class='flag-5'>光刻機</b>的各個分系統(tǒng)介紹

    日本首臺EUV光刻機就位

    本月底完成。 Rapidus 計劃 2025 年春季使用最先進的 2 納米工藝開發(fā)原型芯片,于 2027 年開始大規(guī)模生產(chǎn)芯片。 EUV 機器結合了特殊光源、鏡頭和其他技術,可形成超精細電路圖案。該系統(tǒng)體積小,不易受到振動和其他干擾。 ASML 是全球唯
    的頭像 發(fā)表于 12-20 13:48 ?706次閱讀
    日本首臺<b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻機</b>就位

    光刻機的工作原理和分類

    ,是半導體產(chǎn)業(yè)皇冠上的明珠。芯片的加工過程對精度要求極高,光刻機通過系列復雜的技術手段,將光束透射過畫著線路圖的掩模,經(jīng)物鏡補償各種光學誤差,將線路圖成比例縮小后映射到硅片上,然后使用化學方法顯影,得到刻在硅片上的電路圖
    的頭像 發(fā)表于 11-24 09:16 ?4976次閱讀

    光刻機巨頭拋出重磅信號 阿斯麥(ASML)股價大幅上漲

    在2024年投資者會議上,光刻機巨頭拋出重磅利好;緊接著ASML股價開始大幅拉升;度上漲超5%。截止收盤上漲2.9%。 阿斯麥在會議上宣布,預計2030年的銷售額將在440億歐元至600億歐元之間
    的頭像 發(fā)表于 11-15 19:48 ?5747次閱讀

    今日看點丨 2011億元!比亞迪單季營收首次超過特斯拉;三星將于2025年初引進High NA EUV光刻機

    光刻機售價約3.5億美元(約合人民幣25億元),遠高于ASML標準EUV系列的1.8億~2億美元。High NA系統(tǒng)具有8
    發(fā)表于 10-31 10:56 ?970次閱讀

    光刻機巨頭阿斯麥業(yè)績爆雷 ASML股價暴跌16.26%創(chuàng)最大的單日跌幅

    在當?shù)貢r間周二,荷蘭光刻機巨頭阿斯麥公布份不及預期的第三季度業(yè)績報告;訂單量環(huán)比下降53%,?業(yè)績爆雷第時間反應到ASML公司的股價暴
    的頭像 發(fā)表于 10-16 16:49 ?1163次閱讀

    ASML擬于2030年推出Hyper-NA EUV光刻機,將芯片密度限制再縮小

    ASML再度宣布新光刻機計劃。據(jù)報道,ASML預計2030年推出的Hyper-NA極紫外光EUV),將縮小最高電晶體密度芯片的設計限制。
    的頭像 發(fā)表于 06-18 09:57 ?756次閱讀

    光刻巨人去世 阿斯麥(ASML)光刻機巨頭聯(lián)合創(chuàng)始人去世

    圈內突發(fā)噩耗,光刻巨人去世; 阿斯麥(ASML)光刻機巨頭聯(lián)合創(chuàng)始人維姆?特羅斯特去世。 據(jù)外媒報道,在當?shù)貢r間11日晚,荷蘭光刻機巨頭阿斯麥(AS
    的頭像 發(fā)表于 06-13 15:13 ?7317次閱讀

    Rapidus對首代工藝中0.33NA EUV解決方案表示滿意,未采用高NA EUV光刻機

    在全球四大先進制程代工巨頭(包括臺積電、三星電子、英特爾以及Rapidus)中,只有英特爾明確表示將使用High NA EUV光刻機進行大規(guī)模生產(chǎn)。
    的頭像 發(fā)表于 05-27 14:37 ?865次閱讀

    后門!ASML可遠程鎖光刻機

    來源:國芯網(wǎng),謝謝 編輯:感知芯視界 Link 5月22日消息,據(jù)外媒報道,臺積電從ASML購買的EUV極紫外光刻機,暗藏后門,可以在必要的時候執(zhí)行遠程鎖定! 據(jù)《聯(lián)合早報》報道,荷蘭方面在
    的頭像 發(fā)表于 05-24 09:35 ?809次閱讀