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臺積電提供了最新N4 工藝的預覽進程?

旺材芯片 ? 來源:EETOP ? 作者:EETOP ? 2020-08-31 11:09 ? 次閱讀

臺積電近日在線上研討會上透露了有關于先進制程的大量資訊,目前剛量產的5 納米制程良率已經迅速超過7 納米,對于蘋果A14X 芯片以及AMD Zen 4 處理器都是非常好的消息。

通常半導體制程良率是隨著時間而下降,并獲得更高的產量,也就是學習曲線的概念。不過臺積電表示,盡管5 納米是更先進的制程,但學習曲線表現比7 納米更好,使量產非常順利,而5 納米強化版制程N5P 也即將于明年開始量產,性能將再度提高5%,或功耗降低10%。

基本上只要缺陷數低于0.5/cm2就算是合格的良率,目前已相當成熟的7納米制程0.09/cm 2,但才剛量產不久的5納米制程良率就已達到了0.1 /cm2,顯示出過往更好的學習曲線,這可能主是得益于EUV技術的應用,減少了工藝步驟,原本需要4步DUV如今EUV能一次完成,降低了生產風險,如此下一季5納米良率就將比7納米更好。

目前來看5 納米將會給臺積電帶來更強的競爭力,不僅如此,臺積電還提供了最新N4 工藝的預覽,N4 除了通過減少掩模層來簡化工藝外,還提供了一條直接遷移路徑,可以全面兼容5 納米設計生態,預期將于明年底試產,2022 年實現量產。

而臺積電下一代的N3 工藝將成為世界上最先進的邏輯技術,又會再度出現性能的飛躍與5 納米相比將實現全節點的技術進步,性能再度提高15%、功耗降低30%、邏輯密度提高70%。但值得注意的是,3納米仍然會是FinFET,這點倒是令市場相當意外,預計要到2納米才會采用GAA。

當然面對質疑,臺積電也表示,經過與客戶的協商,3 納米制程預期的成本及性能表現已受到廣泛的支持。盡管三星宣稱在3 納米將使用GAA,但臺積電仍相當胸有成竹。當然臺積電仍在持續探索3 納米以下的技術,例如納米碳管等新材料的應用,不過目前來看單一晶體管的性能提升已漸趨有限,需要更好的設計才能達到更高的效率。

臺積電目前已將眼光放到更進一步的2 納米制程上。在25 日展開的「2020 臺積電全球技術論壇」中,臺積電營業組織資深副總經理秦永沛正式宣布,臺積電未來的2納米制程將會選擇落腳新竹,而目前興建晶圓廠的土地正在取得當中。
責任編輯:pj

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原文標題:企業 | 越做越強的臺積電:5納米良率比7納米更高、3納米繼續用FinFET、2納米工廠即將開建!

文章出處:【微信號:wc_ysj,微信公眾號:旺材芯片】歡迎添加關注!文章轉載請注明出處。

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