女人自慰AV免费观看内涵网,日韩国产剧情在线观看网址,神马电影网特片网,最新一级电影欧美,在线观看亚洲欧美日韩,黄色视频在线播放免费观看,ABO涨奶期羡澄,第一导航fulione,美女主播操b

0
  • 聊天消息
  • 系統消息
  • 評論與回復
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學習在線課程
  • 觀看技術視頻
  • 寫文章/發帖/加入社區
會員中心
創作中心

完善資料讓更多小伙伴認識你,還能領取20積分哦,立即完善>

3天內不再提示

光刻機運動臺系統建模與優化

集成電路應用雜志 ? 來源:集成電路應用雜志 ? 2020-07-14 10:57 ? 次閱讀

光刻機運動臺系統建模與優化

0 引言

光刻機的結構原理如圖1所示,汞燈發出的光源經過照明系統的勻化,將掩模上的圖形成像到硅片上,在光刻機中,投影物鏡系統是最核心的部件,決定了最終的成像效果,其內部包含很多精密鏡片,不適合進行移動,所以步進光刻機的重復曝光過程是通過工件臺的步進運動實現的,運動是光刻機的關鍵子系統,是實現功能和精度的基礎。

隨著光刻技術的發展,對產率和套刻精度提出了越來越高的要求,運動臺的運動速度影響了光刻機的產率,其定位精度影響了光刻機的套刻精度,光刻機對運動臺系統的精度和穩定性提出了非常高的要求。

因此,需要對運動臺系統進行動力學性能的研究,并進行最終的運動控制性能仿真,保證運動臺系統的性能。本文根據運動臺結構模型,提出了運動臺系統建模與優化方法,并建立了運動臺系統的多體動力學模型,為后續運動控制系統仿真提供較為準確的被控對象。

1 運動臺結構

本文所研究的對象為運動臺,其結構原理如圖2所示,該運動臺系統應用于步進光刻機,具有六自由度運動,水平向運動通過直線電機進行驅動,使用氣浮軸承進行導向,氣浮軸承懸浮在大理石表面,減小運動摩擦,從而提高運動性能,采用激光干涉儀作為測量系統,提高測量精度。

2 多體動力學建模與優化

2.1 多體動力學模型

多剛體動力學模型的簡化的流程如圖3所示,根據運動臺系統的結構模型,參考零部件的柔性分析結果,用簡化的力元模型代替剛體之間的柔性連接,使用運動副建立剛體之間的運動連接,從而建立運動臺系統的多剛體動力學模型。

2.2 多體動力學模型參數的優化

建立了運動臺系統的仿真模型后,需要對運動臺系統的動力學特性進行分析,包括:振動模態分析、傳遞函數分析和動力學響應分析,以確定結構系統中的薄弱環節。

根據模型設計中的薄弱環節,需要進行動力學性能優化,優化的方法為確定對運動臺動力學特性影響最大的幾個參數,然后針對這幾個參數進行動力學優化,從而達到設計要求。

動力學分析與優化的流程如圖4所示。

2.3 參數靈敏度分析

結構設計中包含多個動力學參數,為了提高優化的效率,快速定位需要優化的對象,需要針對設計參數進行靈敏度分析,從而為結構動力學特性的優化提供方向。

結構參數靈敏度分析方法一般有兩種,直接求導法與伴隨結構法[1-3]。直接求導法物理概念明確,數學推導簡單,計算方便,適用于結構參數變化較大情況下的靈敏度分析計算。伴隨結構法一般用于計算一階靈敏度,但公式推導及計算復雜,概念不直觀。因此,本文采用直接求導法進行動力學參數的靈敏度分析方法。

本文開發的參數靈敏度分析方法,是以模態分析為基礎,通過調整模態頻率的數值,計算不同參數的變化值,從而得到模態頻率對該參數的靈敏度系數。詳細的計算過程如式(1)。

(1)

其中,fN第N階模態頻率;pr優化參數的編號;SNr模態頻率對參數的靈敏度系數。

從前文的仿真結果可知,運動臺系統一階模態頻率為55Hz,而設計要求運動臺系統的一階模態頻率大于70Hz,從而可知初始的設計不能滿足系統性能要求,需要對系統的動態性能進行優化,以滿足設計要求。

本文選擇Y向電機橫梁的連接剛度作為參數靈敏度分析的對象,以確定對一階模態頻率影響最大的結構參數,用于指導后續的優化工作。分析的結果如圖5。

從圖5可以看出對運動臺系統一階模態頻率影響最大的參數是Kx_WS,后續工作中將該參數作為優化首選的參數。

2.4 參數優化

當初始的設計不能滿足設計要求時,需要對設計結果進行優化,優化的內容包括:模態頻率優化、傳遞函數優化等。

模態頻率優化的主要方法為:根據參數靈敏度分析結果,確定對結構模態影響最大的結構參數,以該參數作為優化對象,通過不斷地進行參數數值的調整,計算不同參數下,結構系統的模態頻率,最終使指定的模態頻率滿足設計要求。

結構參數優化的計算公式為式(2)。

(2)

得到優化時的迭代步長為式(3)。

(3)

參數的當前值+迭代步長作為下一次計算時的參數值,不斷重復上面的迭代過程,一直到模態頻率達到設計的目標。

根據前面參數靈敏度分析的結果可知,選定優化的參數為Kx_WS,設定一階模態頻率的目標設為80Hz,優化的結果如圖6。可知,將參數調整到413N/m時,運動臺系統的一階模態頻率可優化到74.8Hz,滿足設計優化需求。

在多體動力學模型中,將該參數調整為413N/m,重新計算運動臺系統的各階模態頻率,計算結果如表1(只列出前5階模態頻率)。

由表1可知:優化后的運動臺系統結構的一階模態頻率大于70Hz,滿足優化目標要求,根據該優化結果,進行結構模型的優化和改進。

3 實驗驗證

本文根據優化后的結構,搭建運動臺的實體結構,并對實體結構進行模態測試,以驗證仿真模型的正確性。

采用錘擊法進行模態測試,其測試原理如圖7所示,通過力錘對被測對象進行激勵,通過加速度傳感器測量被測對象被激勵后的響應,通過響應結果與激勵信號計算得出被測對象的頻響函數。

頻響函數測試的基本系統由三部分組成,即:激勵部分、傳感部分和分析技術[4]。根據運動臺系統的頻寬要求,本文采用橡膠錘頭進行激勵,測量傳感器采用加速度傳感器,它產生的信號在遠低于它的固有頻率的頻帶內與加速度成正比[5],通過硅膠將加速度傳感器固定在被測對象上。

本文在模態測試過程中,采用多點激勵,單點測量的方式,運動臺上試驗激勵點與測量點布點如圖8所示。通過以上錘擊進行測試,獲得了運動臺系統上測量點在不同激勵點下的加速度響應曲線。測試結果如圖9所示。

使用共振峰值法分析模態測試結果,當幅頻曲線上的模態分離較開時,該峰值為運動臺系統對應的結構模態頻率。試驗結果與仿真結果的對比,如表2所示。從仿真結果和試驗結果表明主要幾階模態的誤差不大,說明仿真模型能夠較好地表征運動臺的動態特性。

4 結語

本文根據運動臺的結構模型,建立了運動臺系統動力學模型,并對關鍵參數進行優化,以滿足運動臺系統的動力學性能要求,最后將建模仿真的結果與實際的測試結果進行比對,比對結果表明仿真模型基本能體現運動臺系統的結構動態特性,從而驗證仿真模型的準確性。

聲明:本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內容侵權或者其他違規問題,請聯系本站處理。 舉報投訴
  • 建模
    +關注

    關注

    1

    文章

    315

    瀏覽量

    61397
  • 光刻機
    +關注

    關注

    31

    文章

    1163

    瀏覽量

    48023

原文標題:光刻機運動臺系統建模與優化

文章出處:【微信號:appic-cn,微信公眾號:集成電路應用雜志】歡迎添加關注!文章轉載請注明出處。

收藏 人收藏

    評論

    相關推薦
    熱點推薦

    電子直寫光刻機駐極體圓筒聚焦電極

    電子直寫光刻機駐極體圓筒聚焦電極 隨著科技進步,對電子顯微鏡的精度要求越來越高。電子直寫光刻機的精度與電子波長和電子束聚焦后的焦點直徑有關,電子波長可通過增加加速電極電壓來減小波長,而電子束聚焦后
    發表于 05-07 06:03

    成都匯陽投資關于光刻機概念大漲,后市迎來機會

    【2025年光刻機市場的規模預計為252億美元】 光刻機作為半導體制造過程中價值量和技術壁壘最高的設備之一,其在半導體制造中的重要性不言而喻。 目前,全球市場對光刻機的需求持續增長,尤其是在先
    的頭像 發表于 04-07 09:24 ?443次閱讀

    光刻機用納米位移系統設計

    光刻機用納米位移系統設計
    的頭像 發表于 02-06 09:38 ?363次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機</b>用納米位移<b class='flag-5'>系統</b>設計

    如何提高光刻機的NA值

    本文介紹了如何提高光刻機的NA值。 為什么光刻機希望有更好的NA值?怎樣提高? ? 什么是NA值? ? 如上圖是某型號的光刻機配置,每代光刻機的NA值會比上一代更大一些。NA,又名
    的頭像 發表于 01-20 09:44 ?1012次閱讀
    如何提高<b class='flag-5'>光刻機</b>的NA值

    光刻機的分類與原理

    本文主要介紹光刻機的分類與原理。 ? 光刻機分類 光刻機的分類方式很多。按半導體制造工序分類,光刻設備有前道和后道之分。前道光刻機包括芯片
    的頭像 發表于 01-16 09:29 ?1792次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機</b>的分類與原理

    VirtualLab Fusion案例:K域和X域中的系統建模

    介紹System Modeling Analyzer(系統建模分析器),這種工具允許光學工程師在光場通過系統時詳細追跡光場(及其平面波角譜)傳播。這對于故障排除以及對系統特性行為的進一步了解非常
    發表于 01-15 08:56

    VirtualLab:系統建模分析器

    ,系統建模分析器。本文檔介紹該工具的使用方法。 系統建模分析器 如何運行建模分析器 系統建模分析器 例1:光束清理濾波器 示例 – 光束清理濾波器 光束清理濾波器 – 光源
    發表于 01-14 09:45

    組成光刻機的各個分系統介紹

    ? 本文介紹了組成光刻機的各個分系統。 光刻技術作為制造集成電路芯片的重要步驟,其重要性不言而喻。光刻機是實現這一工藝的核心設備,它的工作原理類似于傳統攝影中的曝光過程,但精度要求極高
    的頭像 發表于 01-07 10:02 ?1756次閱讀
    組成<b class='flag-5'>光刻機</b>的各個分<b class='flag-5'>系統</b>介紹

    VirtualLab Fusion:系統建模分析器

    ,系統建模分析器。本文檔介紹該工具的使用方法 系統建模分析器 如何運行建模分析器 系統建模分析器 例1:光束清理濾波器 示例 – 光束清理濾波器 光束清理濾波器 – 光源 光
    發表于 01-04 08:45

    VirtualLab:系統建模分析器

    系統建模分析器。本文檔介紹該工具的使用方法。 系統建模分析器 如何運行建模分析器 系統建模分析器 例1:光束清理濾波器 示例 – 光束清理濾波器 光束清理濾波器 – 光源
    發表于 12-19 12:36

    用來提高光刻機分辨率的浸潤式光刻技術介紹

    ? 本文介紹了用來提高光刻機分辨率的浸潤式光刻技術。 芯片制造:光刻技術的演進 過去半個多世紀,摩爾定律一直推動著半導體技術的發展,但當光刻機的光源波長卡在193nm,芯片制程縮小至6
    的頭像 發表于 11-24 11:04 ?1964次閱讀
    用來提高<b class='flag-5'>光刻機</b>分辨率的浸潤式<b class='flag-5'>光刻</b>技術介紹

    光刻機的工作原理和分類

    ? 本文介紹了光刻機在芯片制造中的角色和地位,并介紹了光刻機的工作原理和分類。? ? ? ?? 光刻機:芯片制造的關鍵角色 ? ? 光刻機在芯片制造中占據著至關重要的地位,被譽為芯片制
    的頭像 發表于 11-24 09:16 ?4985次閱讀

    一文看懂光刻機的結構及雙工件技術

    光刻機作為IC制造裝備中最核心、技術難度最大的設備,其重要性日益凸顯。本文將從光刻機的發展歷程、結構組成、關鍵性能參數以及雙工件技術展開介紹。 一、光刻機發展歷程
    的頭像 發表于 11-22 09:09 ?3738次閱讀
    一文看懂<b class='flag-5'>光刻機</b>的結構及雙工件<b class='flag-5'>臺</b>技術

    simulink動態系統建模仿真-第9章

    電子發燒友網站提供《simulink動態系統建模仿真-第9章.ppt》資料免費下載
    發表于 07-26 11:47 ?1次下載

    俄羅斯首臺光刻機問世

    據外媒報道,目前,俄羅斯首臺光刻機已經制造完成并正在進行測試。 俄羅斯聯邦工業和貿易部副部長瓦西里-什帕克(Vasily Shpak)表示,已組裝并制造了第一國產光刻機,作為澤廖諾格勒技術生產線
    的頭像 發表于 05-28 15:47 ?1022次閱讀