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三星發(fā)力!提振FD-SOI產(chǎn)業(yè)信心

YCqV_FPGA_EETre ? 來源:YXQ ? 2019-08-06 16:18 ? 次閱讀

三星在發(fā)現(xiàn)FD-SOI工藝的優(yōu)勢后迅速進入FD-SOI代工領(lǐng)域(這跟我們本土某些代工廠游移不定,瞻前顧后形成鮮明對比),在獲得了ST Micro的28納米FD-SOI工藝許可后,利用它創(chuàng)建了三星的28納米FDS工藝,28 FDS于2015年投入生產(chǎn),目前正在大批量生產(chǎn)17種產(chǎn)品。在上屆論壇上,三星沒有公布未來藍圖計劃,讓業(yè)界懷疑它在FD-SOI工藝上處于觀望, 不過,今年的論壇上,三星高級副總裁Gitae Jeong公布了三星18FDS更多細節(jié),讓業(yè)界信心大振,我看到很多業(yè)者都露出了會心的微笑。

Gitae Jeong表示,現(xiàn)在產(chǎn)業(yè)界正在向第四次革命邁進,在第四次產(chǎn)業(yè)革命中,F(xiàn)D-SOI可以扮演著至關(guān)重要的作用。首先對于IoT系統(tǒng)來說,年復(fù)合增長率將達20%以上,包括處理器、傳感及連接都有對低功耗和低價格的需求。他表示未來IoT芯片將是多IP組成的單芯片,包括eMRAM、邏輯以及射頻等組成存儲、處理及連接等系統(tǒng),以實現(xiàn)最低功耗和最小封裝尺寸。

基于這樣的發(fā)展趨勢,三星電子制定了長期的FD-SOI工藝發(fā)展計劃,這是三星電子在FD-SOI工藝的規(guī)劃!

在工藝發(fā)展上,三星采取的是穩(wěn)扎穩(wěn)打的節(jié)奏,目前第一階段是針對物聯(lián)網(wǎng)應(yīng)用,主打28LPP+eFlash+RF,第二階段是28FDS+eMRAM+RF,它將是28nm最具競爭力的產(chǎn)品,相比較28LPP,速度提升25%。到明年初,三星18FDS將會正式問世,相比28FDS,速度進一步提升20%,同時面積減少35%。到了2020年,RF/eMRAM結(jié)合的產(chǎn)品將會大規(guī)模問世。

Gitae Jeong特別強調(diào)了28FDS目前已經(jīng)實現(xiàn)了95%的良率!在射頻方面優(yōu)勢明顯,28FDS可以覆蓋毫米波28GHZ,38GHZ 到70-85GHZ范圍產(chǎn)品,而且第一代5G毫米波蜂窩射頻產(chǎn)品(28GHZ收發(fā)器)就是在28FDS上驗證的,他舉例說某客戶前一代 產(chǎn)品采用40nm工藝,改用28FDS后,射頻功耗下降了76%,處理器功耗下降了65%!

他特別強調(diào)了三星代工廠的SAFE(Samsung Advanced Foundry Ecosystem)生態(tài)系統(tǒng),這是一個多方協(xié)作的,用于友好的生態(tài)系統(tǒng),通過和不同的IP、EDA、設(shè)計服務(wù)公司合作,提供基礎(chǔ)庫,目前已擁有眾多經(jīng)過驗證的IP平臺。

Gitae Jeong公布了三星18 FDS更多技術(shù)細節(jié),利用三星28FD-SOI的量產(chǎn)經(jīng)驗結(jié)合14nm的后道工藝聯(lián)合實現(xiàn),突出的特點是低功耗低成本,更小的邏輯單元以及針對IOT優(yōu)化的工藝,所以未來它可為MCU/IoT產(chǎn)品提供集成RF和eMRAM的能力,使其具有更小尺寸、更低功耗和更低價格。

他透露相比28FDS,18FDS可以實現(xiàn)50%以下功耗,65%的面積以及22%的性能提升。他表示與體硅工藝相比,F(xiàn)D-SOI工藝有更高的本征增益,而且有更低的閃爍噪聲(1/f噪聲)和晶體管失配,堪稱是模擬設(shè)計方面最佳工藝。這些在實際中都已經(jīng)得到了驗證。

老張認(rèn)為三星18FDS的推出可能真會改寫MCU未來發(fā)展歷史了,目前MCU多采用130nm,65nm,55nm工藝,很多廠商對于提升MCU工藝興趣不大,認(rèn)為高級工藝讓MCU面積更小,更便宜更不容易賺錢,而FD-SOI通過強大的集成能力降低了芯片成本并大大降低了功耗,估計很多MCU廠商會考慮跟進,如果MCU器件倒向FD-SOI工藝,則FD-SOI真的會迎來大爆發(fā)!本土MCU廠商中誰會是第一個采用FD-SOI工藝的呢?

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原文標(biāo)題:PYNQ直播:加速電機控制應(yīng)用中的邊緣分析和機器學(xué)習(xí)部署

文章出處:【微信號:FPGA-EETrend,微信公眾號:FPGA開發(fā)圈】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。

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