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EUV光刻技術(shù) - 即將在芯片上繪制微小特征的下一代技術(shù) – 原來是預(yù)計在2012年左右投產(chǎn)。但是幾年過去了，EUV已經(jīng)遇到了一些延遲，將技術(shù)從一個節(jié)點推向下一個階段，本單元詳細(xì)介紹了EUV光刻機，EUV光刻機技術(shù)的技術(shù)應(yīng)用，EUV光刻機的技術(shù)、市場問題，國產(chǎn)euv光刻機發(fā)展等內(nèi)容。

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日本和荷蘭簽署半導(dǎo)體合作備忘錄共同推進2nm***合作

據(jù)日本經(jīng)濟新聞報道，日本經(jīng)濟產(chǎn)業(yè)省和荷蘭經(jīng)濟和氣候政策省于6月21日簽署了促進半導(dǎo)體領(lǐng)域等合作的合作備忘錄（MOC: Memorandum of Coo...

2023-06-27 標(biāo)簽：半導(dǎo)體光刻機 EUV 1239 0

日本光刻膠巨頭JSR同意國家收購

JSR 是全球僅有的四家 EUV 光刻膠供應(yīng)商之一，其產(chǎn)品是制造先進芯片必不可少的原料。

2023-06-27 標(biāo)簽：光刻機 EUV EUV光刻機 1179 0

***技術(shù)有多難搞？我國***發(fā)展現(xiàn)狀

搞光刻機必須要有搞核彈的精神，但只有這種精神是不夠的！光刻機畢竟不是核彈，光刻機從試驗機改良成量產(chǎn)機，需要與產(chǎn)線相結(jié)合試驗生產(chǎn)，這些步驟是不可能秘密進行的。

2023-06-27 標(biāo)簽：光刻機 EUV ASML 1.1萬 0

日本與荷蘭簽署半導(dǎo)體合作備忘錄

euv極紫外光刻機是目前最先進的半導(dǎo)體制造設(shè)備，用于7納米以下工程的半導(dǎo)體制造。荷蘭對這種尖端設(shè)備實施出口控制，限制對中國的出口。據(jù)《日本經(jīng)濟新聞》報道...

2023-06-26 標(biāo)簽：光刻機半導(dǎo)體制造 EUV 777 0

Aston 過程質(zhì)譜應(yīng)用于 EUV 極紫外光源鹵化錫原位定量

上海伯東日本 Atonarp Aston? 過程質(zhì)譜分析儀通過快速, 可操作, 高靈敏度的分子診斷數(shù)據(jù)實現(xiàn)了更佳的反射板鍍錫層清潔, 并且 Aston?...

2023-06-20 標(biāo)簽：晶圓 EUV EUV光刻機 694 0

下一代EUV***長啥樣？

EUV 曝光用光源的輸出功率一直在穩(wěn)步增加，傳統(tǒng)型號為 250W 至 300W，最新型號 3600D 的功率增加到 350W。在研究層面，已經(jīng)做到了60...

2023-06-19 標(biāo)簽：光刻機 EUV 光刻膠 553 0

193i光刻技術(shù)再次走向舞臺中心

與此相關(guān)的是打印弧形特征而不是直線特征的能力。Levinson說：”你用曲線特征得到的工藝窗口要比直線近似的好。有一些障礙，人們正在努力解決這些問題。但...

2023-06-19 標(biāo)簽：芯片光刻技術(shù)EUV 1228 0

主宰半導(dǎo)體先進制程，全球***龍頭AMSL的發(fā)展史

技術(shù)升級階段 (2007 至今)：該階段公司技術(shù)不斷升級，推出一系列創(chuàng)新產(chǎn)品，于 2010 年推出全球首臺 EUV 光刻機 NXE3100，并于 20...

2023-06-19 標(biāo)簽：半導(dǎo)體光刻機 EUV 6184 0

2022年全球晶圓廠設(shè)備收入同比增長9%

2024年將是設(shè)備行業(yè)的大年。

2023-06-13 標(biāo)簽：半導(dǎo)體晶圓光刻機 844 0

ASML的EUV***研發(fā)歷程

asml是euv技術(shù)開發(fā)的領(lǐng)先者。asml公司是半導(dǎo)體領(lǐng)域光刻機生產(chǎn)企業(yè)的領(lǐng)頭羊，也是全球市場占有率最大的光刻機生產(chǎn)企業(yè)。2012年，asml推出了世界...

2023-06-08 標(biāo)簽：光刻機 EUV ASML 4394 0

首個量子芯片生產(chǎn)線獲“超視力”

由于美國的干涉，asml的極紫外線光刻機無法出口到中國，甚至深度紫外線光刻機也受到了限制。很明顯，美國不會放松對 EUV光刻機的出口限制。

2023-06-01 標(biāo)簽：紫外線光刻機 EUV 2116 0

什么是EUV***？

需要明確什么是EUV光刻機。它是一種采用極紫外線光源進行曝光的設(shè)備。與傳統(tǒng)的ArF光刻機相比，EUV光刻機可以將曝光分辨率提高到7納米以下的超高級別，從...

2023-05-22 標(biāo)簽：光刻機 EUV 7nm芯片 4527 0

EUV光刻的無名英雄

晶圓廠通常使用光刻膠來圖案化抗蝕刻硬掩模，然后依靠硬掩模來保護晶圓。但是，如果光刻膠太薄，它可能會在第一個轉(zhuǎn)移步驟完成之前被侵蝕掉。隨著光刻膠厚度的減小...

2023-04-27 標(biāo)簽：晶圓廠光刻 EUV 1232 0

在毫米級晶圓上，繪制納米級圖案

三星電子晶圓代工事業(yè)部在國際互連技術(shù)大會（IITC, International Interconnect Technology Conference）...

2023-04-25 標(biāo)簽：晶圓光刻 EUV 824 0

中國最先進的***是多少納米？

中國在芯片制造領(lǐng)域一直在追趕先進的技術(shù)，雖然在一些關(guān)鍵技術(shù)方面還存在一定差距，但近年來中國在光刻機領(lǐng)域取得了一些進展，下面將詳細(xì)介紹中國目前最先進的光刻...

2023-04-24 標(biāo)簽：納米光刻機 EUV 6.3萬 0

EUV的失敗挑戰(zhàn)者，NIL站穩(wěn)腳跟

NIL 與光學(xué)光刻的不同之處在于，NIL 使用由電子束系統(tǒng)圖案化的主印模副本將圖像直接轉(zhuǎn)移到硅晶片和其他基板上。低粘度光刻膠通過噴射沉積在基板上，類似于...

2023-04-23 標(biāo)簽：光學(xué)生物技術(shù)EUV 1606 0

ASML真的壓貨太多了嗎？

最近聽到一則消息說是ASML說是壓貨太多，但是其實我們買都買不到。

2023-04-21 標(biāo)簽：光刻機 EUV ASML 1345 0

下一代EUV***，關(guān)鍵技術(shù)拆解！

但imec先進成像、工藝和材料高級副總裁斯蒂芬·希爾（Steven Scheer）在接受采訪時非常理性地指出，要經(jīng)濟高效地引入High NA EUV光刻...

2023-03-17 標(biāo)簽：光刻機光刻技術(shù)EUV 1695 0

淺談下一代***工藝相關(guān)的突破性解決方案

High NA EUVL 的出現(xiàn)將進一步提高分辨率并減小特征尺寸，同時降低焦深。這當(dāng)然會導(dǎo)致薄膜（film）厚度縮小，這需要實施新的光刻膠和underl...

2023-03-08 標(biāo)簽：光刻機 EUV 光刻膠 787 0

我國順利突破EUV***技術(shù) 哈工大突破***核心部件

眾所周知，光刻機主要包括：光源系統(tǒng)、浸液系統(tǒng)、光學(xué)系統(tǒng)、工件臺掩模臺系統(tǒng)。

2023-03-02 標(biāo)簽：光刻機 EUV 3.1萬 0

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