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      標簽　>　euv

      euv

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      EUV光刻技術 - 即將在芯片上繪制微小特征的下一代技術 – 原來是預計在2012年左右投產。但是幾年過去了，EUV已經(jīng)遇到了一些延遲，將技術從一個節(jié)點推向下一個階段，本單元詳細介紹了EUV光刻機，EUV光刻機技術的技術應用，EUV光刻機的技術、市場問題，國產euv光刻機發(fā)展等內容。

      文章：595個 瀏覽：86933次 帖子：0個

      euv資訊

      IMEC發(fā)布低至1nm及以上的邏輯器件路線圖

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      全球EUV光刻專利哪家強？卡爾蔡司位居第一

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      IT之家 11 月 16 日消息 據(jù)韓國媒體 BusinessKorea 上周報道，韓國本土企業(yè)在 EUV 光刻技術方面取得了極大進展。但并沒有提到是哪...

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