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標簽 > 白光干涉儀
干涉儀是一種對光在兩個不同表面反射后形成的干涉條紋進行分析的儀器。其基本原理就是通過不同光學元件形成參考光路和檢測光路。
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解鎖微觀測量新境界:光學3D輪廓儀與共聚焦顯微成像的結合應用
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納米壓印制備硅基 OLED 微型顯示器的方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量
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金屬低蝕刻率光刻膠剝離液組合物應用及白光干涉儀在光刻圖形的測量
引言 在半導體及微納制造領域,光刻膠剝離工藝對金屬結構的保護至關重要。傳統剝離液易造成金屬過度蝕刻,影響器件性能。同時,光刻圖形的精確測量是保障工藝質量...
避免寄生柵極效應和斜紋 Mura 的光刻膠剝離裝置及白光干涉儀在光刻圖形的測量
引言 在半導體和顯示面板制造過程中,光刻膠剝離環節若處理不當,易引發寄生柵極效應和斜紋 Mura 問題,嚴重影響產品性能和顯示質量。同時,光刻圖形的精確...
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