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標(biāo)簽 > 刻蝕機(jī)
刻蝕機(jī)是一種用于電子與通信技術(shù)領(lǐng)域的工藝試驗(yàn)儀器,于2012年5月14日啟用,在半導(dǎo)體和線路板制程上,蝕刻更是不可或缺的技術(shù)。
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隨著基于鈮酸鋰 LN 的光源, 光調(diào)制, 光探測(cè)等重要器件的實(shí)現(xiàn), 鈮酸鋰 LN 光子集成芯片有望像硅基集成電路一樣, 成為高速率, 高容量, 低能耗光...
刻蝕機(jī)是干什么用的 刻蝕機(jī)和光刻機(jī)的區(qū)別
刻蝕機(jī)的刻蝕過(guò)程和傳統(tǒng)的雕刻類似,先用光刻技術(shù)將圖形形狀和尺寸制成掩膜,再將掩膜與待加工物料模組裝好,將樣品置于刻蝕室內(nèi),通過(guò)化學(xué)腐蝕或物理磨蝕等方式將...
干法刻蝕技術(shù)是一種在大氣或真空條件下進(jìn)行的刻蝕過(guò)程,通常使用氣體中的離子或化學(xué)物質(zhì)來(lái)去除材料表面的部分,通過(guò)掩膜和刻蝕參數(shù)的調(diào)控,可以實(shí)現(xiàn)各向異性及各向...
半導(dǎo)體設(shè)備主要應(yīng)用于集成電路的制造和封測(cè)環(huán)節(jié),可細(xì)分為晶圓制造設(shè)備(前道設(shè)備)和封裝、測(cè)試設(shè)備(后道設(shè)備)。其中,前道設(shè)備主要有光刻機(jī)、刻蝕機(jī)、薄膜沉積...
淺談Micro OLED生產(chǎn)環(huán)節(jié)
OLED制程。①OLED陽(yáng)極。②蒸鍍OLED器件。蒸鍍和傳統(tǒng)OLED不一樣,沒(méi)有這么密的mask,需要先白光,再加濾光。③封裝,即薄膜封裝層。④CF彩色...
2023-12-04 標(biāo)簽:OLED光刻Micro OLED 3378 0
干法刻蝕的負(fù)載效應(yīng)是怎么產(chǎn)生的?有什么危害?如何抑制呢?
有過(guò)深硅刻蝕的朋友經(jīng)常會(huì)遇到這種情況:在一片晶圓上不同尺寸的孔或槽刻蝕速率是不同的。
半導(dǎo)體工藝裝備現(xiàn)狀及發(fā)展趨勢(shì)
集成電路前道工藝及對(duì)應(yīng)設(shè)備主要分八大類,包括光刻(光刻機(jī))、刻蝕(刻蝕機(jī))、薄膜生長(zhǎng)(PVD-物理氣相沉積、CVD-化學(xué)氣相沉積等薄膜設(shè)備)、擴(kuò)散(擴(kuò)散...
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