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標簽 > 光刻
光刻是平面型晶體管和集成電路生產中的一個主要工藝。是對半導體晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)進行開孔,以便進行雜質的定域擴散的一種加工技術。
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蒸鍍機外加金屬鍍罩的雙重門檻,不僅限制了同業的生產良率,也為其他品牌的手機屏設置了一道分辨率的上限。使其擁有了對其他手機品牌的牽制,最好的案例便是曾經如...
臺積電 | 首次加入EUV極紫外光刻技術 7nm+工藝芯片已量產
臺積電官方宣布,已經開始批量生產7nm N7+工藝,這是臺積電第一次、也是行業第一次量產EUV極紫外光刻技術,意義非凡。
今年10月份SK Hynix才剛剛建成最新的M15晶圓廠,這是2015年全球最大的存儲芯片工廠M14落成時SK Hynix宣布的46萬億韓元投資計劃中的...
隨著三星宣布7nm EUV工藝的量產,2018年EUV光刻工藝終于商業化了,這是EUV工藝研發三十年來的一個里程碑。不過EUV工藝要想大規模量產還有很多...
今年4月開始,臺積電第一代7nm工藝(CLN7FF/N7)投入量產,蘋果A12、華為麒麟980、高通“驍龍855”、AMD下代銳龍/霄龍等處理器都正在或...
在30多年的半導體制造歷史上,最大的一個挑戰就是跟上1965年摩爾做出的預測,即集成電路中的晶體管數目每兩年翻一番。 為了實現這個目的,IC尺寸越來越大...
微機電系統(MEMS)、納米技術以及半導體市場晶圓鍵合和光刻設備領先供應商EV集團(EVG)今日宣布推出IQ Aligner NT,旨針對大容量先進封裝...
世界領先半導體廠商臺積電首席技術官兼研發副總裁孫元成透露了未來臺積電主導“系統超級芯片”市場的詳細計劃。
京瓷株式會社的全資子公司——京瓷金石株式會社(以下簡稱“京瓷金石”)是專門從事水晶元器件開發生產的公司。該公司運用光刻加工技術成功研發出AT切割水晶振動...
麻省理工學院 (MIT)的研究人員表示,已經開發出一種技術,可望提升在芯片上寫入圖案的高速電子束光刻解析度,甚至可達9nm,遠小于原先所預期的尺寸
在SEMICON West上另一個熱點是光刻技術能否達到15nm的經濟制造?半導體業是有希望未來采用EUV技術。
分析:450mm,EUV,TSV都將延遲 現在不用再期待了,根據IC insights公司的數據,看起來兩個兩個正在顯現的重要的IC制造技術都將延遲,...
2010-01-26 標簽:光刻 831 0
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