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      標簽　>　光刻膠

      光刻膠

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      光刻膠（Photoresist）又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。

      文章：311個 瀏覽：30746次 帖子：4個

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      2024-11-25 標簽：晶圓工藝光刻膠 910 0

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      2024-11-15 標簽：光刻膠刻蝕工藝 1531 0

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      光刻技術是現代微電子和納米技術的研發中的關鍵一環，而光刻膠，又是光刻技術中的關鍵組成部分。隨著技術的發展，對微小、精密的結構的需求日益增強，光刻膠的需求...

      2024-11-11 標簽：集成電路光刻技術光刻膠 1457 0

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      過度蝕刻暴露硅晶圓表面可能會導致表面粗糙。當硅表面在HF過程中暴露于OH離子時，硅表面可能會變得粗糙。

      2024-11-05 標簽：硅晶圓蝕刻光刻膠 952 0

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      本文介紹了光刻膠的使用過程與原理。

      2024-10-31 標簽：芯片半導體光刻膠 1171 0

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      隨著線條寬度的不斷縮小，為了防止膠上圖形出現太大的深寬比，提高對比度，應該采用很薄的光刻膠。但薄膠會遇到耐腐蝕性的問題。由此開發出了 雙層光刻膠技術，這...

      2024-10-21 標簽：芯片工藝光刻膠 924 0

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      光刻膠資料下載

      光刻膠az1500產品說明立即下載

      類別：規則標準 2022-08-12 標簽：光刻膠 1257 0

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      光刻膠資訊

      勻膠機轉速對微流控芯片精度的影響

      微流控芯片制造過程中，勻膠是關鍵步驟之一，而勻膠機轉速會在多個方面對微流控芯片的精度產生影響： 對光刻膠厚度的影響 勻膠機轉速與光刻膠厚度成反比關系。旋...

      2025-03-24 標簽：微流控芯片微流控光刻膠 207 0

      微流控勻膠過程簡述

      勻膠機的基本原理和工作方式 勻膠機是一種利用離心力原理，將膠液均勻涂覆在基片上的設備。其基本工作原理是通過程序調控旋轉速度來改變離心力大小，并利用滴膠裝...

      2025-03-06 標簽：微流控光刻膠 267 0

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