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MODEL:XT-01-UVlitho-手動版一、產品簡介光刻技術是現代半導體、微電子、信息產業(yè)的基礎,是集成電路最重要的加工工藝。光刻膠在紫外光的照射...
2022-12-20 標簽:光刻機 2596 0
虹科案例|光刻機汞燈替代者—虹科定制大功率UV-LED平行光源
點擊上方藍字關注我們ClickthebluewordabovetofollowUS虹科定制的高穩(wěn)定UV-LED采用了超高穩(wěn)定度光源驅動技術具有≥99.9...
制造大規(guī)模積體電路時要對半導體晶圓曝光3、40次。為在不降低品質的情況下減少曝光次數,阿斯麥公司在曝光機上使用德國蔡司公司的光路系統,鏡頭使用螢石和石英...
asml是euv技術開發(fā)的領先者。asml公司是半導體領域光刻機生產企業(yè)的領頭羊,也是全球市場占有率最大的光刻機生產企業(yè)。2012年,asml推出了世界...
光刻機是半導體制造領域的核心設備之一,其發(fā)展過程當然是半導體產業(yè)發(fā)展的重要組成部分。雖然我們在網上經常可以看到光刻機的突破性地圖,但事實上,從光刻機的概...
? ? 中芯國際,作為當前我國技術最為先進,工藝最為成熟的芯片半導體代工廠商,堪稱是當下國內半導體行業(yè)“全村的希望”。盡管面臨著技術的限制和先進光刻機設...
由于美國的干涉,asml的極紫外線光刻機無法出口到中國,甚至深度紫外線光刻機也受到了限制。很明顯,美國不會放松對 EUV光刻機的出口限制。
但光板作為芯片生產中不可打破的技術難關和核心技術之一,目前仍被寡頭企業(yè)壟斷。asml就是這個專業(yè)市場的獨角獸企業(yè),技術和市場都無法替代。
需要明確什么是EUV光刻機。它是一種采用極紫外線光源進行曝光的設備。與傳統的ArF光刻機相比,EUV光刻機可以將曝光分辨率提高到7納米以下的超高級別,從...
2023年中國光刻機現狀是什么樣的呢?自從2018年以來,我國開始被美國各種手段制裁,光刻機被卡脖子,美國不讓荷蘭賣先進的光刻機給我們,這也讓這些年來無...
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