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首次加入EVU極紫外光刻 臺(tái)積電二代7nm+工藝開始量產(chǎn)

電子工程師 ? 來源:yxw ? 2019-05-28 11:20 ? 次閱讀

臺(tái)積電官方宣布,已經(jīng)開始批量生產(chǎn)7nm N7+工藝,這是臺(tái)積電第一次、也是行業(yè)第一次量產(chǎn)EUV極紫外光刻技術(shù),意義非凡,也領(lǐng)先Intel三星一大步。

臺(tái)積電表示,7nm+ EVU工藝的良品率已經(jīng)提高到和初代7nm同樣的水平,將今年帶動(dòng)7nm工藝芯片的產(chǎn)能顯著提升。

臺(tái)積電預(yù)計(jì)2019年的總產(chǎn)能折合可達(dá)1200萬塊300mm晶圓,其中7nm工藝的會(huì)有100萬塊,比去年猛增150%。

根據(jù)此前消息,***工藝,有望用于Mate 30系列。盡管遭遇美國限令,但是臺(tái)積電方面已經(jīng)明確表示,至少目前不會(huì)停止向華為供貨。

另外,蘋果的A13也已經(jīng)鎖定臺(tái)積電7nm+,今年的新iPhone就靠它了。

臺(tái)積電還透露,正穩(wěn)步推進(jìn)下一代5nm工藝,全面應(yīng)用EUV技術(shù),已經(jīng)開始風(fēng)險(xiǎn)性試產(chǎn),預(yù)計(jì)2020年第一季度量產(chǎn)。

位于***南部科技園的新工廠Fab 18已經(jīng)開始設(shè)備搬遷與安裝,將在明年投產(chǎn)時(shí)直接上馬5nm,并為未來的3nm工藝做好準(zhǔn)備。

另外臺(tái)積電還有個(gè)過渡性質(zhì)的6nm工藝,基于7nm改進(jìn)而來,預(yù)計(jì)2020年第一季度試產(chǎn),非常適合現(xiàn)有7nm工藝用戶直接升級。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
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原文標(biāo)題:首次加入EVU極紫外光刻 臺(tái)積電二代7nm+工藝已量產(chǎn)

文章出處:【微信號(hào):SEMI2025,微信公眾號(hào):半導(dǎo)體前沿】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。

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