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三星平澤2號產線正在進行地下結構工程,決定投資興建平澤半導體廠2號產線

中國半導體論壇 ? 來源:lq ? 2019-02-27 15:57 ? 次閱讀

據韓媒每日經濟報導,三星平澤2號產線正在進行地下結構工程,決定投資興建平澤半導體廠2號產線,欲生產DRAM,預計將在2019年底完工,2020年正式啟用投產。

2018年原廠三星、東芝/西部數據、美光/英特爾、SK海力士等不僅在96層和QLC創新技術上展開激烈競爭,更是在投資、建廠、擴產等方面拉開戰局。然而,由于NAND Flash市場供過于求,價格大跌,影響原廠獲利,為了改變市況,Flash原廠在2018年底不得不采取減少產出,或減緩投資計劃等策略。

不僅僅是NAND Flash,DRAM市場也是供過于求,未來DRAM仍存在較大的市場跌價風險。三星電子總計投資30兆韓元(約267億美元),欲建設全球最大半導體生產基地。目前平澤1-1產線生產NAND Flash,1-2產線生產DRAM。三星擴大DRAM產能,是為了擴大市占率。

另一方面,市場經過一定時間的供需調整,再加上2019年新一代的旗艦機產品紛紛推出,尤其是三星、華為、OPPO、小米等5G手機、折疊手機等引爆市場商機,且搭載的Mobile DRAM容量向12GB升級,NAND Flash容量提高到1TB,將對存儲芯片需求快速增加。

三星曾表示,2019年首季因為處于淡季,需求會有所下滑,但第2季DRAM的庫存調整結束后,預計市場需求就會逐漸恢復,再加上第二季度新CPU的推出,服務器高容量DRAM需求增長穩定,將帶動DRAM需求在Q2增加。

在NAND Flash方面,原廠96層3D NAND技術將單顆Die容量提升到1Tb,2019年NAND Flash供應會持續增加,為了避免再現供過于求的窘境,三星推出的Galaxy S10系列將容量升級到1TB容量,開啟旗艦機配置新標桿,推動市場需求增加。

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原文標題:擴產保市占!傳三星平澤新產線在2020年投產DRAM

文章出處:【微信號:CSF211ic,微信公眾號:中國半導體論壇】歡迎添加關注!文章轉載請注明出處。

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