中國集成電路制造年會近日邀請到了光刻機霸主ASML(阿斯麥)中國區總裁沈波參加,他出面解答了一些媒體關心的話題。
盡管UMC(聯電)和Globalfoundries(格芯)先后宣布放棄7nm制程及更先進工藝的研發,但ASML依然對EUV光刻機的前景表示樂觀。
此前有消息指出,中芯國際(SMIC)今年已向ASML訂購了一臺EUV光刻機,預計明年交付,用于7nm節點。
同時,傳統的沉浸式光刻機方面,沈波稱,今年下半年ASML已開始出貨家族最先進的NXT:2000i,很快會在中國市場上也見到。
另外,媒體早先有報道稱,長江存儲、上海華虹半導體分別向ASML訂購了193納米浸沒式光刻機和193納米雙工件臺沉浸式光刻機NXT:1980Di,分別用于存儲芯片制造、晶圓代工。
據悉,ASML今年第一季度和第二季度的財報顯示,大陸市場的銷售收入占比達到了20%左右,已與美國持平,且超過了***地區。
ASML今年的EUV光刻機產能將達到20臺,明后兩年將逐步提升到40臺。
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