2023年8月30日，由中國光學光電子行業協會液晶分會、日經BP主辦，中國知名電子信息產業咨詢公司CINNO Research戰略合作，以“突破邊界·創變無限”為主題的第三屆“2023國際Mini/MicroLED供應鏈創新發展峰會”在上海成功舉辦。

芯碁微電子裝備股份有限公司副總經理曲魯杰在會上以《AM Mini LED數字背光開啟LCD顯示新章節》為題的演講。

在面板顯示領域，目前主要使用投影光刻和漸進式光刻設備。然而，在2019年，芯碁微電子裝備股份有限公司承接了國家工業項目，在OLED 6代線上開發了直寫光刻設備，并已完成高世代線的研發并進行客戶驗證。

芯碁微電子裝備股份有限公司是一家專注于直寫光刻裝備研發和生產的高科技公司，主要應用于泛半導體和PCB領域。在泛半導體領域，直寫光刻技術競爭激烈，而在面板領域，芯碁微擁有領先優勢，其一直在不斷拓展和應用該技術。他們以直寫光刻為平臺，擴展到各個細分領域，包括芯片制作、生物芯片、3D器件、光電傳感器、光波導、光電封裝等，以及PCB領域的整個生產線。

直寫光刻技術對大多數人來說還是比較陌生，因此曲魯杰首先簡要介紹了該技術。直寫光刻技術與傳統投影光刻技術不同，不需要掩模板，因此具有高速度和高分辨率的優勢。他提到，直寫光刻技術可分為激光直寫和電子直寫，分辨率可達15納米制板。此外，目前還有兩種主要的直寫光刻技術，一種是基于大平面的，另一種是基于傳感器的，如DMD，用于數字掩模的生成。

據了解，直寫光刻設備的組成包括激光系統、DMD、成像系統和專門的調膠系統。通過如多頭、增加曝光容量、提高掃描速度和調制頻率等技術手段，可以有效提高產能，改善直寫光刻設備的生產效率。

曲魯杰隨后詳細解釋了直寫光刻的工作原理，包括數字化過程，圖形的設計和曝光過程。此外他還介紹了傾斜掃描技術，目的是提高分辨率。面對處理大量數據的挑戰，其表示將會采取處理曝光和數據同時進行的方式來應對這一挑戰。

在應用方面，曲魯杰分享了直寫光刻技術在多個領域的案例。首先，芯碁微完成了國家的長期項目，即六代項目。該項目中，應用了直寫光刻技術，實現了1.5微米的分辨率。設備規模巨大，達到1.9×1.5米，重達30噸，用于生產面板顯示設備，采用了國產自主技術和國內生產的平臺。

在OLED領域，芯碁微應用直寫光刻技術于硅基的OLED生產線，為維信諾等公司提供了設備。其分辨率達到了0.7微米，在2018年就已經成功應用；OLED FMM制版設備在六代線上應用，具備1.9×1.5米的規模，能夠實現30微米左右的開窗和5微米的圖形精度，以及總長精度達到15微米。這些設備用于制造金屬掩模板，廣泛應用于OLED生產中。

此外芯碁微還在PCB領域直接制造PD板，為Mini LED和MicroLED等領域提供了廣泛的應用。目前正在研發六代線的大型設備，用于在玻璃基板上進行制造。

據曲魯杰介紹，他們對用于玻璃基制造的設備進行大量測試，尤其是在白油、undercut和開窗方面，該設備能夠實現100微米左右的開窗和正負15微米的圖形精度。同時在PCB基板上進行了黑油方面的測試。在厚膠情況下，他們實現了undercut在50%以內，開窗品質在正負12微米以內。這些結果表明直寫光刻技術對于玻璃基板與PCB基板制造都具有重要作用。

直寫光刻技術在面板顯示領域是具有廣泛應用潛力的，芯碁微在這領域的研發與創新能力讓其處于行業的領先位置。曲魯杰強調：“直寫光刻技術的高分辨率、高效率和多領域適用性將會使其成為當前面板制造業的重要工具。”

審核編輯：湯梓紅