近日，北方華創(chuàng)科技集團(tuán)股份有限公司（以下簡(jiǎn)稱(chēng)“北方華創(chuàng)”）正式發(fā)布應(yīng)用于晶邊刻蝕（Bevel Etch）工藝的 12 英寸等離子體刻蝕機(jī) Accura BE，號(hào)稱(chēng)實(shí)現(xiàn)國(guó)產(chǎn)晶邊干法刻蝕設(shè)備“零”的突破，為我國(guó)先進(jìn)芯片制造量身打造良率提升高效解決方案。

據(jù)介紹，在器件制造過(guò)程中，由于薄膜沉積、光刻、刻蝕和化學(xué)機(jī)械拋光等工藝步驟的大幅增長(zhǎng)，在晶圓的邊緣造成了不可避免的副產(chǎn)物及殘留物堆積，這些晶邊沉積的副產(chǎn)物及殘留物驟增導(dǎo)致的缺陷風(fēng)險(xiǎn)成為產(chǎn)品良率的嚴(yán)重威脅。

因此，越來(lái)越多邏輯及存儲(chǔ)芯片等領(lǐng)域制造商開(kāi)始重點(diǎn)關(guān)注 12 英寸晶圓的邊緣 1mm 區(qū)域，從晶圓的邊緣位置著手提高芯片良率。晶邊刻蝕機(jī)作為業(yè)界提升良率的有力保障，其重要性日益凸顯。

Accura BE 作為首臺(tái)國(guó)產(chǎn) 12 英寸晶邊刻蝕設(shè)備，其技術(shù)性能“已達(dá)業(yè)界主流水平”，附官方宣傳亮點(diǎn)如下：

通過(guò)軟件系統(tǒng)調(diào)度優(yōu)化與特有傳輸平臺(tái)的結(jié)合，可助力客戶實(shí)現(xiàn)較高的產(chǎn)能；

通過(guò)選擇搭配多種刻蝕氣體，實(shí)現(xiàn)對(duì) PR（光刻膠），OX（氧化物），SiN（氮化硅），Carbon（碳），Metal（金屬）等多類(lèi)膜層材料的晶邊刻蝕工藝全覆蓋；

可定制多種尺寸的聚焦環(huán)設(shè)計(jì)組合，實(shí)現(xiàn)對(duì)等離子體刻蝕區(qū)域的精準(zhǔn)位置控制，從而為客戶提供靈活、全面的良率提升方案；

具備軟件智能算法，可實(shí)施可視化的量化調(diào)節(jié)，簡(jiǎn)化維護(hù)流程，提高設(shè)備生產(chǎn)效率。

北方華創(chuàng)表示，Accura BE 剛發(fā)布上市，就已斬獲邏輯及存儲(chǔ)器領(lǐng)域頭部客戶多個(gè)訂單，通過(guò)工藝調(diào)試，進(jìn)入量產(chǎn)階段。