女人自慰AV免费观看内涵网,日韩国产剧情在线观看网址,神马电影网特片网,最新一级电影欧美,在线观看亚洲欧美日韩,黄色视频在线播放免费观看,ABO涨奶期羡澄,第一导航fulione,美女主播操b

0
  • 聊天消息
  • 系統消息
  • 評論與回復
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學習在線課程
  • 觀看技術視頻
  • 寫文章/發帖/加入社區
會員中心
創作中心

完善資料讓更多小伙伴認識你,還能領取20積分哦,立即完善>

3天內不再提示

9.5.11 新型光刻膠材料∈《集成電路產業全書》

深圳市致知行科技有限公司 ? 2022-02-16 09:44 ? 次閱讀

Next Generation Lithography Materials

撰稿人:北京科華微電子材料有限公司 陳昕

審稿人:復旦大學 鄧海

9.5 光掩模和光刻膠材料

第9章 集成電路專用材料

《集成電路產業全書》下冊

d33e769c-8e81-11ec-9d5f-dac502259ad0.jpg

d3485a4a-8e81-11ec-9d5f-dac502259ad0.jpg

d35d11e2-8e81-11ec-9d5f-dac502259ad0.jpg

聲明:本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內容侵權或者其他違規問題,請聯系本站處理。 舉報投訴
  • 集成電路
    +關注

    關注

    5417

    文章

    11942

    瀏覽量

    367011
收藏 人收藏

    評論

    相關推薦
    熱點推薦

    光刻膠剝離液及其制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    引言 在半導體制造與微納加工領域,光刻膠剝離液是光刻膠剝離環節的核心材料,其性能優劣直接影響光刻膠去除效果與基片質量。同時,精準測量光刻圖形
    的頭像 發表于 05-29 09:38 ?27次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離液及其制備方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    光刻膠的類型及特性

    光刻膠類型及特性光刻膠(Photoresist),又稱光致抗蝕劑,是芯片制造中光刻工藝的核心材料。其性能直接影響芯片制造的精度、效率和可靠性。本文介紹了
    的頭像 發表于 04-29 13:59 ?1124次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>的類型及特性

    集成電路為什么要封

    集成電路為什么要封?漢思新材料集成電路為什么要封集成電路
    的頭像 發表于 02-14 10:28 ?412次閱讀
    <b class='flag-5'>集成電路</b>為什么要封<b class='flag-5'>膠</b>?

    光刻膠成為半導體產業的關鍵材料

    光刻膠是半導體制造等領域的一種重要材料,在整個電子元器件加工產業有著舉足輕重的地位。 它主要由感光樹脂、增感劑和溶劑等成分組成。其中,感光樹脂決定了光刻膠的感光度和分辨率等關鍵性能,增
    的頭像 發表于 12-19 13:57 ?801次閱讀

    一文看懂光刻膠的堅膜工藝及物理特性和常見光刻膠

    共讀好書關于常用光刻膠型號也可以查看這篇文章:收藏!常用光刻膠型號資料大全,幾乎包含所有芯片用光刻膠歡迎掃碼添加小編微信掃碼加入知識星球,領取公眾號資料
    的頭像 發表于 11-01 11:08 ?2159次閱讀

    光刻膠的使用過程與原理

    本文介紹了光刻膠的使用過程與原理。
    的頭像 發表于 10-31 15:59 ?1234次閱讀

    掩膜版與光刻膠的功能和作用

    是作為設計圖形的載體,通過光刻過程將掩膜版上的設計圖形轉移到光刻膠上,再經過刻蝕,將圖形刻到襯底上,從而實現圖形到硅片的轉移。掩膜版的精度和質量在很大程度上決定了集成電路最終產品的質量。在制造過程中,掩膜版
    的頭像 發表于 09-06 14:09 ?1470次閱讀

    如何成功的烘烤微流控SU-8光刻膠

    在微流控PDMS芯片加工的過程中,需要使用烘臺或者烤設備對SU-8光刻膠或PDMS聚合物進行烘烤。SU-8光刻膠的烘烤通常需要進行2-3次。本文簡要介紹SU-8
    的頭像 發表于 08-27 15:54 ?645次閱讀

    導致光刻膠變色的原因有哪些?

    存儲時間 正和圖形反轉在存儲數月后會變暗,而且隨著儲存溫度升高而加速。因為該類型光刻膠含有的光活性化合物形成偶氮染料,在 可見光譜的部分具有很強的吸收能力,對紫外靈敏度沒有任何影響。這種變色過程
    的頭像 發表于 07-11 16:07 ?1050次閱讀

    光刻膠涂覆工藝—旋涂

    為了確保光刻工藝的可重復性、可靠性和可接受性,必須在基板表面上均勻涂覆光刻膠光刻膠通常分散在溶劑或水溶液中,是一種高粘度材料。根據工藝要求,有許多工藝可用于涂覆
    的頭像 發表于 07-11 15:46 ?1517次閱讀

    光刻膠的硬烘烤技術

    根據光刻膠的應用工藝,我們可以采用適當的方法對已顯影的光刻膠結構進行處理以提高其化學或物理穩定性。通常我們可以采用烘烤步驟來實現整個光刻膠結構的熱交聯,稱為硬烘烤或者堅膜。或通過低劑量紫外線輻照
    的頭像 發表于 07-10 13:46 ?1618次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>的硬烘烤技術

    光刻膠的一般特性介紹

    評價一款光刻膠是否適合某種應用需要綜合看這款光刻膠的特定性能,這里給出光刻膠一般特性的介紹。 1. 靈敏度 靈敏度(sensitivity)是衡量曝光速度的指標。光刻膠的靈敏度越高,所
    的頭像 發表于 07-10 13:43 ?1260次閱讀

    光刻膠后烘技術

    后烘是指(post exposure bake-PEB)是指在曝光之后的光刻膠膜的烘烤過程。由于光刻膠膜還未顯影,也就是說還未閉合,PEB也可以在高于光刻膠軟化溫度的情況下進行。前面的文章中我們在
    的頭像 發表于 07-09 16:08 ?2227次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>后烘技術

    光刻膠的圖形反轉工藝

    形態。這種方法的主要應用領域是剝離過程,在剝離過程中,底切的形態可以防止沉積的材料光刻膠邊緣和側壁上形成連續薄膜,有助于獲得干凈的剝離光刻膠結構。 在圖像反轉烘烤步驟中,光刻膠的熱穩
    的頭像 發表于 07-09 16:06 ?1175次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>的圖形反轉工藝

    光刻膠的保存和老化失效

    我們在使用光刻膠的時候往往關注的重點是光刻膠的性能,但是有時候我們會忽略光刻膠的保存和壽命問題,其實這個問題應該在我們購買光刻膠前就應該提出并規劃好。并且,在
    的頭像 發表于 07-08 14:57 ?1929次閱讀