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表面粗糙度測(cè)量儀器發(fā)展與展望

中圖儀器 ? 2022-03-21 11:32 ? 次閱讀

近二十年來,精密和超精密加工技術(shù)行業(yè)對(duì)表面質(zhì)量和性能的評(píng)價(jià),提出了越來越高的要求,表面測(cè)量技術(shù)因此由傳統(tǒng)的二維接觸式向三維光學(xué)非接觸式測(cè)量發(fā)展。


1)接觸式測(cè)量

接觸式測(cè)量是從1927年就開始采用的傳統(tǒng)粗糙度測(cè)量方法,其測(cè)量原理是:當(dāng)驅(qū)動(dòng)器帶動(dòng)傳感器沿工件被測(cè)表面作勻速運(yùn)動(dòng)時(shí),傳感器的測(cè)針隨工件表面的微觀起伏作上下運(yùn)動(dòng),測(cè)針的運(yùn)動(dòng)經(jīng)過傳感器轉(zhuǎn)換為電信號(hào)的變化,電信號(hào)的變化再經(jīng)過后期電路的處理和計(jì)算,得到工件表面粗糙度參數(shù)值。

中圖儀器接觸式粗糙度測(cè)量儀器主要有SJ57系列臺(tái)式和SJ325便攜式兩種,可滿足不同客戶測(cè)量需求。

poYBAGGI7KmAJmWCAAFsTzPDYs0346.jpgSJ5701粗糙度輪廓測(cè)量儀

poYBAGGI4siAAHQCAABasQDqcBY019.jpgSJ325便攜式粗糙度儀

粗糙度三維光學(xué)測(cè)量主要有共聚焦顯微測(cè)量和白光干涉測(cè)量兩種。

2)共聚焦顯微鏡方法

共聚焦顯微鏡包括LED光源、旋轉(zhuǎn)多針孔盤、帶有壓電驅(qū)動(dòng)器的物鏡和CCD相機(jī)。LED光源通過多針孔盤(MPD)和物鏡聚焦到樣品表面上,從而反射光。反射光通過MPD的針孔減小到聚焦的部分落在CCD相機(jī)上。傳統(tǒng)光學(xué)顯微鏡的圖像包含清晰和模糊的細(xì)節(jié),但是在共焦圖像中,通過多針孔盤的操作濾除模糊細(xì)節(jié)(未聚焦),只有來自聚焦平面的光到達(dá)CCD相機(jī)。因此,共聚焦顯微鏡能夠在納米范圍內(nèi)獲得高分辨率。每個(gè)共焦圖像是通過樣品的形貌的水平切片,在不同的焦點(diǎn)高度捕獲圖像產(chǎn)生這樣的圖像的堆疊,共焦顯微鏡通過壓電驅(qū)動(dòng)器和物鏡的精確垂直位移來實(shí)現(xiàn)。200到400個(gè)共焦圖像通常在幾秒內(nèi)被捕獲,之后軟件從共焦圖像的堆棧重建精確的三維高度圖像。

3)白光干涉法

白光干涉儀一直被用于測(cè)量表面形狀的高精度工具,可以達(dá)到0.1納米的超高分辨率,用來測(cè)量超高精度3D表面粗糙度,中圖儀器SuperView W1系列已經(jīng)廣泛用于各科研院所、大專院校、光電企業(yè)、半導(dǎo)體芯片企業(yè)中。

pYYBAGGI4siAAc52AACZAS9s7Dc435.jpgSuperView W1白光干涉儀

poYBAGGI7KeAD5ltAADG-Zdaueo712.jpgSuperView W1白光干涉儀應(yīng)用

依賴于十?dāng)?shù)年的技術(shù)沉淀和產(chǎn)品質(zhì)量,中圖儀器將持續(xù)給國內(nèi)外客戶提供更加多樣性的表面粗糙度測(cè)量方案和設(shè)備。

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    <b class='flag-5'>表面</b><b class='flag-5'>粗糙度</b>用什么<b class='flag-5'>儀器</b><b class='flag-5'>測(cè)量</b>?

    噪聲測(cè)量儀器的校準(zhǔn)過程及注意事項(xiàng)

    一、引言 噪聲污染已成為現(xiàn)代社會(huì)中一個(gè)重要的環(huán)境問題,對(duì)人類生活和健康產(chǎn)生著嚴(yán)重影響。為了有效地控制噪聲污染,準(zhǔn)確測(cè)量環(huán)境中的噪聲水平是必要的。 二、噪聲測(cè)量儀器的分類 噪聲測(cè)量儀器主要分為以下幾類
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