編者按
“中國科學院大學集成電路學院是國家首批支持建設的示范性微電子學院。為了提高學生對先進光刻技術的理解,本學期集成電路學院開設了《集成電路先進光刻技術與版圖設計優化》研討課。在授課過程中,除教師系統地講授外,學生還就感興趣的課題做深入調研。師生共同討論調研報告,實現教學互動。調研的內容涉及光刻工藝、光刻成像理論、SMO、OPC和DTCO技術。
考慮到這些內容也是目前業界關注的實用技術,征得教師和學生的同意,本公眾號將陸續展示一些學生的調研結果。這些報告還很初步,甚至有少許謬誤之處,請業界專家批評指正。
以下為報告PPT:
審核編輯 :李倩
-
集成電路
+關注
關注
5423文章
12041瀏覽量
368339 -
光刻
+關注
關注
8文章
346瀏覽量
30684 -
光刻技術
+關注
關注
1文章
151瀏覽量
16194
原文標題:【Study】逆向光刻的原理及其優勢
文章出處:【微信號:光刻人的世界,微信公眾號:光刻人的世界】歡迎添加關注!文章轉載請注明出處。
發布評論請先 登錄
Futurrex高端光刻膠
光刻及資料分享—Optical Lithography
三維逆向工程的成果及應用案例
BIDI單纖雙向光模塊概述
光刻機工藝的原理及設備
什么是單纖雙向光模塊?為什么選擇BiDi光模塊?
國科大《集成電路先進光刻技術與版圖設計優化》課程分享之二:浸沒式光刻工藝缺陷種類、特征及自識別方法
逆向工程及其在CAD軟件中的實現
我們能否用逆向技術來復制荷蘭的光刻機技術
面向光刻的設計規則建立及優化

基于機器學習的逆向光刻技術

正向光耦和反向光耦區別
光刻膠剝離液及其制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

評論