“CINNO Research預(yù)測(cè)，隨著PVD鍍膜技術(shù)應(yīng)用日趨廣泛，下游應(yīng)用領(lǐng)域市場(chǎng)也保持上升趨勢(shì)，中國(guó)大陸PVD鍍膜市場(chǎng)規(guī)模將不斷擴(kuò)張，到2025年國(guó)內(nèi)市場(chǎng)規(guī)模將保持GAGR 13%的增速。”

近年來(lái)功能材料薄膜和復(fù)合薄膜不斷出現(xiàn)多元化方向的需求，鍍膜技術(shù)及薄膜產(chǎn)品在工業(yè)上的應(yīng)用日益廣泛，在電子材料領(lǐng)域中占有極其重要的地位。

這其中，鍍膜方法一般可以分為氣相生成法、氧化法、離子注入法、擴(kuò)散法、電鍍法、涂布法、液相生長(zhǎng)法等，氣相生成法又可以分為物理氣相沉積法、化學(xué)氣相沉積法和原子層沉積法。

物理氣相沉積法也稱PVD鍍膜技術(shù)，包括真空蒸發(fā)、濺射鍍膜和離子鍍等，是基本的薄膜制備技術(shù)，都要求沉積薄膜的空間要有一定的真空度。磁控濺射鍍膜是PVD鍍膜技術(shù)的一種，是近十幾年來(lái)發(fā)展迅速的一種表面薄膜技術(shù)，是最先進(jìn)的表面處理方法之一。

CINNO Research預(yù)測(cè)，隨著PVD鍍膜技術(shù)應(yīng)用日趨廣泛，下游應(yīng)用領(lǐng)域市場(chǎng)也保持上升趨勢(shì)，中國(guó)大陸PVD鍍膜市場(chǎng)規(guī)模將不斷擴(kuò)張，到2025年國(guó)內(nèi)市場(chǎng)規(guī)模將保持GAGR 13%的增速。

圖示：2016-2025年中國(guó)大陸PVD鍍膜市場(chǎng)規(guī)模趨勢(shì)預(yù)測(cè)來(lái)源：CINNO Research

PVD鍍膜技術(shù)優(yōu)勢(shì)諸多

PVD鍍膜技術(shù)的實(shí)質(zhì)就是在真空中進(jìn)行氣相沉積，由于其在制備薄膜方面的特別優(yōu)勢(shì)，已引起越來(lái)越多的重視。PVD鍍膜技術(shù)較傳統(tǒng)的電鍍等工藝方法，在成本、環(huán)保、產(chǎn)品質(zhì)量、裝飾效果、能源消耗等方面均具有較大的優(yōu)勢(shì)，在顯示、觸控、新能源、半導(dǎo)體、汽車等領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用。

其中，磁控濺射鍍膜具有諸多優(yōu)勢(shì)，例如薄膜與基體結(jié)合力好，薄膜致密度較高；濺射范圍廣，可以沉積鉭、鋁、銅、鈦等金屬靶材，也可沉積ITO、AZO等非金屬靶材；能夠?qū)崿F(xiàn)大面積靶材的濺射沉積，且沉積均勻性好。磁控濺射鍍膜技術(shù)可以制備工業(yè)上所需要的超硬薄膜、耐蝕性薄膜、磁性薄膜、超導(dǎo)薄膜以及光學(xué)薄膜等功能性薄膜，發(fā)展前景十分可觀。

磁控濺射鍍膜技術(shù)即利用入射粒子和靶材的碰撞過(guò)程，利用磁場(chǎng)控制輝光放電產(chǎn)生的等離子體來(lái)轟擊出靶材表面的粒子并使其沉積到基體表面，有著“高速低溫”的特點(diǎn)，其沉積速率比其它濺射鍍膜方法要高出一個(gè)數(shù)量級(jí)，拓展了濺射的領(lǐng)域。高速沉積可以降低工作氣體消耗、降低薄膜污染、提高工作效率并改善薄膜的質(zhì)量。另外，磁控濺射技術(shù)可避免高能粒子對(duì)基材的強(qiáng)烈轟擊，不會(huì)引起基材的電子輻射損傷，也充分地體現(xiàn)了其“低溫”濺射的特性。

顯示及觸控產(chǎn)品在PVD鍍膜產(chǎn)業(yè)中占據(jù)主導(dǎo)地位

顯示及觸控產(chǎn)品在PVD鍍膜產(chǎn)業(yè)中占據(jù)主導(dǎo)地位，直接影響上游包括濺射靶材在內(nèi)的PVD鍍膜相關(guān)產(chǎn)業(yè)的成長(zhǎng)。PVD鍍膜技術(shù)在顯示及觸控領(lǐng)域的應(yīng)用主要包括TFT-LCD及AMOLED的薄膜沉積制程、導(dǎo)電膜玻璃、導(dǎo)電薄膜、先進(jìn)顯示以及特種顯示等其他領(lǐng)域。

在顯示產(chǎn)品領(lǐng)域，PVD鍍膜技術(shù)用于在TFT玻璃上濺鍍ITO膜層，再進(jìn)行后續(xù)的曝光、刻蝕等制程后在TFT玻璃上形成設(shè)計(jì)好的ITO電極圖形。PVD鍍膜技術(shù)應(yīng)用在TFT-LCD、AMOLED的TFT薄膜沉積制程，是制備顯示產(chǎn)品的核心工藝。

導(dǎo)電膜玻璃是一種既透明又導(dǎo)電的玻璃，它是在鈉鈣基或硅硼基玻璃的基礎(chǔ)上，采用PVD鍍膜技術(shù)，濺射氧化銦錫(ITO)導(dǎo)電薄膜鍍層并經(jīng)高溫退火處理得到的高技術(shù)產(chǎn)品，廣泛地應(yīng)用于液晶顯示器、觸摸屏、太陽(yáng)能電池、集成電路、特殊功能窗口涂層等領(lǐng)域。

導(dǎo)電薄膜是采用磁控濺射方法，在透明有機(jī)薄膜材料上濺射透明氧化銦錫(ITO)導(dǎo)電薄膜鍍層并經(jīng)高溫退火處理所得，具有高導(dǎo)電率、高可見(jiàn)光透過(guò)率、高機(jī)械硬度和良好的化學(xué)穩(wěn)定性，是液晶顯示器、電致發(fā)光顯示器、觸摸屏、太陽(yáng)能電池以及其他電子儀表的透明電極最常用的薄膜材料。在導(dǎo)電薄膜上濺鍍一層薄銅，更可增加電的傳導(dǎo)性并提升觸控的靈敏性，有利于窄邊框或無(wú)邊框顯示產(chǎn)品的設(shè)計(jì)。

導(dǎo)電膜玻璃及導(dǎo)電薄膜是PVD鍍膜技術(shù)在顯示及觸控領(lǐng)域的代表性應(yīng)用形式，包括Mini/Micro LED在內(nèi)的LED芯片制程中同樣需要PVD技術(shù)的應(yīng)用，尤其是以AR/VR為代表的新型顯示行業(yè)也正在成為PVD鍍膜技術(shù)的重要新興市場(chǎng)，高附加值的新興應(yīng)用領(lǐng)域或?qū)⒊蔀镻VD鍍膜產(chǎn)業(yè)的又一增長(zhǎng)點(diǎn)。

PVD鍍膜技術(shù)還應(yīng)用在電磁屏蔽、AR光學(xué)鍍膜等方向。目前空間電磁環(huán)境日趨復(fù)雜化，為滿足光學(xué)器件屏蔽電磁波的要求，在PET柔性基底上采用磁控濺射法制備金屬網(wǎng)格電磁屏蔽膜。AR鍍膜玻璃又稱增透射玻璃或減反射玻璃，是利用磁控濺射鍍膜技術(shù)在普通的強(qiáng)化玻璃表面鍍上一層減反射膜，有效消減玻璃本身的反射，增強(qiáng)玻璃的透過(guò)率。

受益于各新型顯示技術(shù)的逐步產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用以及5G和IoT驅(qū)動(dòng)下智能家居等市場(chǎng)領(lǐng)域的開(kāi)拓，顯示面板產(chǎn)業(yè)整體出貨面積預(yù)計(jì)仍將保持上升趨勢(shì)，顯示及觸控終端市場(chǎng)出貨面積的正向發(fā)展也將帶動(dòng)上游PVD鍍膜產(chǎn)業(yè)市場(chǎng)規(guī)模的相應(yīng)成長(zhǎng)。

CINNO Research預(yù)測(cè)，到2025年中國(guó)大陸顯示及觸控領(lǐng)域PVD鍍膜市場(chǎng)規(guī)模將保持GAGR 11%的增速。

圖示：2016-2025年中國(guó)大陸顯示及觸控領(lǐng)域PVD鍍膜市場(chǎng)規(guī)模趨勢(shì)預(yù)測(cè)來(lái)源：CINNO Research

審核編輯 ：李倩