我們這一代面臨的最大挑戰是對能源的需求不斷增長。在許多社會變革的推動下,全球人均用電量在過去 30 年中增長了 50%。我們家中的電器越來越多,所以家里的電源插座也越來越多。我們見證了消費技術的蓬勃發展:手機、電腦、筆記本電腦和手表都開始發揮作用。我們看到了以前從未見過的各種尺寸的電機——從玩具到車輛的支撐系統,再到躺椅,再到園藝工具,再到救生帶。當然,我們現在已經進入了電動汽車(EV) 的時代,電動飛機也在開發中。預計這種數字化和電氣化趨勢將繼續并加速。
今天的數據中心使用全球約 1% 的電能。預計到 2030 年,處理、大數據分析、加密貨幣挖掘、流數據、人工智能等將消耗全球 20% 以上的電力需求,其中 7% 的電力將僅用于為數據中心供電。縱觀全局,我們看到傳統燃料即將耗盡——最重要的是,全球變暖。在 2016 年的《巴黎協定》中,各國承諾減少排放,許多國家現已正式承諾到 2050 年實現氣候中和或凈零排放。最近在格拉斯哥舉行的 COP26 峰會上就加強這些目標達成了進一步承諾。
功率半導體制造商已承擔責任,因為我們的產品是碳中和的推動者。作為工程師,我們必須提高電源轉換效率,這需要標準芯片以外的解決方案。
圖 1顯示了硅 FET 和由兩種寬帶隙 (WBG) 材料制成的器件的理論物理極限:碳化硅 (SiC) 和氮化鎵 (GaN)。硅顯然得益于多年的發展,但也有其局限性。對于相對較新的技術,SiC 和 GaN 的性能已經超越了傳統硅的極限,并且只能改進,因此 WBG 在實現未來幾十年的挑戰中發揮重要作用的大門是敞開的。
(來源:Yole Développement,“GaN Power 2021:外延、器件、應用和技術趨勢”,2021 年)
圖 2 顯示了基于 Yole Développement 的 2021 年報告的 GaN 預測增長。市場處于早期階段,但在未來幾年將呈指數級增長,到 2026 年復合年增長率將超過 70%。這是一個很好的指標,表明將需要 WBG 來解決我們的整體電力挑戰:在新應用中使用電力以最負責任的方式。
要評估采用 GaN 作為一項新技術,我們必須考慮四個關鍵點:
性能:WBG 產品的快速開發和采用已經實現了幾年前無法想象的性能水平——事實上,如果沒有 WBG 設備,一些新的項目要求是不可能實現的。然而,仍有大量研究和創新工作要做,尤其是對于 GaN,因為雖然目前的性能水平已經很有吸引力,但還沒有接近其理論性能極限。
成本:硅解決方案具有易于理解和接受的成本/性能水平。相比之下,今天,價格較高的 WBG 設備主要針對性能是關鍵因素的高級應用。然而,GaN 成本將會降低,從而允許 WBG 技術的普及,正如我稍后將展示的那樣。
可用性:這是半導體領域的一個關鍵因素——只有在設備可用且供應安全的情況下,新技術的實施才能變得廣泛。
可靠性:這包括所有其他考慮因素——它適用于產品性能、商業可持續性和可用性保證。所有這些元素都必須可靠。
多種技術選擇
我們已經研究了兩種技術——碳化硅和氮化鎵——但是有大量的技術可供選擇,并且有適合所有技術的空間。每種技術都有自己的最佳點,隨著時間的推移會發生變化,根據性能、成本和可用性之間的權衡來適應不同的應用程序需求。特定應用領域的技術之間的界限將變得模糊,并將隨著技術沿學習曲線的進步而移動。當然,由于數十年的進化改進,目前硅已經廣泛普及。考慮到正在進行的所有研發工作和投資,GaN 將繼續進行。
功率 GaN 已經在許多低功率應用中證明了其價值,有助于實現更緊湊和更高效率的解決方案。Nexperia 正在將 GaN 推向更高的功率水平,提供從 2 kW 一直到 250 kW 的解決方案,并與客戶合作證明在 650 V 時,這些功率水平是可以實現的。這就是可靠性至關重要的地方,因為這些功率水平適合 EV 應用,因此零件必須超出標準質量要求并符合汽車標準。
發展速度非常快。以 GaN 性能為例,在不到兩年的時間里,Nexperia 推出了三代 650-V GaN FET。器件具有經過驗證的高功率轉換效率、出色的開關性能和高功率密度。Nexperia 將這種開關性能與其成熟的銅夾封裝技術相結合,以進一步降低 R DS( on)。
關于可靠性,Nexperia 使用經過驗證的穩健級聯架構。質量測試已經超過了 AEC-Q101 的要求——高出 4 倍——并且其測試失敗程序的測試仍在進行中。
重申一下,作為一個行業,我們正處于功率 GaN 學習周期的開始——我們可以期待顯著且持續的改進。目標應用包括車載充電器、DC/DC 轉換器和牽引逆變器的汽車。在工業領域,光伏逆變器受益于 GaN,對于數據中心、5G 和工業 4.0 中的功率轉換,在需要優質功率轉換以及功率 GaN 具有強大價值主張的關鍵應用領域。最終,即使在被視為“標準”功率轉換設計的情況下,GaN 也會激增。
可擴展性和成本
GaN-on-silicon 主要使用現有基礎設施、現有工藝以及經過驗證和可用的技術制造。Nexperia 使用專有程序處理標準硅基板以結合 GaN。它可以平穩地轉移到 8 英寸,最終轉移到 12 英寸襯底,并且已經在兩個晶圓廠中進行了 GaN 生產。關于組裝和測試,Nexperia 的新一代 650-V GaN FET 使用其銅夾封裝。這是專為具有最佳性能的高功率應用而設計的,并借鑒了近二十年前推出的 Nexperia LFPAK 封裝技術的經驗,該技術現在每年的出貨量超過 10 億件。這使得 GaN 生產本質上具有成本效益并且易于擴大規模。有一條明確的路徑可以支持大容量 WBG 設備的使用。
碳化硅等
Nexperia 正在開發其他相關技術以應對功率半導體市場。它已宣布其首款 SiC 產品,正在開發 IGBT 解決方案,并繼續改進我們行業的主力產品 MOSFET。每個不同客戶應用的最佳解決方案取決于平衡性能、成本和供應。我們面臨的挑戰是負責任地進行創新以滿足世界能源需求,同時實現凈零路線圖。
審核編輯 黃昊宇
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