集成光子制備工藝的研究
摘要
本文主要研究集成光子的制備工藝?；贗II-V半導體的器件， 這項工作涵蓋了一系列III-V材料以及各種各樣的設備。 最初，設計，制造和光學表征研究了鋁砷化鎵波導增強光學非線性相互作用。 基于我們的研究結果，我們提出了一種新型的AlGaAs集成非線性光學波導。波導是集成光子器件中極具吸引力的元件，因為它們控制光線的空間、光譜和色散特性。
集成光子學
光子學，也被稱為光學，是生成的科學和工程，應用光子的控制和檢測; 例如制造業、成像、下一代顯示、國防技術、生物識別安全、傳感、圖像處理、照明、通信、數據存儲、天文學計算等等。
審核編輯：符乾江
聲明：本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人，不代表電子發燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用，如有內容侵權或者其他違規問題，請聯系本站處理。
舉報投訴
-
數據集成
+關注
關注
0文章
55瀏覽量
9336 -
系統集成
+關注
關注
0文章
77瀏覽量
11614
發布評論請先 登錄
相關推薦
熱點推薦
詳解原子層沉積薄膜制備技術
CVD 技術是一種在真空環境中通過襯底表面化學反應來進行薄膜生長的過程，較短的工藝時間以及所制備薄膜的高致密性，使 CVD 技術被越來越多地應用于薄膜封裝工藝中無機阻擋層的制備。
晶圓制備工藝與清洗工藝介紹
晶圓制備是材料科學、熱力學與精密控制的綜合體現，每一環節均凝聚著工程技術的極致追求。而晶圓清洗本質是半導體工業與污染物持續博弈的縮影，每一次工藝革新都在突破物理極限。
深入解析硅基光子芯片制造流程，揭秘科技奇跡！
在信息技術日新月異的今天，硅基光子芯片制造技術正逐漸成為科技領域的研究熱點。作為“21世紀的微電子技術”，硅基光子集成技術不僅融合了電子芯片與光子芯片的優勢，更以其獨特的高
EastWave應用：自動計算光子晶體透反率
本案例使用“自動計算透反率模式”研究光子晶體的透反率，將建立簡單二維光子晶體結構以說明透反率的計算方法。
模型示意圖：
預覽網格劃分效果如下：
觀察到下面的實時場：
記錄得到數據如下：
雙擊
發表于 02-28 08:46
量子計算再進一步！在SiC上實現異質集成量子光源
工藝兼容的碳化硅（4H-SiC）光子芯片異質集成，構建出新型混合微環諧振腔。這一結構實現了單光子源的片上局域能量動態調諧，并通過微腔的Purcell效應提升了
集成光子學的里程碑：大功率可調諧激光器開辟新天地
該設備和潛在應用 研究人員利用 LMA 放大器在硅光子技術上制造出了近 2 瓦的大功率可調諧激光器。這一進展將徹底改變集成光子學，并有可能應用于太空探索，在提高能力的同時降低衛星成本。
集成電路外延片詳解：構成、工藝與應用的全方位剖析
集成電路是現代電子技術的基石，而外延片作為集成電路制造過程中的關鍵材料，其性能和質量直接影響著最終芯片的性能和可靠性。本文將深入探討集成電路外延片的組成、制備
從數據中心到量子計算，光子集成電路引領行業變革
來源：Yole Group 光子集成電路正在通過實現更快的數據傳輸、推進量子計算技術、以及變革醫療行業來徹底改變多個領域。在材料和制造工藝的創新驅動下，光子集成電路有望重新定義光學技術的能力，并在
麻省理工學院對光子集成的量子發射器的光譜特性研究
? 研究領域 量子研究，PL光譜，單光子源，光子集成電路 現階段，光子器件越來越小型化并逐步應用于光子集
什么是光子學？
? 本文概述了光子學，包括其基本原理、關鍵技術、應用和新興趨勢。 一、光子學的基本原理 光子學是一門研究光和其他形式輻射能的學科。它涉及使用光學元件、激光、光纖和電子光學儀器來產生、操
硅晶圓的制備流程
本文從硅片制備流程為切入點，以方便了解和選擇合適的硅晶圓，硅晶圓的制備工藝流程比較復雜，加工工序多而長，所以必須嚴格控制每道工序的加工質量，才能獲得滿足工藝技術要求、質量合格的硅單晶片
中科院微電子所在光子集成激光探感技術方面取得進展
激光雷達(Single Photon LiDAR，SPL)、高精度調頻連續波(Frequency Modulated Continuous Wave，FMCW)激光探測以及片上集成激光雷達等方面開展技術創新與應用拓展工作。 單光子激光探測技術是當前
工商網監
評論