5 月 17 日,據韓國媒體報道,近日韓國產業通商資源部對外公開表示,全球光刻機巨頭阿斯麥(ASML)計劃在韓國建設光刻機設備再制造工廠價及培訓中心,該計劃將于2025年完工。
據了解,ASML未來4年內將在韓國投資2400億韓元(折合13.7億人民幣),在京畿道華城市打造一座光刻機設備再制造廠及培訓中心。所謂的再制造工廠,即通過必要的拆卸、檢修和零部件更換等操作,將廢舊的產品翻新的過程。
簡而言之,ASML希望在韓國建造的是一間翻新工廠,而并非全新光刻機的制造工廠,不過相關人士透露,重新制造出來的產品在性能及質量上與新品相差不大。
這座ASML光刻機翻新工廠的主要作用是為幫助韓國當地運行的EUV光刻機進行維護及升級提供有效助力。目前全球僅有ASML能夠生產EUV光刻機,一年產量僅在30臺左右,并且單臺售價已經高達數億美元。
從EUV保有量來看,臺積電已經獲得了50臺EUV光刻機,而三星也擁有10臺EUV設備。此外,針對這一計劃,韓國方面及京畿道政府已經對ASML進行了相應授權,也對其擴張當地業務提供協助。計劃將在2025年完成,并且將在韓國聘用超過300名的專業人才。
目前在全球半導體供應鏈結構被打破的情況下,韓國也在積極的建設自由半導體產業鏈,將半導體研發稅額抵扣率提升至50%左右,同時斥資4500億美元打造全球最大的芯片制造基地,ASML來韓的計劃,有效幫助韓國更好實現這一目標。
除了ASML以外,美國最大的半導體設備廠泛林半導體也計劃加大隊韓國的投資,有業內報道指出,泛林半導體已經將韓國的生產目標提高了已被,正在尋找新的建廠地址,以便擴充產能。
本文資料來自BusinessKorea、ASML,本文整理發布。
據了解,ASML未來4年內將在韓國投資2400億韓元(折合13.7億人民幣),在京畿道華城市打造一座光刻機設備再制造廠及培訓中心。所謂的再制造工廠,即通過必要的拆卸、檢修和零部件更換等操作,將廢舊的產品翻新的過程。
簡而言之,ASML希望在韓國建造的是一間翻新工廠,而并非全新光刻機的制造工廠,不過相關人士透露,重新制造出來的產品在性能及質量上與新品相差不大。
這座ASML光刻機翻新工廠的主要作用是為幫助韓國當地運行的EUV光刻機進行維護及升級提供有效助力。目前全球僅有ASML能夠生產EUV光刻機,一年產量僅在30臺左右,并且單臺售價已經高達數億美元。
從EUV保有量來看,臺積電已經獲得了50臺EUV光刻機,而三星也擁有10臺EUV設備。此外,針對這一計劃,韓國方面及京畿道政府已經對ASML進行了相應授權,也對其擴張當地業務提供協助。計劃將在2025年完成,并且將在韓國聘用超過300名的專業人才。
目前在全球半導體供應鏈結構被打破的情況下,韓國也在積極的建設自由半導體產業鏈,將半導體研發稅額抵扣率提升至50%左右,同時斥資4500億美元打造全球最大的芯片制造基地,ASML來韓的計劃,有效幫助韓國更好實現這一目標。
除了ASML以外,美國最大的半導體設備廠泛林半導體也計劃加大隊韓國的投資,有業內報道指出,泛林半導體已經將韓國的生產目標提高了已被,正在尋找新的建廠地址,以便擴充產能。
本文資料來自BusinessKorea、ASML,本文整理發布。
聲明:本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內容侵權或者其他違規問題,請聯系本站處理。
舉報投訴
-
韓國
+關注
關注
0文章
57瀏覽量
18886 -
光刻機
+關注
關注
31文章
1163瀏覽量
48043 -
ASML
+關注
關注
7文章
723瀏覽量
42004
發布評論請先 登錄
相關推薦
熱點推薦
光刻機巨頭ASML業績暴雷,芯片迎來新一輪“寒流”?
電子發燒友網報道(文/黃山明)作為芯片制造過程中的核心設備,光刻機決定著芯片工藝的制程。尤其是EUV光刻機已經成為高端芯片(7nm及以下)芯片量產的關鍵,但目前EUV光刻機基本由荷蘭阿
關稅的影響:蘋果成特朗普關稅最大受害者之一 阿斯麥:對美出口光刻機或面臨關稅
2025年美國特朗普政府的“對等關稅”影響究竟有多大?未來還不確定,只有等待時間的檢驗。這里我們看到已經有很多的科技巨頭受損嚴重,比如蘋果公司、光刻機
阿斯麥(ASML)第一季度凈銷售額77.4億歐元 毛利率54.0%
,其中有12億歐元為EUV光刻機的訂單。 對于2025年第二季度的業績展望,阿斯麥CEO表示,人
成都匯陽投資關于光刻機概念大漲,后市迎來機會
【2025年光刻機市場的規模預計為252億美元】 光刻機作為半導體制造過程中價值量和技術壁壘最高的設備之一,其在半導體制造中的重要性不言而喻。 目前,全球市場對
阿斯麥股價飆升11%,Q4訂單遠超預期
近日,半導體制造設備巨頭阿斯麥(ASML)在歐洲市場的股價迎來了大幅上漲,漲幅高達11%。這一強勁表現主要得益于阿
組成光刻機的各個分系統介紹
納米級別的分辨率。本文將詳細介紹光刻機的主要組成部分及其功能。 光源系統 ? 光源系統是光刻機的心臟,負責提供曝光所需的能量。早期的光刻機使用汞燈作為光源,但隨著技術的進步,目前多采用

光刻機的工作原理和分類
,是半導體產業皇冠上的明珠。芯片的加工過程對精度要求極高,光刻機通過一系列復雜的技術手段,將光束透射過畫著線路圖的掩模,經物鏡補償各種光學誤差,將線路圖成比例縮小后映射到硅片上,然后使用化學方法顯影,得到刻在硅片上的電路圖
光刻機巨頭拋出重磅信號 阿斯麥(ASML)股價大幅上漲
在2024年投資者會議上,光刻機巨頭拋出重磅利好;緊接著ASML股價開始大幅拉升;一度上漲超5%。截止收盤上漲2.9%。 阿斯
今日看點丨 2011億元!比亞迪單季營收首次超過特斯拉;三星將于2025年初引進High NA EUV光刻機
1. 三星將于2025 年初引進High NA EUV 光刻機,加快開發1nm 芯片 ? 據報道,三星電子正準備在2025年初引入其首款High NA EUV(極紫外)
發表于 10-31 10:56
?976次閱讀
光刻機巨頭阿斯麥業績爆雷 ASML股價暴跌16.26%創最大的單日跌幅
在當地時間周二,荷蘭光刻機巨頭阿斯麥公布了一份不及預期的第三季度業績報告;訂單量環比下降53%,?業績爆雷第一時間反應到ASML公司的股價暴
光刻巨人去世 阿斯麥(ASML)光刻機巨頭聯合創始人去世
圈內突發噩耗,光刻巨人去世; 阿斯麥(ASML)光刻機巨頭聯合創始人維姆?特羅斯特去世。 據外媒
阿斯麥(ASML)與比利時微電子(IMEC)聯合打造的High-NA EUV光刻實驗室正式啟用
近日,全球領先的半導體制造設備供應商阿斯麥(ASML)與比利時微電子研究中心(IMEC)共同宣布,位于荷蘭費爾德霍芬的High-NAEUV光刻實驗室正式啟用。這一里程碑式的事件標志著雙

阿斯麥和IMEC聯合光刻實驗室啟用
近日,比利時微電子研究中心(IMEC)與全球光刻技術領軍企業阿斯麥(ASML)共同宣布,在荷蘭費爾德霍芬正式啟用聯合High-NA EUV光刻
評論