女人自慰AV免费观看内涵网,日韩国产剧情在线观看网址,神马电影网特片网,最新一级电影欧美,在线观看亚洲欧美日韩,黄色视频在线播放免费观看,ABO涨奶期羡澄,第一导航fulione,美女主播操b

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認識你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

激光刻蝕ITO導(dǎo)電薄膜實現(xiàn)99%的良品率,需要什么技術(shù)基礎(chǔ)

電子設(shè)計 ? 來源: 電子設(shè)計 ? 作者: 電子設(shè)計 ? 2020-12-25 09:40 ? 次閱讀

ITO導(dǎo)電薄膜是一種廣泛應(yīng)用于手機、平板、智能穿戴等移動通訊領(lǐng)域的觸摸屏的生產(chǎn)的高技術(shù)產(chǎn)品。

目前,行業(yè)主要利用激光刻蝕ITO導(dǎo)電薄膜。因為采用的設(shè)備和配件的不同,各個廠家的良品率也不一樣,有的只有70%、80%,有的卻可以達到99%。

激光刻蝕ITO導(dǎo)電薄膜想要實現(xiàn)99%的良品率,需要什么技術(shù)基礎(chǔ)?需要三方面:一、穩(wěn)定的激光器;二、穩(wěn)定的電源;三、穩(wěn)定的激光冷卻系統(tǒng)。下面,聽特域冷水機給您慢慢說來。

一、穩(wěn)定的激光器

眾所周知,紫外激光加工是一種“冷加工”,它波長短、能量集中、分辨率高,熱影響卻很小,因此,紫外激光器成為了ITO導(dǎo)電薄膜激光刻蝕行業(yè)的是主力軍。但是,是不是采用了紫外激光器就能實現(xiàn)99%的良品率了呢?還不夠。還需要激光器穩(wěn)定工作。

光束質(zhì)量和脈沖寬度是評價激光器性能穩(wěn)定的兩個重要的指標(biāo),如光束質(zhì)量M2小于多少,脈沖寬度小于多少,并在所有頻率范圍內(nèi)都嚴格保證,那么就可以認為這套紫外激光加工系統(tǒng)是能夠穩(wěn)定工作的,99%的良品率已經(jīng)實現(xiàn)的一大半。

二、穩(wěn)定的電源

工業(yè)紫外激光器需要通電才能工作,電源控制系統(tǒng)的穩(wěn)定性決定著紫外激光器的性能。有的廠家具備電源研發(fā)技術(shù),通過不斷調(diào)試和改進,研發(fā)出能最大限度發(fā)揮和穩(wěn)定激光器性能的電源控制系統(tǒng)模塊,到這里,99%的良品率已經(jīng)接近于實現(xiàn)。

三、穩(wěn)定的激光冷卻系統(tǒng)

ITO導(dǎo)電薄膜激光刻蝕配套的工業(yè)水冷機,也是影響紫外激光器的一個重要因素。它的重要任務(wù)就是穩(wěn)定制冷,為紫外激光器穩(wěn)定散熱。溫控精度是工業(yè)冷水機的一個重要參數(shù),它是工業(yè)冷水機核心零部件性能、循環(huán)冷卻管路的設(shè)計、溫控模塊等的綜合體驗。如特域S&A公司的紫外激光冷水機,采用進口品牌壓縮機等作為核心零部件,循環(huán)冷卻管路為自主研發(fā)設(shè)計,不斷改進和優(yōu)化,因此,它的溫控精度可達±0.2℃,是一臺真正穩(wěn)定的工業(yè)冷水機。

審核編輯 黃昊宇

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
  • 薄膜
    +關(guān)注

    關(guān)注

    0

    文章

    307

    瀏覽量

    31357
  • 激光
    +關(guān)注

    關(guān)注

    20

    文章

    3418

    瀏覽量

    65773
  • ITO
    ITO
    +關(guān)注

    關(guān)注

    0

    文章

    55

    瀏覽量

    19789
收藏 人收藏

    評論

    相關(guān)推薦
    熱點推薦

    半導(dǎo)體制造關(guān)鍵工藝:濕法刻蝕設(shè)備技術(shù)解析

    刻蝕工藝的核心機理與重要性 刻蝕工藝是半導(dǎo)體圖案化過程中的關(guān)鍵環(huán)節(jié),與光刻機和薄膜沉積設(shè)備并稱為半導(dǎo)體制造的三大核心設(shè)備。刻蝕的主要作用是將
    的頭像 發(fā)表于 04-27 10:42 ?310次閱讀
    半導(dǎo)體制造關(guān)鍵工藝:濕法<b class='flag-5'>刻蝕</b>設(shè)備<b class='flag-5'>技術(shù)</b>解析

    優(yōu)可測白光干涉儀和薄膜厚度測量儀:如何把控ITO薄膜的“黃金參數(shù)”

    ITO薄膜的表面粗糙度與厚度影響著其產(chǎn)品性能與成本控制。優(yōu)可測亞納米級檢測ITO薄膜黃金參數(shù),幫助廠家優(yōu)化產(chǎn)品性能,實現(xiàn)降本增效。
    的頭像 發(fā)表于 04-16 12:03 ?254次閱讀
    優(yōu)可測白光干涉儀和<b class='flag-5'>薄膜</b>厚度測量儀:如何把控<b class='flag-5'>ITO</b><b class='flag-5'>薄膜</b>的“黃金參數(shù)”

    最全最詳盡的半導(dǎo)體制造技術(shù)資料,涵蓋晶圓工藝到后端封測

    ——薄膜制作(Layer)、圖形光刻(Pattern)、刻蝕和摻雜,再到測試封裝,一目了然。 全書共分20章,根據(jù)應(yīng)用于半導(dǎo)體制造的主要技術(shù)分類來安排章節(jié),包括與半導(dǎo)體制造相關(guān)的基礎(chǔ)
    發(fā)表于 04-15 13:52

    【「芯片通識課:一本書讀懂芯片技術(shù)」閱讀體驗】芯片怎樣制造

    光刻工藝、刻蝕工藝 在芯片制造過程中,光刻工藝和刻蝕工藝用于在某個半導(dǎo)體材料或介質(zhì)材料層上,按照光掩膜版上的圖形,“刻制”出材料層的圖形。 首先準(zhǔn)備好硅片和光掩膜版,然后再硅片表面
    發(fā)表于 04-02 15:59

    【「芯片通識課:一本書讀懂芯片技術(shù)」閱讀體驗】了解芯片怎樣制造

    TSMC,中芯國際SMIC 組成:核心:生產(chǎn)線,服務(wù):技術(shù)部門,生產(chǎn)管理部門,動力站(雙路保障),廢水處理站(環(huán)保,循環(huán)利用)等。生產(chǎn)線主要設(shè)備: 外延爐,薄膜設(shè)備,光刻機,蝕刻機,離子注入機,擴散爐
    發(fā)表于 03-27 16:38

    【「大話芯片制造」閱讀體驗】+ 芯片制造過程和生產(chǎn)工藝

    光刻則是在晶圓上“印刷”電路圖案的關(guān)鍵環(huán)節(jié),類似于在晶圓表面繪制半導(dǎo)體制造所需的詳細平面圖。光刻的精細度直接影響到成品芯片的集成度,因此需要借助先進的光刻
    發(fā)表于 12-30 18:15

    半導(dǎo)體濕法和干法刻蝕

    什么是刻蝕刻蝕是指通過物理或化學(xué)方法對材料進行選擇性的去除,從而實現(xiàn)設(shè)計的結(jié)構(gòu)圖形的一種技術(shù)。蝕刻是半導(dǎo)體制造及微納加工工藝中相當(dāng)重要的步驟,自1948年發(fā)明晶體管到現(xiàn)在,在微電子學(xué)
    的頭像 發(fā)表于 12-20 16:03 ?734次閱讀
    半導(dǎo)體濕法和干法<b class='flag-5'>刻蝕</b>

    芯片制造中的濕法刻蝕和干法刻蝕

    ”工藝則是在圖形化掩膜(多為光刻膠)的幫助下,通過各種復(fù)雜的物理和化學(xué)作用將被刻蝕材料層特定位置的材料去除或改性,實現(xiàn)對被刻蝕材料層的精細加工和雕刻。
    的頭像 發(fā)表于 12-16 15:03 ?1100次閱讀
    芯片制造中的濕法<b class='flag-5'>刻蝕</b>和干法<b class='flag-5'>刻蝕</b>

    SiO2薄膜刻蝕機理

    本文介紹了SiO2薄膜刻蝕機理。 干法刻蝕SiO2的化學(xué)方程式怎么寫?刻蝕的過程是怎么樣的?干法刻氧化硅的化學(xué)方程式? 如上圖,以F系氣體刻蝕
    的頭像 發(fā)表于 12-02 10:20 ?1197次閱讀
    SiO2<b class='flag-5'>薄膜</b>的<b class='flag-5'>刻蝕</b>機理

    不同厚度的ITO薄膜光學(xué)和電學(xué)性能對光伏電池的影響

    ITO由于其高透過率和導(dǎo)電性,已廣泛應(yīng)用于太陽能電池領(lǐng)域。ITO薄膜的厚度對其光學(xué)性能有顯著影響,隨著膜厚增加,近紅外區(qū)域的透過率下降,反射率在波長高于1900nm時略有增加。使用「美
    的頭像 發(fā)表于 09-21 08:09 ?1515次閱讀
    不同厚度的<b class='flag-5'>ITO</b><b class='flag-5'>薄膜</b>光學(xué)和電學(xué)性能對光伏電池的影響

    PDMS軟刻蝕技術(shù)的應(yīng)用

    PDMS(聚二甲基硅氧烷)軟刻蝕技術(shù)是一種在高分子科學(xué)中廣泛應(yīng)用的微制造技術(shù)。它能夠簡捷有效、高精度地制備出眾多材料的微結(jié)構(gòu),且技術(shù)成本低廉,不需要
    的頭像 發(fā)表于 09-19 14:38 ?1943次閱讀

    激光微納制造技術(shù)

    微納制造技術(shù)是利用激光的高能量、高聚焦性和高定位精度,通過控制激光束的能量和位置,對材料進行加工、切割、成型等操作的技術(shù)激光微納制造
    的頭像 發(fā)表于 09-13 06:22 ?725次閱讀

    微流控芯片加工中的PDMS軟刻蝕技術(shù)和聚合物成型介紹

    微流控芯片大致可以分為三種類型:PDMS芯片、聚合物芯片(COC、PMMA、PC等)和玻璃芯片。三種不同類型的芯片各有不同的加工方法。本文主要介紹PDMS芯片加工的軟光刻/軟刻蝕技術(shù)(soft
    的頭像 發(fā)表于 08-28 14:42 ?1394次閱讀
    微流控芯片加工中的PDMS軟<b class='flag-5'>刻蝕</b><b class='flag-5'>技術(shù)</b>和聚合物成型介紹

    微流控光刻掩膜制作

    微流控光刻掩膜的制作過程涉及多個步驟,?包括設(shè)計、?制版、?曝光、?顯影、?刻蝕等,?最終形成具有特定圖形結(jié)構(gòu)的掩膜版。? 首先,?設(shè)計階段是制作掩膜版的關(guān)鍵一步。?設(shè)計人員需要使用標(biāo)準(zhǔn)的CAD
    的頭像 發(fā)表于 08-08 14:56 ?568次閱讀

    VCSEL激光在蝕刻和光刻中的應(yīng)用與前景

    VCSEL激光在蝕刻和光刻中應(yīng)用廣泛,提高精度和效率。銀月光科技提供多波長VCSEL激光器,定制化服務(wù),助力工業(yè)生產(chǎn)高效高質(zhì)量。未來,更多種類VCSEL激光器將推動工業(yè)
    的頭像 發(fā)表于 08-01 09:18 ?794次閱讀