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EV Group開(kāi)發(fā)的LITHOSCALE可滿足市場(chǎng)和應(yīng)用的光刻需求

火花 ? 來(lái)源:電子產(chǎn)品世界 ? 作者:火花 ? 2020-09-23 10:26 ? 次閱讀

整合了EV Group的MLE?(無(wú)掩膜曝光)技術(shù)的LITHOSCALE?使多種應(yīng)用和市場(chǎng)得以利用數(shù)字光刻技術(shù)的優(yōu)勢(shì)

2020年9月23日,奧地利,圣弗洛里安——為微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)、納米技術(shù)半導(dǎo)體市場(chǎng)提供晶圓鍵合與光刻設(shè)備的領(lǐng)先供應(yīng)商EV Group(EVG)今天推出LITHOSCALE?無(wú)掩模曝光系統(tǒng),該系統(tǒng)也是首個(gè)采用EV集團(tuán)(EVG)革命性技術(shù)MLE?(無(wú)掩膜曝光)的產(chǎn)品平臺(tái)。EV Group開(kāi)發(fā)的LITHOSCALE旨在滿足多種市場(chǎng)和應(yīng)用的光刻需求,提供高度靈活性,可用于豐富產(chǎn)品種類(lèi),包括先進(jìn)封裝、MEMS、生物醫(yī)學(xué)和集成電路(IC)基板制造。LITHOSCALE具有極高分辨率,且不受照射場(chǎng)限制,強(qiáng)大的數(shù)字處理能力能夠進(jìn)行實(shí)時(shí)數(shù)據(jù)傳輸和即時(shí)曝光,有助于實(shí)現(xiàn)高度可擴(kuò)展的設(shè)計(jì)。LITHOSCAL也因此而成為全球首個(gè)用于大批量生產(chǎn)(HVM)的無(wú)掩模光刻系統(tǒng),生產(chǎn)率與市場(chǎng)上現(xiàn)有的無(wú)掩模曝光系統(tǒng)相比提高了5倍。EV Group已收到多份LITHOSCALE訂單,將于今年晚些時(shí)候開(kāi)始為客戶發(fā)貨。

今年的臺(tái)灣國(guó)際半導(dǎo)體展(SEMICON Taiwan)將于9月23日至25日在臺(tái)北南港展覽館1館(TaiNEX 1)舉行,屆時(shí)EV Group高管將向與會(huì)者介紹LITHOSCALE產(chǎn)品。

EV Group的無(wú)掩模曝光系統(tǒng)LITHOSCALE?為批量生產(chǎn)提供數(shù)字光刻技術(shù)優(yōu)勢(shì)

光刻技術(shù)的新要求

3D集成和異構(gòu)集成對(duì)于實(shí)現(xiàn)半導(dǎo)體器件性能的持續(xù)改進(jìn)發(fā)揮著日益重要的作用。這種趨勢(shì)導(dǎo)致封裝復(fù)雜性和封裝選項(xiàng)的數(shù)量都不斷增加,推動(dòng)了用戶對(duì)設(shè)計(jì)靈活性的需求,要求設(shè)計(jì)方案能夠在后端光刻中同時(shí)采用管芯級(jí)和晶圓級(jí)設(shè)計(jì)。MEMS的產(chǎn)品組合非常復(fù)雜,也給光刻技術(shù)帶來(lái)了挑戰(zhàn),令掩模/光罩的成本水漲船高。在IC基板和生物醫(yī)學(xué)市場(chǎng),用戶需要更靈活的構(gòu)圖功能,以滿足不同功能和基板尺寸的要求。在生物技術(shù)應(yīng)用領(lǐng)域,快速制造原型的能力越來(lái)越重要,靈活的“隨時(shí)可用”型可擴(kuò)展光刻技術(shù)的需求也隨之增加。

基于掩模的傳統(tǒng)光刻解決方案已經(jīng)無(wú)法滿足以上多種應(yīng)用的需求,特別是需要快速完成原型設(shè)計(jì)和新產(chǎn)品測(cè)試的應(yīng)用,以及需要高度定制解決方案的應(yīng)用。這些應(yīng)用都需要完成掩膜的批量生產(chǎn)、測(cè)試和返工,其成本和時(shí)間有可能迅速增加。此外,在先進(jìn)封裝領(lǐng)域,現(xiàn)有的后端光刻系統(tǒng)也面臨著非線性高階基板變形和與芯片移位等問(wèn)題的困擾,特別是在扇出晶圓級(jí)封裝(FOWLP)的晶圓芯片重構(gòu)之后。另一方面,現(xiàn)有的無(wú)掩模光刻技術(shù)也無(wú)法滿足批量生產(chǎn)環(huán)境對(duì)速度、分辨率和易用性的要求。

LITHOSCALE技術(shù)的問(wèn)世,使設(shè)計(jì)靈活性、高可擴(kuò)展性、提高生產(chǎn)率以及降低擁有成本等方面的問(wèn)題迎刃而解。該技術(shù)采用無(wú)掩模方法,無(wú)需使用掩模相關(guān)耗材,可調(diào)諧固態(tài)激光曝光源可實(shí)現(xiàn)高冗余度和穩(wěn)定的長(zhǎng)期使用壽命,且?guī)缀鯚o(wú)需維護(hù),也無(wú)需重新校準(zhǔn)。它具有強(qiáng)大的數(shù)字處理功能,可實(shí)現(xiàn)實(shí)時(shí)數(shù)據(jù)傳輸和即時(shí)曝光,避免了其他無(wú)掩模光刻系統(tǒng)為每一種數(shù)字掩模布局所花費(fèi)的設(shè)置時(shí)間。該系統(tǒng)能夠進(jìn)行單獨(dú)的芯片處理,實(shí)現(xiàn)快速全場(chǎng)定位和動(dòng)態(tài)對(duì)準(zhǔn),為不同尺寸和形狀的基板賦予高可擴(kuò)展性,是一種適用于各種微電子生產(chǎn)應(yīng)用的高度通用型無(wú)掩模光刻平臺(tái)。

LITHOSCALE?采用無(wú)掩模方法,無(wú)需使用掩模相關(guān)耗材,可調(diào)諧固態(tài)激光曝光源可實(shí)現(xiàn)高冗余度和穩(wěn)定的長(zhǎng)期使用壽命,且?guī)缀鯚o(wú)需維護(hù),也無(wú)需重新校準(zhǔn)

EV Group執(zhí)行技術(shù)總監(jiān)Paul Lindner表示:“LITHOSCALE是EV Group的重大成就,它確立了EV集團(tuán)(EVG)在光刻技術(shù)領(lǐng)域的領(lǐng)導(dǎo)地位,也為數(shù)字光刻的新機(jī)遇打開(kāi)了大門(mén)。LITHOSCALE一開(kāi)始就被設(shè)計(jì)為高度靈活的可擴(kuò)展平臺(tái),使批量設(shè)備制造商最終得以利用數(shù)字光刻技術(shù)的優(yōu)勢(shì)。我們的客戶與合作伙伴利用這種技術(shù)進(jìn)行了多項(xiàng)產(chǎn)品演示,表明LITHOSCALE能夠使多種應(yīng)用受益,而且范圍正在不斷擴(kuò)大。”

LITHOSCALE擁有強(qiáng)大的數(shù)字基礎(chǔ)架構(gòu),能夠?qū)崿F(xiàn)實(shí)時(shí)掩膜布局變化(“裝入即執(zhí)行”),可對(duì)整個(gè)基板表面進(jìn)行高分辨率(小于2微米L/S)無(wú)針無(wú)掩模曝光,且不會(huì)影響生產(chǎn)率。該技術(shù)還采用多重曝光頭配置,可實(shí)現(xiàn)高度并行處理,取得最大化生產(chǎn)率。LITHOSCALE能夠?yàn)槌^(guò)當(dāng)前標(biāo)線尺寸的中間層生成無(wú)針圖案,這種功能對(duì)于應(yīng)用在先進(jìn)圖形處理、人工智能(AI)和高性能計(jì)算(HPC)等復(fù)雜布局的先進(jìn)設(shè)備尤為實(shí)用。該系統(tǒng)的高精度與無(wú)失真光學(xué)元件和貼裝精度相匹配,能夠在整個(gè)基板上進(jìn)行無(wú)縫投射。LITHOSCALE還采用動(dòng)態(tài)對(duì)準(zhǔn)模式和具有自動(dòng)聚焦功能的芯片級(jí)補(bǔ)償,能夠適應(yīng)不同的基板材料和表面,同時(shí)保持最佳覆蓋性能。LITHOSCALE適用于各種尺寸和形狀的基板(最大直徑為300毫米的晶片和最大為四分之一面板的矩形基板),以及各類(lèi)基板和抗蝕材料。

EV Group將在臺(tái)灣國(guó)際半導(dǎo)體展(SEMICON Taiwan)上展示LITHOSCALE以及完整的晶圓鍵合、光刻和抗蝕處理套件。有興趣了解詳細(xì)信息的與會(huì)者可以在#L0316展位參觀EV集團(tuán)的展示。

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