慕尼黑 - 相信193納米光刻仍然至少可以在芯片生產(chǎn)中使用一年ASM Lithography今天推出了一款新的KrF 248-nm步進(jìn)掃描工具，該工具經(jīng)過優(yōu)化，可以制造0.13微米設(shè)計(jì)規(guī)則的IC。

新型PAS 5500/750E掃描儀是對ASML的增強(qiáng)功能。深紫外700平臺(tái)，去年推出用于0.15微米芯片生產(chǎn)。根據(jù)AMSL的說法，750E掃描儀使用了Carl Zeiss Jena GmbH最新的DUV鏡頭 - Starlith 750--其數(shù)值孔徑為0.7，目前可用的像差最小。

掃描儀也是荷蘭平版印刷公司今天在慕尼黑舉行的Semicon Europa貿(mào)易展上展示了該系統(tǒng)，該產(chǎn)品具有業(yè)內(nèi)最小的單機(jī)操作小于30納米的覆蓋能力和45納米的匹配機(jī)器覆蓋。

AMSL認(rèn)為半導(dǎo)體制造商現(xiàn)在已經(jīng)達(dá)到了2000年下半年和明年生產(chǎn)新IC需要0.13微米特征尺寸的程度。然而，問題是新的193納米工藝，光罩和光刻膠不可能在那段時(shí)間內(nèi)完全準(zhǔn)備好批量生產(chǎn)。

新的KrF 248-nm掃描儀可以使用成熟的光罩和光刻膠技術(shù)，過去四年一直服務(wù)于現(xiàn)有的DUV光刻技術(shù)。為了將曝光分辨率降至130納米，晶圓廠可以使用相移掩模和光學(xué)鄰近校正（OPC）技術(shù)。

ASML推出其首款A(yù)rF 130-nm掃描儀，即PAS 5500/950，去年用于工藝開發(fā)和早期試生產(chǎn)，但該公司預(yù)計(jì)客戶不會(huì)在明年某個(gè)時(shí)候開始將這些系統(tǒng)轉(zhuǎn)移到批量生產(chǎn)線。 ASML還計(jì)劃在2001年中期推出一款新的批量生產(chǎn)130納米掃描儀，稱為PAS 5500/1100，銷售執(zhí)行副總裁Dave Chavoustie表示。他預(yù)測，130納米掃描儀的批量生產(chǎn)預(yù)計(jì)將于2002年開始。

雖然193納米光刻膠和支持技術(shù)仍在繼續(xù)開發(fā)中，但新型KrF 248掃描儀的目標(biāo)是低于0.15微米的分辨率要求。 5500/750E包括一個(gè)Quasar模塊，可實(shí)現(xiàn)多極照明。它還具有雙重曝光能力。

ASML表示，在50 mJ/cm ² 和46個(gè)曝光場的生產(chǎn)條件下，新掃描儀每小時(shí)可生產(chǎn)120個(gè)8英寸晶圓。

掃描儀的發(fā)貨計(jì)劃于今年第二季度開始。 ASML一直在引用該系統(tǒng)的基本價(jià)格約為860萬美元。