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電子發(fā)燒友網(wǎng)>模擬技術(shù)>山大與南砂晶圓團隊在8英寸SiC襯底位錯缺陷控制方面的突破

山大與南砂晶圓團隊在8英寸SiC襯底位錯缺陷控制方面的突破

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2023-02-02 11:37:35

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代工互相爭奪 誰是霸主

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會漲價嗎

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2020-06-30 09:56:29

凸起封裝工藝技術(shù)簡介

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切割目的是什么?切割機原理是什么?

`切割目的是什么?切割機原理是什么?一.切割目的切割的目的,主要是要將上的每一顆晶粒(Die)加以切割分離。首先要將(Wafer)的背面貼上一層膠帶(Wafer Mount
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制造工藝流程完整版

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制造工藝的流程是什么樣的?

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和摩爾定律有什么關(guān)系?

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和芯片到底是什么呢?九芯語音芯片詳細(xì)為您解答

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處理工程常用術(shù)語

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有什么用

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2020-04-10 16:49:13

的基本原料是什么?

的硅晶粒,提高品質(zhì)與降低成本。所以這代表68、12當(dāng)中,12有較高的產(chǎn)能。當(dāng)然,生產(chǎn)的過程當(dāng)中,良品率是很重要的條件。`
2011-09-07 10:42:07

的結(jié)構(gòu)是什么樣的?

`的結(jié)構(gòu)是什么樣的?1 晶格:制程結(jié)束后,的表面會形成許多格狀物,成為晶格。經(jīng)過切割器切割后成所謂的晶片  2 分割線:面的晶格與晶格之間預(yù)留給切割器所需的空白部分即為分割線  3
2011-12-01 15:30:07

級CSP的錫膏裝配和助焊劑裝配

細(xì)間距的級CSP時,將其當(dāng)做倒裝晶片并采用助焊劑浸蘸的方法進行組裝,以取代傳統(tǒng)的焊膏印刷組裝,如圖2所示,首先將級CSP浸蘸設(shè)定厚度的助焊劑薄膜中,然后貼裝,再回流焊接,最后底部填充(如果有要求)。關(guān)于錫膏裝配和助焊劑裝配的優(yōu)缺點。圖1 工藝流程1——錫膏裝配圖2 工藝流程2——助焊劑裝配
2018-09-06 16:24:04

級CSP裝配回流焊接工藝控制,看完你就懂了

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級CSP裝配工藝的印制電路板焊盤設(shè)計方式

;  ·尺寸和位置精度受阻焊膜窗口的影響,不適合密間距元件的裝配。  NSMD焊盤的尺寸和位置不受阻焊膜窗口的影響,焊盤和阻焊膜之間有一定空隙,如圖2和圖3所示。對于 密間距級CSP,印刷電路板上的焊盤
2018-09-06 16:32:27

表面各部分的名稱

lines,saw lines,streets,avenues):上用來分隔不同芯片之間的街區(qū)。街區(qū)通常是空白的,但有些公司在街區(qū)內(nèi)放置對準(zhǔn)靶,或測試的結(jié)構(gòu)。(3)工程試驗芯片
2020-02-18 13:21:38

針測制程介紹

,擁有備份電路的產(chǎn)品會與其針測時所產(chǎn)生的測試結(jié)果數(shù)據(jù)一同送往雷射修補機中 ,這些數(shù)據(jù)包括不良品的位置,線路的配置等。雷射修補機的控制計算機可依這些數(shù)據(jù),嘗試將中的不良品修復(fù)。 (3)加溫烘烤
2020-05-11 14:35:33

元回收 植球ic回收 回收

`159-5090-3918回收68,12,回收68,12,花籃,Film Fram Cassette,元載具Wafer shipper,二手元盒
2020-07-10 19:52:04

CY7C1370KV25-167AXC的尺寸是多少?

CY7C1370KV25-167AXC的尺寸(英寸)是多少? 以上來自于百度翻譯 以下為原文What is the wafer size(inch) of CY7C1370KV25-167AXC?
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LED 襯底

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的速度較慢,一旦大規(guī)模的商用化對供應(yīng)產(chǎn)能方面會跟不上。劉鑫指出,MACOM的GaN產(chǎn)品用Si做襯底,Wafer可以做的很大,目前6到8英寸,未來可以做到10英寸、12英寸,整個的長度可以拉長至2米
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【誠聘】揚州揚杰電子-六金屬化工藝主管、領(lǐng)班等

【六金屬化工藝主管】崗位職責(zé):1、負(fù)責(zé)減少背金、鍍膜工序的工藝缺陷,改進工藝條件,維護工藝的穩(wěn)定性,提高成品率;2、提出并實現(xiàn)優(yōu)化工藝條件等方法,提高生產(chǎn)效率,保證產(chǎn)能需求;3、協(xié)助設(shè)備工程師
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【轉(zhuǎn)帖】一文讀懂晶體生長和制備

問題。完成的器件中,晶體缺陷會引起有害的電流漏出,可能阻止器件正常電壓下工作。有四類重要的晶體缺陷:1.點缺陷;2.;3.原生缺陷;4.雜質(zhì)。準(zhǔn)備晶體從單晶爐里出來以后,到最終的會經(jīng)
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半導(dǎo)體,必須符合下列錯位密度的要求:高電壓的耐受范圍在0.65~3.3 kV之間,單片的電流大于100 A,而制造良率要在90%(錯位缺陷要低,翹曲度要低)。第三個問題,價格高昂。如今,2英寸
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什么是測試?怎樣進行測試?

4.18)。電測器電源的驅(qū)動下測試電路并記錄下結(jié)果。測試的數(shù)量、順序和類型由計算機程序控制。測試機是自動化的,所以探針電測器與第一片對準(zhǔn)后(人工對準(zhǔn)或使用自動視覺系統(tǒng))的測試工作無須操作員
2011-12-01 13:54:00

什么是級封裝?

`級封裝(WLP)就是在其上已經(jīng)有某些電路微結(jié)構(gòu)(好比古董)的晶片(好比座墊)與另一塊經(jīng)腐蝕帶有空腔的晶片(好比玻璃罩)用化學(xué)鍵結(jié)合在一起。在這些電路微結(jié)構(gòu)體的上面就形成了一個帶有密閉空腔的保護
2011-12-01 13:58:36

什么是半導(dǎo)體

半導(dǎo)體(晶片)的直徑為4到10英寸(10.16到25.4厘米)的圓盤,制造過程中可承載非本征半導(dǎo)體。它們是正(P)型半導(dǎo)體或負(fù)(N)型半導(dǎo)體的臨時形式。硅晶片是非常常見的半導(dǎo)體晶片,因為硅
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關(guān)于的那點事!

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關(guān)于國內(nèi)加工40um到80um的能力

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制造8英寸20周年

安森美半導(dǎo)體全球制造高級副總裁Mark Goranson最近訪問了Mountain Top廠,其8英寸晶圓廠正慶祝制造8英寸20周年。1997年,Mountain Top點開設(shè)了一個新建的8英寸
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影響硅片倒角加工效率的工藝研究

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招聘6/8測試工藝工程師/主管1名工作地點:無錫工資:面議要求:1. 工藝工程師:測試經(jīng)驗3年以上,工藝主管:測試經(jīng)驗5年以上;2. 精通分立器件類產(chǎn)品測試,熟悉IC測試尤佳
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2011-12-01 15:47:14

是什么?硅有區(qū)別嗎?

越大,代表著這座晶圓廠有較好的技術(shù)。另外還有scaling技術(shù)可以將電晶體與導(dǎo)線的尺寸縮小,這兩種方式都可以一片上,制作出更多的硅晶粒,提高品質(zhì)與降低成本。所以這代表68、12當(dāng)中
2011-12-02 14:30:44

硅基GaN產(chǎn)品引領(lǐng)行業(yè)趨勢

不同,MACOM氮化鎵工藝的襯底采用硅基。硅基氮化鎵器件具備了氮化鎵工藝能量密度高、可靠性高等優(yōu)點,Wafer可以做的很大,目前8英寸,未來可以做到10英寸、12英寸,整個的長度可以拉長至2米
2017-08-29 11:21:41

硅基氮化鎵大功率LED的研發(fā)及產(chǎn)業(yè)化

的主流,但藍寶石襯底有散熱的問題,尺寸很難做到8-12,價格也比較貴,P面電流擴展差,對中國的LED產(chǎn)業(yè)發(fā)展也有很多現(xiàn)實的問題。 而硅襯底有一些優(yōu)勢,材料便宜,散熱系數(shù)好;難點就是有很高的缺陷密度
2014-01-24 16:08:55

芯片解密工作者必知的芯片知識詳解

、5英寸、6英寸8英寸等規(guī)格,近來發(fā)展出12英寸甚至更大規(guī)格.越大,同一片上可生產(chǎn)的IC就多,可降低成本;但要求材料技術(shù)和生產(chǎn)技術(shù)更高。  前、后工序:IC制造過程中, 圓光刻的工藝(即所謂
2013-06-26 16:38:00

解析LED激光刻劃技術(shù)

。  激光刻劃使得微裂紋以及微裂紋擴張大大減少, LED單體之間距離更近,這樣既提高了出產(chǎn)效率也提高了產(chǎn)能。一般來講,2英寸可以分離出20,000個以上的LED單體器件,如此高的密度,因而切割
2011-12-01 11:48:46

請問襯底缺陷密度對結(jié)深有什么影響?

請教,襯底缺陷密度對結(jié)深有什么影響
2019-04-26 07:50:15

請問一片到底可以切割出多少的晶片數(shù)目?

這個要根據(jù)die的大小和wafer的大小以及良率來決定的。目前業(yè)界所謂的6,12還是18其實就是直徑的簡稱,只不過這個吋是估算值。實際上的直徑是分為150mm,300mm以及450mm這三種,而12吋約等于305mm,為了稱呼方便所以稱之為12吋
2018-06-13 14:30:58

請問誰有12英寸片的外觀檢測方案嗎?

12英寸片的外觀檢測方案?那類探針臺可以全自動解決12英寸片的外觀缺陷測試? 本人郵箱chenjuhua@sidea.com.cn,謝謝
2019-08-27 05:56:09

集成電路(IC)常用基本概念

集成電路(IC)常用基本概念有:,多指單晶硅片,由普通硅沙拉制提煉而成,是最常用的半導(dǎo)體材料,按其直徑分為4英寸、5英寸、6英寸8英寸等規(guī)格,近來發(fā)展出12英寸甚至更大規(guī)格.越大,同一
2013-01-11 13:52:17

半導(dǎo)體膜厚檢測

外延膜厚測試儀技術(shù)點:1.設(shè)備功能:? 自動膜厚測試機EFEM,搭配客戶OPTM測量頭,完成片自動上料、膜厚檢測、分揀下料;2.工作狀態(tài):? 尺寸8/12 inch;? 圓材
2022-10-27 13:43:41

美國Virtual AV-5000-MW8真空吸筆可調(diào)吸力含8PEEK筆頭

VIRTUAL AV-5000-MW8真空吸筆采用ADJUST-A-VAC? Elite精英型可調(diào)吸力電動泵,可產(chǎn)生10英寸汞柱真空,根據(jù)被吸物體薄厚脆弱程度轉(zhuǎn)動旋鈕調(diào)節(jié)吸力大小避免破碎,能安全
2022-11-22 10:35:05

美國Virtual WVE-9000-MW8吸筆8Wafer硅片拾取轉(zhuǎn)移帶安全操作提示

VIRTUAL WAFER-VAC? ELITE精英型WVE-9000-MW8電動真空吸筆具有條形圖顯示真空度提示安全轉(zhuǎn)移操作,配套VMWT-C 8PEEK吸筆頭,可牢牢抓住Wafer硅片
2022-11-22 10:51:08

測溫系統(tǒng),測溫?zé)犭娕迹?b class="flag-6" style="color: red">晶測溫裝置

 測溫系統(tǒng),測溫?zé)犭娕迹?b class="flag-6" style="color: red">晶測溫裝置一、引言隨著半導(dǎo)體技術(shù)的不斷發(fā)展,制造工藝對溫度控制的要求越來越高。熱電偶作為一種常用的溫度測量設(shè)備,制造中具有重要的應(yīng)用價值。本文
2023-06-30 14:57:40

測溫系統(tǒng)tc wafer表面溫度均勻性測溫

測溫系統(tǒng)tc wafer表面溫度均勻性測溫表面溫度均勻性測試的重要性及方法        半導(dǎo)體制造過程中,的表面溫度均勻性是一個重要的參數(shù)
2023-12-04 11:36:42

無圖幾何形貌測量系統(tǒng)

WD4000無圖幾何形貌測量系統(tǒng)是通過非接觸測量,將的三維形貌進行重建,強大的測量分析軟件穩(wěn)定計算厚度,TTV,BOW、WARP、高效測量測同時有效防止產(chǎn)生劃痕缺陷。可兼容不同材質(zhì)
2024-02-21 13:50:34

WD4000國產(chǎn)幾何形貌量測設(shè)備

WD4000國產(chǎn)幾何形貌量測設(shè)備通過非接觸測量,將的三維形貌進行重建,強大的測量分析軟件穩(wěn)定計算厚度,TTV、BOW、WARP、高效測量測同時有效防止產(chǎn)生劃痕缺陷。可實現(xiàn)砷化鎵
2024-03-15 09:22:08

創(chuàng)新工藝可以消除SiC襯底中的缺陷

日本關(guān)西學(xué)院大學(xué)和豐田通商于3月1日宣布,他們已開發(fā)出“動態(tài)AGE-ing”技術(shù),這是一種表面納米控制工藝技術(shù),可以消除使SiC襯底上的半導(dǎo)體性能變差的缺陷
2021-03-06 10:20:083028

國產(chǎn)8英寸SiC襯底捷報頻出,與海外龍頭差距還有多大?

電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(文/梁浩斌)“碳化硅行業(yè)得襯底者得天下”,襯底作為SiC產(chǎn)業(yè)鏈中成本占比最大的部分,自然是各家必爭之地。在下游需求帶動下,SiC襯底正在從6英寸開始向8英寸推進,更大的襯底尺寸
2022-11-23 07:20:031487

8英寸導(dǎo)電型4H-SiC單晶襯底制備與表征

使用物理氣相傳輸法(PVT)制備出直徑 209 mm 的 4H-SiC 單晶,并通過多線切割、研磨和拋光等一系列加工工藝制備出標(biāo)準(zhǔn) 8 英寸 SiC 單晶襯底。使用拉曼光譜儀、高分辨 X-射線衍射
2022-12-20 11:35:501698

天科合達談八英寸SiC

本實驗通過以自主研發(fā)的由c軸偏向<11-20>方向4°的6英寸4H-SiC襯底作為籽晶和擴徑生長的起始點,采用物理氣相傳輸(physical vapor transport, PVT)法進行擴徑生長獲得直徑放大的SiC單晶。
2023-01-17 14:10:101194

2023年SiC襯底市場將持續(xù)強勁增長

研究機構(gòu)TECHCET日前預(yù)測,盡管全球經(jīng)濟普遍放緩,但2023年SiC襯底市場將持續(xù)強勁增長。
2023-06-08 10:12:34436

如何降低SiC/SiO?界面缺陷

目前,許多企業(yè)在SiC MOSFET的批量化制造生產(chǎn)方面遇到了難題,其中如何降低SiC/SiO?界面缺陷是最令人頭疼的問題。
2023-06-13 16:48:17376

如何在中試線上生產(chǎn)一片8英寸碳化硅襯底

從實際情況上看,目前多數(shù)SiC都采用的4英寸、6英寸晶圓進行生產(chǎn),而6英寸和8英寸的可用面積大約相差1.78倍,這也就意味著8英寸制造將會在很大程度上降低SiC的應(yīng)用成本。但為什么目前市場上主流還是6英寸碳化硅襯底
2023-06-20 15:01:24765

科友半導(dǎo)體突破8英寸SiC量產(chǎn)關(guān)鍵技術(shù)

科友半導(dǎo)體突破了8英寸SiC量產(chǎn)關(guān)鍵技術(shù),在晶體尺寸、厚度、缺陷控制、生長速率、制備成本、及裝備穩(wěn)定性等方面取得可喜成績。2023年4月,科友半導(dǎo)體8英寸SiC中試線正式貫通并進入中試線生產(chǎn),打破了國際在寬禁帶半導(dǎo)體關(guān)鍵材料的限制和封鎖。
2023-06-25 14:47:29342

SiC襯底,產(chǎn)業(yè)瓶頸亟待突破.zip

SiC襯底,產(chǎn)業(yè)瓶頸亟待突破
2023-01-13 09:06:233

2家SiC材料廠完成數(shù)億元新一輪融資

去年7月,超芯星6英寸SiC襯底進入美國一流器件廠商,由此成功打入美國市場;同年,超芯星成功研制出8英寸SiC襯底;今年7月,超芯星在官微宣布,公司已與國內(nèi)知名下游客戶簽訂了8英寸SiC深度戰(zhàn)略合作協(xié)議。為滿足國內(nèi)外市場需求,超芯星計劃將6-8英寸SiC襯底的年產(chǎn)量提升至150萬片。
2023-12-15 17:16:161131

8英寸SiC襯底陣容加速發(fā)展 全球8英寸SiC晶圓廠將達11座

近年來,隨著碳化硅(SiC襯底需求的持續(xù)激增,降低SiC成本的呼聲日益強烈,最終產(chǎn)品價格仍然是消費者的關(guān)鍵決定因素。SiC襯底的成本在整個成本結(jié)構(gòu)中占比最高,達到50%左右。
2024-03-08 14:24:32197

差距縮至2年內(nèi)!國內(nèi)8英寸SiC襯底最新進展

SiC晶圓廠,也意味著8英寸襯底正式拉開量產(chǎn)大幕。 ? 那么8英寸襯底有哪些優(yōu)點以及技術(shù)難點,目前國內(nèi)廠商的進度又如何?近期包括天科合達、爍科晶體等廠商以及產(chǎn)業(yè)人士都分享了一些最新觀點。 ? 8 英寸碳化硅襯底的必要性 ? 正如硅基芯片所用到的
2023-06-22 00:16:002283

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