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      標簽　>　DUV

      DUV

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      duv就是深紫外光，主要是指波長小于i-line365nm的紫外光，一般工業上有193arf和248nmkrf的的激光。用的都是化學增幅型的光刻膠。

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      DUV百科

      　　duv就是深紫外光，主要是指波長小于i-line365nm的紫外光，一般工業上有193arf和248nmkrf的的激光。用的都是化學增幅型的光刻膠。

      　　duv主要利用光的折射原理。其中，浸沒式光刻機會在投影透鏡與晶圓之間，填入去離子水，使得193nm的光波等效至134nm。

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      duv技術

      國產***EUV與DUV的分類

      DUV是深紫外線（Deep Ultraviolet Lithography），EUV是極深紫外線（Extreme Ultraviolet Lithogr...

      2023-03-20 標簽：光刻機EUVDUV 1.3萬 0

      剖析***的種類與原理

      用于集成電路制造的光刻機有兩種：半導體光刻機和光學（光刻）光刻機。下面將分別介紹這兩種光刻機的相關知識。半導體光刻機是根據芯片制造的工藝和設備來劃分的，...

      2023-03-03 標簽：芯片集成電路半導體 8233 0

      DUV與EUV***的芯片加工流程詳解

      DUV與EUV***的芯片加工流程詳解

      SSMB就產生了和FEL類似的“微聚束”，但是關鍵還加上了“穩態”。FEL不是穩態，電子團在波蕩器里自由互相作用，最后發出強光完事。SSMB是讓電子束在...

      2023-09-22 標簽：芯片芯片制造光刻 3673 0

      什么是EUV光刻？EUV與DUV光刻的區別

      EUV 光是指用于微芯片光刻的極紫外光，涉及在微芯片晶圓上涂上感光材料并小心地將其曝光。這會將圖案打印到晶圓上，用于微芯片設計過程中的后續步驟。

      2023-10-30 標簽：芯片設計光刻EUV 3545 0

      半導體行業之ICT技術的工藝流程

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      CMOS集成電路芯片加工技術的幾個主要發展發生在20世紀90年代。

      2023-07-28 標簽：半導體接觸電阻LDD接口 2167 0

      光刻工藝的基本步驟 ***的整體結構圖

      光刻工藝的基本步驟 ***的整體結構圖

      光照條件的設置、掩模版設計以及光刻膠工藝等因素對分辨率的影響都反映在k?因子中，k?因子也常被用于評估光刻工藝的難度，ASML認為其物理極限在0.25，...

      2023-12-18 標簽：集成電路摩爾定律光刻機 1996 0

      淺談不同階段光刻機工作方式

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      在曝光過程中，掩模版與涂覆有光刻膠的硅片直接接觸。接觸式光刻機的縮放比為1:1，分辨率可達到4-5微米。由于掩模和光刻膠膜層反復接觸和分離，隨著曝光次數...

      2024-03-08 標簽：芯片制造光刻光刻機 1875 0

      光刻掩膜版保護膜常見的類型有哪些？

      光刻掩膜版保護膜常見的類型有哪些？

      掩膜版保護膜，mask pellicle，是一種透明的薄膜，在生產中覆蓋在掩膜版的表面。顧名思義，主要對掩膜版起物理與化學保護作用。

      2024-01-04 標簽：光刻EUV芯片制程 1808 0

      深紫外光子滅活技術

      深紫外光子滅活技術

      廈門大學康俊勇教授、尹君副教授課題組根據致病菌中遺傳物質、蛋白質的紫外光吸收特性，開發了一種由275-nm氮化物LED組成的大功率（3.2 W）且輻照均...

      2023-10-17 標簽：ledDUV 1363 0

      芯片制造和傳統IC封裝的生產有何不一樣

      芯片制造和傳統IC封裝的生產有何不一樣

      DUV是深紫外線，EUV是極深紫外線。從制程工藝來看，DUV只能用于生產7nm及以上制程芯片。而只有EUV能滿足7nm晶圓制造，并且還可以向5nm、3n...

      2023-07-10 標簽：集成電路芯片制造光刻機 1128 0

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      duv資訊

      duv光刻機和euv光刻機區別是什么

      目前，光刻機主要分為EUV光刻機和DUV光刻機。DUV是深紫外線，EUV是非常深的紫外線。DUV使用的是極紫外光刻技術，EUV使用的是深紫外光刻技術。E...

      2022-07-10 標簽：光刻機EUVDUV 8.5萬 0

      duv和euv光刻機區別

      DUV已經能滿足絕大多數需求：覆蓋7nm及以上制程需求。DUV和EUV最大的區別在光源方案。duv的光源為準分子激光，光源的波長能達到193納米。

      2022-07-06 標簽：光刻機EUVDUV 6.3萬 0

      造光刻機需要哪些技術？

      造光刻機需要哪些技術？

      沒有任何一個國家的人比中國人更想造出頂級光刻機。網友甚至表示，只要造出光刻機，無論一個人做錯了什么都可以原諒。

      2021-08-26 標簽：光刻機ASMLEUV光刻機 6.2萬 0

      擬推中國特供版DUV？ASML最新回應

      被美國要求限制對華出售半導體設備后，ASML進退兩難。

      2023-07-07 標簽：晶體管ASMLEUV光刻機 5.1萬 0

      ***技術有多難搞？我國***發展現狀

      ***技術有多難搞？我國***發展現狀

      搞光刻機必須要有搞核彈的精神，但只有這種精神是不夠的！光刻機畢竟不是核彈，光刻機從試驗機改良成量產機，需要與產線相結合試驗生產，這些步驟是不可能秘密進行的。

      2023-06-27 標簽：光刻機EUVASML 1.1萬 0

      ASML拒絕美要求禁止對華出售光刻機

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      ASML拒絕美要求禁止對華出售光刻機 荷蘭ASML公司 （全稱： Advanced Semiconductor Material Lithography...

      2022-10-31 標簽：光刻機EUVASML 7510 0

      14nm + 14nm怎么才能達成“比肩”7nm 性能？

      近日，《烏合麒麟撤回道歉，稱3D堆疊就是芯片優化技術》事件在網上引起爭論，今天ASPENCORE記者歐陽洋蔥同學進一步對“ 14nm + 14nm 達成...

      2021-07-02 標簽：芯片cpu光源 6332 0

      ASML警告美國：對中國斷供DUV光刻機半導體供應鏈將中斷，真是如此嗎？

      電子發燒友網報道（文/吳子鵬）近日，針對全球半導體產業廣泛關注的美國施壓ASML斷供中國DUV光刻機一事，ASML首席執行官（CEO）溫彼得正式回應稱，...

      2022-07-25 標簽：光刻機ASMLDUV 4515 0

      俄羅斯預計2028年生產7nm工藝制造的光刻機

      光刻機譽為“現代半導體行業皇冠上的明珠”，是一種高度復雜的設備。光刻機是通過紫外光作為“畫筆”，把預先設計好的芯片電路路線書寫在硅晶圓旋涂的光刻膠上，光...

      2022-10-27 標簽：光刻機7nmDUV 4468 0

      荷蘭出新規！ASML部分DUV***將禁運，國產半導體設備發展別無選擇

      荷蘭出新規！ASML部分DUV***將禁運，國產半導體設備發展別無選擇

      電子發燒友網報道（文/吳子鵬）日前，有外媒報道稱，荷蘭貿易部部長最近在致荷蘭議會的一封信中宣布，基于國家安全考慮，荷蘭政府將在夏天之前對其芯片出口實施新...

      2023-03-13 標簽：光刻機ASMLDUV 3771 0

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