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標(biāo)簽 > 單晶
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工作簡(jiǎn)介 ????上海微系統(tǒng)所異質(zhì)集成XOI課題組基于自主研制的高單晶質(zhì)量6英寸LiNbO3/SiC壓電異質(zhì)晶圓,開發(fā)了國(guó)際上首款基于單晶壓電薄膜異質(zhì)集...
由于GaN在高溫生長(zhǎng)時(shí)N的離解壓很高,很難得到大尺寸的GaN單晶材料,因此,為了實(shí)現(xiàn)低成本、高效、高功率的GaN HEMTs器件,研究人員經(jīng)過(guò)幾十年的不...
基于AlN單晶襯底的AlGaN溝道型MOSHFET最新進(jìn)展
近期,美國(guó)南卡羅來(lái)納大學(xué)報(bào)道了在AlN單晶襯底上通過(guò)MOCVD生長(zhǎng)的Al0.87Ga0.13N/Al0.64Ga0.36N金屬氧化物半導(dǎo)體異質(zhì)結(jié)場(chǎng)效應(yīng)晶...
外延工藝是指在襯底上生長(zhǎng)完全排列有序的單晶體層的工藝。一般來(lái)講,外延工藝是在單晶襯底上生長(zhǎng)一層與原襯底相同晶格取向的晶體層。外延工藝廣泛用于半導(dǎo)體制造,...
碳化硅單晶襯底加工技術(shù)現(xiàn)狀及發(fā)展趨勢(shì)
摘 要: 碳化硅單晶具有極高的硬度和脆性,傳統(tǒng)加工方式已經(jīng)不能有效地獲得具有超高光滑表面的碳化硅晶片。針對(duì)碳化硅單晶襯底加工技術(shù),本文綜述了碳化硅單晶切...
使用物理氣相傳輸法(PVT)制備出直徑 209 mm 的 4H-SiC 單晶,并通過(guò)多線切割、研磨和拋光等一系列加工工藝制備出標(biāo)準(zhǔn) 8 英寸 SiC 單...
單晶LiNi0.6Co0.2Mn0.2O2正極材料為單晶NCM正極構(gòu)建穩(wěn)定結(jié)構(gòu)和界面
單晶LiNi0.6Co0.2Mn0.2O2正極材料因其高放電容量和良好的電化學(xué)性能而受到廣泛關(guān)注,然而,單晶材料在高壓下循環(huán)會(huì)發(fā)生嚴(yán)重的晶格畸變和電極/...
在2.8?4.6 V電壓窗口中,PC-NCM811 在循環(huán)過(guò)程中表現(xiàn)出嚴(yán)重的容量衰減,在電流密度為0.5 C時(shí),100和200次循環(huán)后的容量保持率分別僅...
半導(dǎo)體制造中需要的單晶(單晶)是原子的規(guī)則排列。有多晶(許多小的單晶)和非晶硅(無(wú)序結(jié)構(gòu))。根據(jù)晶格的取向,硅片具有不同的表面結(jié)構(gòu),從而影響電荷載流子遷...
引言 氧化鋅是最廣泛研究的纖鋅礦半導(dǎo)體之一。氧化鋅不僅作為單晶,而且以多晶薄膜的形式。其顯著的性能,如寬直接帶隙3.37 eV,大結(jié)合強(qiáng)度內(nèi)聚能1.89...
近年來(lái)全球硅晶圓供給不足,導(dǎo)致8英寸、12英寸硅晶圓訂單能見度分別已達(dá)2019上半年和年底。目前國(guó)內(nèi)多個(gè)硅晶圓項(xiàng)目已經(jīng)開始籌備,期望有朝一日能夠打破進(jìn)口...
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