刻蝕工藝

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刻蝕工藝技術(shù)

深反應(yīng)離子刻蝕工藝，是實(shí)現(xiàn)高深寬比特性的重要方式，已成為微加工技術(shù)的基石。這項(xiàng)刻蝕技術(shù)在眾多領(lǐng)域均得到了應(yīng)用：1)MEMS電容式慣性傳感器；2) 宏觀設(shè)...

2020-10-09 標(biāo)簽：刻蝕工藝 1.6萬 0

半導(dǎo)體八大工藝之刻蝕工藝：干法刻蝕

在干法蝕刻中，氣體受高頻（主要為 13.56 MHz 或 2.45 GHz）激發(fā)。在 1 到 100 Pa 的壓力下，其平均自由程為幾毫米到幾厘米。

2023-06-20 標(biāo)簽：半導(dǎo)體晶圓蝕刻 1.4萬 0

晶圓級封裝工藝：濺射工藝和電鍍工藝

濺射是一種在晶圓表面形成金屬薄膜的物理氣相沉積(PVD)6工藝。如果晶圓上形成的金屬薄膜低于倒片封裝中的凸點(diǎn)，則被稱為凸點(diǎn)下金屬層(UBM，Under ...

2023-10-20 標(biāo)簽：半導(dǎo)體晶圓封裝工藝 1.2萬 0

半導(dǎo)體制造之刻蝕工藝詳解

單晶硅刻蝕用來形成相鄰晶體管間的絕緣區(qū)，多晶硅刻蝕用于形成柵極和局部連線。

2023-02-13 標(biāo)簽：多晶硅半導(dǎo)體晶體管 1.1萬 0

半導(dǎo)體制造技術(shù)之刻蝕工藝

W刻蝕工藝中使用SF6作為主刻步氣體，并通過加入N2以增加對光刻膠的選擇比，加入O2減少碳沉積。在W回刻工藝中分為兩步，第一步是快速均勻地刻掉大部分W，...

2023-12-06 標(biāo)簽：半導(dǎo)體制造技術(shù)刻蝕工藝 9926 0

刻蝕工藝主要分為哪幾種類型刻蝕的目的是什么？

PVP可以在刻蝕過程中形成一層保護(hù)性的膜，降低刻蝕劑對所需刻蝕材料的腐蝕作用。它可以填充材料表面的裂縫、孔洞和微小空隙，并防止刻蝕劑侵入。這樣可以減少不...

2023-08-17 標(biāo)簽：芯片封裝半導(dǎo)體器件刻蝕 7515 0

半導(dǎo)體制造工藝最強(qiáng)科普

半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中，制造工工程被稱為工藝（Process），理由是什么？雖然沒有明確的答案，但與其說加工尺寸微小（目前是nm制程），不如說制造過程無法用肉眼看到所致。

2023-02-21 標(biāo)簽：半導(dǎo)體晶圓制造工藝 5144 0

玻璃通孔工藝(TGV)簡介

硅基轉(zhuǎn)接板2.5 D集成技術(shù)作為先進(jìn)的系統(tǒng)集成技術(shù)，近年來得到迅猛的發(fā)展。但硅基轉(zhuǎn)接板存在兩個的主要問題。

2023-05-06 標(biāo)簽：半導(dǎo)體嵌入式濾波器 4964 0

多晶硅蝕刻工藝講解

下圖顯示了Intel的第6代晶體管（6T）SRAM尺寸縮小時間表，以及多晶硅柵刻蝕技術(shù)后從90nm到22nm技術(shù)節(jié)點(diǎn)6TSRAM單元的SEM圖像俯視視圖...

2023-04-03 標(biāo)簽：多晶硅 MOSFET sram 4793 0

半導(dǎo)體行業(yè)之刻蝕工藝

等離子體圖形化刻蝕過程中，刻蝕圖形將影響刻蝕速率和刻蝕輪廓，稱為負(fù)載效應(yīng)。負(fù)載效應(yīng)有兩種:宏觀負(fù)載效應(yīng)和微觀負(fù)載效應(yīng)。

2023-02-08 標(biāo)簽：半導(dǎo)體晶圓刻蝕 4505 0

刻蝕工藝帖子

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干法刻蝕工藝介紹立即下載

類別：IC datasheet pdf 2022-06-13 標(biāo)簽：IC制造刻蝕工藝 1514 0

光刻與刻蝕工藝重要性及要求立即下載

類別：IC中文資料 2015-07-14 標(biāo)簽：光刻刻蝕工藝 1105 0

刻蝕工藝資訊

上腔室窗口溫度對STI刻蝕工藝的影響

本文在淺溝槽隔離刻蝕過程中發(fā)現(xiàn)，當(dāng)刻蝕腔室上石英窗口的溫度超過85℃時，刻蝕終止出現(xiàn)在300mm晶圓的中心。我們認(rèn)為刻蝕終止的原因是由于某些低揮發(fā)SiO...

2012-05-04 標(biāo)簽：STI 刻蝕工藝 3659 0

一種簡單的原沸石晶種合成單晶分級ZSM-5沸石

原沸石是非結(jié)晶的，如粉末 X 射線衍射 (XRD) 圖案所示。掃描電子顯微鏡 (SEM) 和透射電子顯微鏡 (TEM) 圖像顯示，原沸石是大小約為5-2...

2022-08-17 標(biāo)簽：單晶催化劑刻蝕工藝 2943 0

泛林集團(tuán)推開創(chuàng)性的選擇性刻蝕解決方案加速實(shí)現(xiàn)3D

通過與客戶、技術(shù)專家和產(chǎn)品團(tuán)隊(duì)的合作，他們已經(jīng)在選擇性刻蝕創(chuàng)新方面實(shí)現(xiàn)突破，這將使世界領(lǐng)先的芯片制造商得以提供下一代3D邏輯和存儲設(shè)備。

2022-03-22 標(biāo)簽：刻蝕刻蝕工藝泛林集團(tuán) 2400 0

中國研發(fā)團(tuán)隊(duì)在SOT-MRAM取得重要進(jìn)展

據(jù)“中科院微電子研究所”消息，為了更好地解決SOT-MRAM的刻蝕技術(shù)難題以實(shí)現(xiàn)SOT-MTJ的高密度片上集成，同時研究不同的刻蝕工藝對器件磁電特性的影...

2023-03-10 標(biāo)簽：集成電路半導(dǎo)體刻蝕工藝 1296 0

關(guān)于光刻膠溶解過程中表面粗糙度的變化研究報(bào)告

摘要圖案圖像中納米級粗糙度的最小化已成為微處理器生產(chǎn)中光刻過程的優(yōu)先事項(xiàng)。為了探究表面粗糙度的分子基礎(chǔ)，通過將臨界電離模型應(yīng)用于聚合物基體的三維分子晶...

2022-01-25 標(biāo)簽：刻蝕工藝光刻蝕 1105 0

濕法刻蝕步驟有哪些

說到濕法刻蝕了，這個是專業(yè)的技術(shù)。我們也得用專業(yè)的內(nèi)容才能給大家講解。聽到這個工藝的話，最專業(yè)的一定就是講述濕法刻蝕步驟。你知道其中都有哪些步驟嗎？如果...

2024-12-13 標(biāo)簽：刻蝕設(shè)備刻蝕工藝刻蝕機(jī) 786 0

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東軟集團(tuán)是中國領(lǐng)先的IT解決方案與服務(wù)供應(yīng)商，是上市企業(yè)，股票代碼600718。公司成立于1991年，前身為東北大學(xué)下屬的沈陽東大開發(fā)軟件系統(tǒng)股份有限公司和沈陽東大阿爾派軟件有限公司。
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OLED（Organic Light-Emitting Diode），全稱“有機(jī)發(fā)光二極管”，是一種顯示屏幕技術(shù)。采用OLED技術(shù)制造的OLED電視，已經(jīng)不再需要LCD液晶面板，RGB色彩信號直接由OLED二極管顯示，幾乎已經(jīng)不存在液晶的可視角度問題。

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