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標簽 > 光刻
光刻是平面型晶體管和集成電路生產中的一個主要工藝。是對半導體晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)進行開孔,以便進行雜質的定域擴散的一種加工技術。
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八億時空:光刻膠樹脂量產產能不斷提升 預計明年將會貢獻一定營收
該公司目前集中開發krf光刻樹脂及其衍生物,分為負離子聚合的狹窄分布樹脂和包括三重聚合物在內的自由基聚合的廣泛分布樹脂。現在下游客戶對這兩個地區都有需求...
隨著美國對中國半導體行業實施更嚴格的限制措施,中國的芯片制造廠商成為了不可忽視的受益者。根據外媒報道,中國頂尖的芯片代工廠為了加速自主科技發展,已經開始...
半導體芯科技編譯 來源:Silicon Semiconductor eBeam Initiative已完成第12屆年度eBeam Initiative杰...
圣彼得堡彼得大帝理工大學(SPbPU)的專家表示,他們已經成功開發了兩套用于生產微電子納米結構的裝置,這將有助于解決俄羅斯在微電子領域的技術主權問題。這...
從技術發展的角度看,芯片線寬越來越小,各種光學效應、系統誤差和工藝條件偏差等變得越來越精細。計算光刻可以通過算法建模、仿真計算、數據分析和結果優化等手段...
這個復合體由兩種設施組成。第一個裝置是為“無掩模納米光刻”設計的,可以在沒有口罩的情況下將圖像投射到基板上。第二種設備位于第一種設備制造的基板圖案上,利...
據介紹,目前蘇大維格正在重點擴大微納米光學技術/產品。國家文件和證明書中的防偽材料、電子紙張和反射式液晶電光材料、ar/mr和ar-hud衍射材料、透明...
應對先進工藝碳排放挑戰,Imec開發晶圓廠可持續發展評估模型
隨著技術的發展,與ic制造相關的排放量也增加了,特別是光刻和蝕刻能耗較大,例如n3工程中光刻工序產生的二氧化碳排放量約占45%。imec的工程師們半導體...
上海光機所成立科研五部,聚焦強激光系統、精密光刻系統等重大需求
邵建達說:科研單位大部門制改革是上海機械適應新時代新要求的必然選擇。他提出了三個要求:第一,各級人民檢察院要以國家需要和人民法院黨組會議精神搶占客戶科技...
據本文介紹,錫液滴發生器是激光等離子型極紫外線(lpp-euv)光刻光源中最重要的核心部件之一。錫液滴目標具有高反復頻率,小直徑和穩定性好的特性。這篇論...
據上海證券交易所上市審查委員會公告,艾森股票將于8月14日在科創股票市場上市。艾森股份有限公司從事電子化學品的研究,開發,生產和銷售。電子電鍍、光刻2個...
集成電路自發明以來,經過20世紀 60年代和70 年代的發展,逐步形成了集成電路產業。1965年,仙童公司的戈登 ?摩爾(Cordon E. Moore...
電子發燒友網報道(文/周凱揚)在上游的半導體制造產業中,除了光刻機等設備外,光刻膠、掩膜版等材料也是決定晶圓質量與良率的關鍵因素。就拿掩膜版來說,這個承...
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