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標簽 > 光刻
光刻是平面型晶體管和集成電路生產中的一個主要工藝。是對半導體晶片表面的掩蔽物（如二氧化硅）進行開孔，以便進行雜質的定域擴散的一種加工技術。
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引言 在半導體制造和微納加工領域，光刻膠剝離是光刻工藝的重要環節。水平式光刻膠剝離工藝憑借其獨特優勢在工業生產中占據一席之地，而準確測量光刻圖形對保障工...
引言 在半導體制造與微納加工領域，光刻膠剝離液是光刻膠剝離環節的核心材料，其性能優劣直接影響光刻膠去除效果與基片質量。同時，精準測量光刻圖形對把控工藝質...
納米壓印制備硅基 OLED 微型顯示器的方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量
引言 硅基 OLED 微型顯示器憑借高分辨率、高對比度等優勢，在虛擬現實、增強現實等領域應用廣泛。納米壓印技術為其制備提供了新方向，而精確測量光刻圖形是...
Micro OLED 陽極像素定義層制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量
? 引言 ? Micro OLED 作為新型顯示技術，在微型顯示領域極具潛力。其中，陽極像素定義層的制備直接影響器件性能與顯示效果，而光刻圖形的精準測量...
圖1.拼接曝光加工系統 衍射光柵廣泛應用于精密測量、激光脈沖壓縮、光譜分析等領域。干涉光刻作為一種無掩膜曝光光刻方法，在衍射光柵加工制造方面具有高效率、...
國產突破！初創企業用塑料碼盤代替精密光柵？破解光柵編碼器光刻工藝"卡脖子"難題
? 在機器人的運行過程中，編碼器發揮著重要作用。機器人的位置測量、速度測量、方向判斷以及閉環控制等基礎性工作，均離不開編碼器。作為機器人實現精準運動控制...
掩膜版作為微納加工技術中光刻工藝所使用的圖形母版，在IC、平版顯示器、印刷電路版、微機電系統等領域具有廣泛的應用。隨著信息技術和智能制造的快速發展，特別...
掩膜版（Photomask），又稱光罩，是芯片制造光刻工藝所使用的線路圖形母版。它如同照相過程中的底片，承載著將電路圖形轉印到晶圓上的重要使命。掩膜版主...
? EUV光刻有多強？目前來看，沒有EUV光刻，業界就無法制造7nm制程以下的芯片。EUV光刻機也是歷史上最復雜、最昂貴的機器之一。 EUV光刻有哪些瓶...
正性光刻對掩膜版的要求主要包括以下幾個方面： 基板材料：掩膜版的基板材料需要具有良好的透光性、穩定性以及表面平整度。石英是常用的基板材料，因為它具有較低...
光刻技術對芯片制造至關重要，但傳統紫外光刻受衍射限制，摩爾定律面臨挑戰。為突破瓶頸，下一代光刻（NGL）技術應運而生。本文將介紹納米壓印技術（NIL）的...
? 受人工智能和超連接性普及的推動，預計半導體行業規模將在未來十年內翻一番。然而，盡管微芯片（從智能手機到救命醫療設備等一切產品的基礎）的需求量空前高漲...
匯集多種優勢特征于一體的平行紫外光源是半導體芯片制造中實現高精度、超準確曝光效果的關鍵。對比矩陣式LED光源，友思特ALE光源的光刻曝光效果展示出了優異的性能。
在正性光刻過程中，掩膜版（Photomask）作為圖形轉移的關鍵工具，其性能直接影響到最終圖形的精確度和質量。以下是正性光刻對掩膜版的主要要求： 圖案準...
? 圖像轉移，也稱為光刻技術（或簡稱光刻），在PCB的電路圖形方面發揮關鍵作用。它能實現復雜和精確的連接，以支持在更小的區域實現更多連接。隨著對更高密度...
光刻掩膜（也稱為光罩）和模具在微納加工技術中都起著重要的作用，但它們的功能和應用有所不同。 光刻掩膜版 光刻掩膜版是微納加工技術中常用的光刻工藝所使用的...
想必大家都有所了解，光刻機對芯片制造的重要性，而光掩膜版又稱光罩，光掩膜等； 光掩膜版是由制造商通過光刻制版工藝將電路圖刻制于基板上制作而成，主要作用體...
2024-10-09 標簽：光刻 912 0
光刻掩膜版的制作是一個復雜且精密的過程，涉及到多個步驟和技術。以下是小編整理的光刻掩膜版制作流程： 1. 設計與準備 在開始制作光刻掩膜版之前，首先需要...
光刻掩模是光的一種掩蔽模片，其作用有類似于照相的通過它，可以使它“底下“的光劑部分成光，難溶于有機藥品，一部分不感光，易溶于有機藥品，以而制得選擇擴散所...
大家都知道掩膜版主要由基板、遮光層和保護膜組成，其中基板（主要采用玻璃基材，包括石英 和蘇打兩種材質）占直接原材料成本比重達90%。 那么什么是掩膜版保...
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