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標(biāo)簽 > 光刻膠
光刻膠(Photoresist)又稱光致抗蝕劑,是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射,其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。
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為提高八億時空公司整體發(fā)展水平,為公司未來各項(xiàng)業(yè)務(wù)的發(fā)展打下基礎(chǔ)。目前,公司正在集中進(jìn)行4項(xiàng)建設(shè),分別為:北京年度100噸顯示液晶材料第二期工程、上海波...
來源:全球半導(dǎo)體觀察 編輯:感知芯視界 近日,半導(dǎo)體行業(yè)又一批項(xiàng)目迎來最新進(jìn)展,范圍涉及車規(guī)級模塊、功率器件、半導(dǎo)體設(shè)備零部件、半導(dǎo)體材料等。 瑞能車規(guī)...
昇印光電完成超億元融資,開發(fā)原理級創(chuàng)新技術(shù):嵌入式納米印刷
當(dāng)談到該創(chuàng)新工藝時,不可避免地要與傳統(tǒng)的光刻工藝體系進(jìn)行對比。光刻工藝體系是一種減法工藝:首先要在襯底表面沉積一層材料,例如銅;然后在材料層表面涂布一層...
Accura BE作為國產(chǎn)首臺12英寸晶邊刻蝕設(shè)備,其技術(shù)性能已達(dá)到業(yè)界主流水平。” Accura BE通過軟件系統(tǒng)調(diào)度優(yōu)化和特有傳輸平臺的結(jié)合,可以提...
2023-07-19 標(biāo)簽:芯片制造軟件系統(tǒng)光刻膠 2109 0
陶氏化學(xué)工廠爆炸 牽動半導(dǎo)體關(guān)鍵耗材生產(chǎn)
陶氏化學(xué)公司是粘合劑,輔助劑等在內(nèi)的多種材料提供的高純度化學(xué)產(chǎn)品生產(chǎn)線的半導(dǎo)體核心化學(xué)材料的主要供應(yīng)商,也供應(yīng)全球重要的CMP材料包括拋光墊、拋光液等。
今日看點(diǎn)丨消息稱臺積電 3nm 工藝 A17 Bionic、M3 良率僅 55%;光刻膠供應(yīng)商陶氏化學(xué)美國Plaquemine工廠爆炸
1. 消息稱臺積電 3nm 工藝 A17 Bionic 、M3 良率僅 55% ,蘋果只付合格品費(fèi)用 ? 據(jù)報(bào)道,蘋果公司為了生產(chǎn) A17 Bionic...
光刻膠供應(yīng)商陶氏化學(xué)美國Plaquemine工廠爆炸
就此次事件,陶氏化學(xué)發(fā)表聲明稱,該工廠于7月14日發(fā)生火災(zāi),就此次事件,正在與當(dāng)?shù)丶爸輽C(jī)構(gòu)密切合作。所有人員都被判定為安全,空氣檢查中沒有檢測出空氣中的...
國產(chǎn)半導(dǎo)體材料 邊補(bǔ)短板邊“掘金”
根據(jù)SEMI數(shù)據(jù)顯示,2022年全球半導(dǎo)體材料市場年增長率為8.9%,營收達(dá)727億美元,超越2021年創(chuàng)下668億美元的市場最高紀(jì)錄。
JSR收購交易是日本加速增強(qiáng)其芯片產(chǎn)業(yè)競爭力的標(biāo)志性事件之一。從1980年代末至今,日本所占據(jù)的全球半導(dǎo)體市場份額從50%下降至10%左右。事實(shí)上,在過...
64億美元!日光刻膠龍頭被高溢價私有化 背后閃現(xiàn)政府身影
總體而言,材料堪稱是半導(dǎo)體制造的基石,其貫穿了半導(dǎo)體整個生產(chǎn)流程。根據(jù)SEMI數(shù)據(jù)顯示,2015-2021年全球半導(dǎo)體材料市場年均增速為6.8%,201...
2023-06-27 標(biāo)簽:芯片物聯(lián)網(wǎng)光刻膠 608 0
外媒24日報(bào)道說,得到日本政府支援的jic正在討論以1萬億日元收購用于半導(dǎo)體制造的光合作用樹脂企業(yè)jsr的方案。jic計(jì)劃最早在今年提出預(yù)備收購意向。j...
2023-06-27 標(biāo)簽:半導(dǎo)體制造光刻膠jic 1304 0
來源:集微網(wǎng)、芯榜,謝謝 編輯:感知芯視界 6月25日消息,據(jù)日媒報(bào)道,日本半導(dǎo)體設(shè)備制造商 JSR 昨日表示,該公司正在考慮一項(xiàng)由國家支持的日本產(chǎn)業(yè)革...
2023-06-26 標(biāo)簽:光刻膠 954 0
為了完成這次收購,JIC計(jì)劃成立一家新公司,并籌集5000億日元(35億美元)的資金。瑞穗銀行將提供4000億日元的融資,其余的1000億日元則預(yù)計(jì)通過...
2023-06-25 標(biāo)簽:光刻膠 1285 0
9.5.14 光刻膠配套試劑∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》
Ancillaries撰稿人:北京科華微電子材料有限公司陳昕http://www.kempur.com審稿人:復(fù)旦大學(xué)鄧海https://www.fud...
2022-02-20 標(biāo)簽:光刻膠 462 0
9.5.10 極紫外光刻膠∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》
點(diǎn)擊上方藍(lán)字關(guān)注我們EUVPhotoresist撰稿人:北京科華微電子材料有限公司陳昕http://www.kempur.com審稿人:復(fù)旦大學(xué)鄧海ht...
?關(guān)鍵詞:膠粘劑(膠水,接著剤、黏結(jié)劑、粘接劑),膠接工藝膠接是通過具有黏附能力的物質(zhì),把同種或不同種材料牢固地連接在起的方法。具有黏附能力的物質(zhì)稱為膠...
2022-01-06 標(biāo)簽:光刻膠 4908 0
9.5.7 光刻膠∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》
Photoresist撰稿人:北京科華微電子材料有限公司陳昕審稿人:復(fù)旦大學(xué)鄧海9.5光掩模和光刻膠材料第9章集成電路專用材料《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》下冊?...
9.5.9 KrF和ArF深紫外光刻膠∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》
DUVPhotoresistforKrFandArF撰稿人:北京科華微電子材料有限公司陳昕http://www.kempur.com審稿人:復(fù)旦大學(xué)鄧海...
2022-02-14 標(biāo)簽:光刻膠 613 0
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